光譜干涉膜厚測試儀使用的是光譜干涉測量原理來測定薄膜的厚度。其工作基礎主要依賴于光的干涉現象，這是一種當兩列或多列光波在空間相遇時，由于疊加而導致光強重新分布的物理現象。在光譜干涉膜厚測試儀中，當一束光通過薄膜時，會發生干涉現象。薄膜的上下表面反射的光波會相互干擾，產生干涉條紋。這些干涉條紋的數量和寬度與薄膜的厚度有著密切的關系。通過精確測量干涉條紋的特征，如數量、寬度和分布等，可以推算出薄膜的厚度。此外，光譜干涉膜厚測試儀還利用了光的波動特性。若干列光波在空?湎嚶鍪保綣塹鈉德氏嗤⒄穸較螄嗤蟻轡徊詈愣ǎ敲此薔突嵯嗷サ踴虻窒緯擅靼迪嗉淶母繕嫣蹺啤Ｕ庵指繕嫘вξず癲飭刻峁┝絲贍堋?/p>總的來說，光譜干涉膜厚測試儀通過利用光的干涉原理和波動特性，實現了對薄膜厚度的精確測量。這種測量方法具有非接觸、高精度、快速響應等優點，因此在材料科學、薄膜技術、光學工程等領域得到了廣泛?撓τ謾?/p>