二氧化硅膜厚測試儀主要采用的是光學干涉測量原理。具體來說，當單色光垂直照射到二氧化硅膜層表面時，光波會在膜的表面以及膜與基底的界面處發生反射。這些反射光波之間會產生干涉現象，即光波疊加時，其強度會增強或減弱，取決于光波的相位差。在測量過程中，當兩束反射光的光程差是半波長的偶數倍時，會出現亮條紋；而當光程差是半波長的奇數倍時，則會出現暗條紋。膜厚儀會記錄這些干涉條紋的數量，并結合入射光的波長和二氧化硅的折射系數，利用光的干涉公式來計算得到二氧化硅膜的厚度。此外，二氧?枘ず癲饈砸塹牟飭烤群芨擼蛭繕嬉鞘怯霉獠ǖ牟ǔのノ煥床獾霉獬灘畹模勻魏撾⑿〉墓獬灘畋浠薊岷芰槊艫匾鷥繕嫣蹺頻鈉啤Ｕ庵制瓶梢員瘓凡飭浚傭迪侄遠躉枘ず穸鵲木凡飭俊?/p>綜上所述，二氧化硅膜厚測試儀通過利用光學干涉測量原理，能夠實現對二氧化硅膜厚度的精確、快速測量，為相關領域的科研和工業生產提供了重要的技術支?幀?/p>