AR膜膜厚測試儀主要采用了光學干涉現象作為測量原理。具體來說，當一束特定頻率的光波照射到AR膜表面時，一部分光波會被反射，而另一部分則會透射進入膜層內部。由于AR膜是一種具有特殊光學性能的薄膜材料，光波在膜的表面和底部之間會發生多次反射和透射，進而形成一系列的光波干涉。

膜厚測試儀通過精確測量這些反射光和透射光的相位差和強度變化，來推算出AR膜的厚度。這些光波的相位和強度會因為膜層厚度的不同而有所差異。因此，膜厚測試儀可以基于這些差異，利用光學干涉的原理，精確地測量出AR膜的厚度。

除了光學干涉測量原理，AR膜膜厚測試儀可能還結合了其他先進的測量技術，以確保測量的準確性和可靠性。例如，一些高級的膜厚測試儀可能采用磁感應測量原理，通過測量磁場在AR膜中的變化來推算膜層厚度。

總的來說，AR膜膜厚測試儀通過利用光學干涉現象以及其他可能的測量技術，能夠實現對AR膜厚度的精確測量。這種測量原理不僅適用于AR膜，還可能廣泛應用于其他類型的薄膜材料厚度測量中。在實際應用中，膜厚測試儀的準確性和穩定性對于確保產品質量和性能至關重要。