光學鍍膜膜厚儀的測量原理主要基于光學干涉現象。當光源發射出的光線照射到鍍膜表面時，一部分光線被反射，而另一部分則穿透薄膜并可能經過多層反射后再透出。這些反射和透射的光線之間會產生干涉效應。具體來說，膜厚儀通常會將光源發出的光分成兩束，一束作為參考光，另一束則作為測試光照射到待測薄膜上。參考光和測試光在薄膜表面或附近相遇時，由于光程差的存在，會發生干涉現象。干涉的結果會導致光強的變化，這種變化與薄膜的厚度密切相關。膜厚儀通過精確測量這種干涉光強的變化，并結合薄膜的光學特性（如折射率、吸收率等），可以推導出薄膜的厚度信息。此外，膜厚儀還可以利用不同的測量方法，如反射法或透射法，來適應不同類型的材料和薄膜，從而提高測量的準確性和可靠性。總之，光學鍍膜膜厚儀通過利用光學干涉原理，結合精密的測量技術，能夠實現對薄膜厚度的非接觸、無損傷測量，為薄膜制備和應用領域提供了重要的技術支持。