光刻膠膜厚儀的磁感應測量原理主要基于磁通量的變化來測定光刻膠膜的厚度。具體來說，這種測量原理利用了從測頭經過非鐵磁覆層（即光刻膠膜）而流入鐵磁基體的磁通的大小來確定覆層的厚度。在實際測量過程中，測頭靠近被測物體表面，產生一個磁場。當測頭接觸到光刻膠膜時，磁場的一部分會穿過非鐵磁性的光刻膠膜，進入下方的鐵磁基體。由于光刻膠膜的厚度不同，磁通量的大小也會有所變化。通過精確測量磁通量的大小，就可以推算出光刻膠膜的厚度。此外，磁感應測量原理還可以測定與之對應的磁阻的大小，這也可以用來表示覆層的厚度。磁阻是磁場在物質中傳播時遇到的阻力，它與物質的性質以及磁場的強度有關。因此，通過測量磁阻的大小，也可以間接地得到光刻膠膜的厚度信息。這種磁感應測量原理具有非接觸、高精度、快速測量等優點，因此被廣泛應用于光刻膠膜厚度的測量中。同時，隨著技術的不斷發展，光刻膠膜厚儀的測量精度和穩定性也在不斷提高，為半導體制造等領域的發展提供了有力支持。總的來說，光刻膠膜厚儀的磁感應測量原理是一種基于磁通量變化來測定光刻膠膜厚度的有效方法，具有廣泛的應用前景。