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光譜膜厚儀的原理是什么?
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  • 光譜膜厚儀的原理主要基于光的干涉現象。當光線垂直入射到薄膜表面時,薄膜會對光線的反射和透射產生干涉,形成多重反射和透射波。這些波的相位差與薄膜的厚度密切相關。光譜膜厚儀通過測量這些多重反射和透射波之間的相位差,進而準確地計算出薄膜的厚度。具體來說,光譜膜厚儀的測量過程涉及反射光譜法和透射光譜法兩種方法。在反射光譜法中,儀器首先測量表面的反射光譜曲線,然后根據反射光的干涉現象計算薄膜的厚度。而在透射光譜法中,儀器則利用薄膜對光的透過率和相位變化的特性來測量膜的厚度。透過膜片后的光譜會被記錄下來,通過進一步的分析處理,得到薄膜的厚度信息。值得一提的是,光的干涉現象是一種物理現象,當若干列光波在空間相遇時,它們會互相疊加或互相抵消,導致光強的重新分布。在薄膜干涉中,薄膜上下表面反射的光波會相互干擾,產生光的干涉現象,進而增強或減弱反射光。這種干涉現象正是光譜膜厚儀進行薄膜厚度測量的基礎。總之,光譜膜厚儀通過利用光的干涉原理,結合反射光譜法和透射光譜法兩種測量方法,實現對薄膜厚度的精確測量。這種儀器在材料科學、光學工程等領域具有廣泛的應用價值。
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