近(jin)年，隨(sui)著圖像(xiang)質量的(de)提(ti)高(gao)，色(se)粉直(zhi)徑(jing)(jing)也越(yue)來越(yue)小。在(zai)(zai)微孔(kong)孔(kong)徑(jing)(jing)較(jiao)大的(de)發(fa)泡輥(gun)筒(tong)中，純銀零部件(jian)(jian)誰家好，色(se)粉進入輥(gun)筒(tong)的(de)微孔(kong)內不易去除，所以存在(zai)(zai)圖像(xiang)混亂的(de)問題。因此，對于使(shi)用(yong)(yong)微細色(se)粉的(de)高(gao)畫質復印(yin)機和(he)打印(yin)機用(yong)(yong)輥(gun)筒(tong)，特(te)別(bie)是色(se)粉供給輥(gun)，要(yao)求更細的(de)微孔(kong)。在(zai)(zai)制(zhi)造發(fa)泡輥(gun)筒(tong)時，與間歇式方法(fa)相比，連續(xu)硫(liu)化處理(li)法(fa)的(de)優點是能夠(gou)使(shi)發(fa)泡微孔(kong)的(de)直(zhi)徑(jing)(jing)更小。以往的(de)導(dao)電(dian)輥(gun)使(shi)用(yong)(yong)了不會因其中的(de)導(dao)電(dian)性填充(chong)劑的(de)不均勻(yun)而導(dao)致電(dian)阻值不均勻(yun)的(de)離(li)子導(dao)電(dian)性橡膠，純銀零部件(jian)(jian)報價，但是問題在(zai)(zai)于很難采用(yong)(yong)經濟上及效率上都有利的(de)連續(xu)硫(liu)化法(fa)進行制(zhi)造。

磁控濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)種(zhong)類：金屬濺(jian)(jian)射(she)(she)鍍(du)膜(mo)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，合(he)金濺(jian)(jian)射(she)(she)鍍(du)膜(mo)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，純銀零(ling)部件(jian)加工，陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)鍍(du)膜(mo)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，硼化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，碳(tan)化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，氟(fu)化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，氮化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，氧(yang)化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，硒化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，硅(gui)化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，硫化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，碲化(hua)物(wu)(wu)(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，其他陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)，摻鉻一氧(yang)化(hua)硅(gui)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)（Cr-SiO），磷化(hua)銦靶(ba)(ba)材(cai)(cai)（InP），海南純銀零(ling)部件(jian)，鉛靶(ba)(ba)材(cai)(cai)（PbAs），銦靶(ba)(ba)材(cai)(cai)（InAs）。

對圓周(zhou)方向的電阻值(zhi)的不均勻依然無(wu)法改善。

此(ci)外，采用連續硫(liu)化(hua)法時(shi)，如果硫(liu)化(hua)時(shi)的(de)熱傳遞沒有設(she)法盡量(liang)達到均勻，則擠壓后(hou)的(de)硫(liu)化(hua)速(su)度不一(yi)致，這樣可能電(dian)阻值的(de)不均勻程度反而大于間歇式(shi)硫(liu)化(hua)法。特別(bie)是在(zai)圓周方向上這種傾向更顯著。

采用連續硫化法時，在擠壓(ya)機的(de)(de)擠壓(ya)筒(tong)內的(de)(de)半徑方向上(shang)有非常大(da)的(de)(de)剪切速度分布，這可能會影響電子導電性填(tian)充劑的(de)(de)分散。