光譜膜厚儀的磁感應測量原理主要基于磁通和磁阻的變化來測定覆層厚度。當光譜膜厚儀的測頭接近被測物體時，測頭會發出磁場，這個磁場會經過非鐵磁覆層流入鐵磁基體。在這個過程中，磁通的大小會受到覆層厚度的影響。覆層越厚，磁通越小，因為磁場需要穿透更厚的非鐵磁材料才能到達鐵磁基體。同時，光譜膜厚儀還會測定對應的磁阻大小。磁阻是表示磁場在材料中傳播時所遇到的阻礙程度的物理量。覆層越厚，磁阻也會越大，因為磁場在穿透非鐵磁材料時會受到更多的阻礙。因此，通過測量磁通和磁阻的大小，光譜膜厚儀就能夠準確地確定覆層的厚度。這種測量原理使得光譜膜厚儀能夠廣泛應用于各種磁性金屬表面的非磁性涂鍍層厚度的檢測，如鐵鍍鋅、鐵鍍鋁、鐵鍍銀等。同時，它也可以用于檢測非磁性金屬表面的非導電涂層厚度，如陽極氧化膜、油漆、涂料等。總的來說，光譜膜厚儀的磁感應測量原理是一種基于磁場特性的非接觸式測量方法，具有測量準確、操作簡便等優點，為各種材料表面涂層厚度的檢測提供了有效的手段。