光學干涉膜厚測試儀的測量原理主要基于光學干涉現象。當光線照射到薄膜表面時，一部分光線被反射，另一部分則穿透薄膜并在內部經過多次反射和透射。這些反射和透射的光線在薄膜的上下表面之間形成干涉，產生特定的干涉光強分布。干涉光強的變化與薄膜的厚度、折射率以及入射光的波長和角度等因素密切相關。光學干涉膜厚測試儀通過精確測量這些干涉光強的變化，并利用相關算法和數據處理技術，能夠準確地推導出薄膜的厚度信息。在實際應用中，光學干涉膜厚測試儀通常采用光源、分束器、反射鏡、檢測器?茸榧鉤傘９庠捶⒊齙墓庀呔質骱笮緯閃絞蚨嗍喔曬猓廡┫喔曬餼囟ǖ墓飴飛杓疲蠱湟蘊囟ǖ慕嵌群頭絞秸丈淶醬獗∧ど稀Ｋ婧螅瓷浠乩吹母繕婀獗患觳餛鶻郵眨⒆縲藕漚寫硨頭治觥?/p>通過對比測量得到的干涉光強分布與理論模型或標準樣品的數據，可以計算出薄膜的實際厚度。這種測量方法具有非接觸、高精度和快速測量等優點，因?嗽誑蒲小⑸橢柿靠刂頻攘煊虻玫?了廣?河?用。綜上所述，光學干涉膜厚測試儀的測量原理是基于光學干涉現象，通過精確測量干涉光強的變化來推導出薄膜的厚度信息。這種測量原理使得光學干涉膜厚測試儀成為一種高效、準確的薄膜厚度測量工具。