膜厚儀的測量原理主要基于磁感應和電渦流原理。對于磁感應原理的膜厚儀，其測量過程是通過測頭將磁場引入被測物體。當測頭靠近被測物體時，磁場會經過非鐵磁覆層并流入鐵磁基體。覆層的厚度與磁通量的大小和磁阻的變化密切相關。具體來說，覆層越厚，磁阻越大，磁通量越小。通過測量磁通量或磁阻的大小，膜厚儀能夠準確地確定覆層的厚度。這種測量方式主要適用于鋼鐵等導磁基體上的非導磁覆層厚度的測量，如油漆層、瓷、搪瓷防護層等。而電渦流原理的膜厚儀則是利用高頻交流信號在測頭線圈中產生電磁場。當測頭靠近導電基體時，會在其中形成渦流。渦流的大小與測頭離導電基體的距離成反比，即距離越近，渦流越大，反射阻抗也越大。這種反饋作用量可以用來表征測頭與導電基體之間距離的大小，即導電基體上非導電覆層的厚度。因此，通過測量反射阻抗或渦流的大小，電渦流膜厚儀能夠實現對非鐵磁金屬基材上的覆層厚度的測量。總的來說，膜厚儀的測量原理基于磁感應和電渦流原理，通過測量磁通量、磁阻、渦流或反射阻抗等參數，實現對不同基材上覆層厚度的精確測量。這些原理各有特點和適用范圍，在實際應用中可以根據被測物體的材料和結構特點選擇合適的測量原理和方法。