x射線發生裝置(zhi)-涂(tu)層應用(yong)

現(xian)代生活的每個環節(jie)都得益于(yu)涂層或薄膜(mo)技(ji)術。無論(lun)是(shi)集成(cheng)電路芯(xin)片上(shang)的阻(zu)擋層薄膜(mo)還是(shi)鋁制飲(yin)料罐(guan)上(shang)的涂層，X射線是(shi)研發，產(chan)品過程(cheng)控(kong)制和不(bu)可缺少(shao)的分析技(ji)術。作為納米技(ji)術研究，X射線衍(yan)射(XRD)和附屬技(ji)術被用于(yu)確定薄膜(mo)分子(zi)結構的性質。理學的技(ji)術和經驗(yan)為涂層和薄膜(mo)測量提供(gong)各種無損分析解決方(fang)案。

x射線(xian)發生裝置角度校準的(de)光學新方法

目前x射(she)線(xian)發生(sheng)裝置(zhi)的角(jiao)(jiao)度(du)(du)檢定(ding)(ding)和(he)(he)校準(zhun)測(ce)試(shi)(shi)主要依據(ju)JJG 629—1989《多(duo)晶X射(she)線(xian)衍(yan)射(she)儀檢定(ding)(ding)規程》和(he)(he)JB/T 9400—2010《X射(she)線(xian)衍(yan)射(she)儀技術條件(jian)(jian)》等(deng)(deng)(deng)技術文件(jian)(jian)，具體(ti)(ti)方(fang)法(fa)是采用光(guang)學經(jing)緯(wei)儀或多(duo)面棱體(ti)(ti)等(deng)(deng)(deng)進(jin)行測(ce)試(shi)(shi)，該(gai)測(ce)量方(fang)法(fa)實(shi)(shi)際應用中(zhong)存(cun)在一(yi)定(ding)(ding)難度(du)(du)，其(qi)次測(ce)量間隔較大，不能(neng)很好反映真實(shi)(shi)的角(jiao)(jiao)度(du)(du)誤(wu)差(cha)規律.為此，提出(chu)了利用θ角(jiao)(jiao)和(he)(he)2θ角(jiao)(jiao)同(tong)軸并(bing)可(ke)獨(du)立運動的特(te)點(dian)，組(zu)合采用光(guang)電(dian)自(zi)準(zhun)直儀和(he)(he)小角(jiao)(jiao)度(du)(du)激光(guang)干涉儀等(deng)(deng)(deng)儀器，設(she)計(ji)了一(yi)種新(xin)的XRD的角(jiao)(jiao)度(du)(du)校準(zhun)方(fang)法(fa)，它能(neng)夠(gou)自(zi)動快速地(di)連續測(ce)量角(jiao)(jiao)度(du)(du)，中(zhong)能(neng)x射(she)線(xian)發生(sheng)裝置(zhi)，取k=2時，擴展不確定(ding)(ding)度(du)(du)約1.2″.使(shi)用該(gai)方(fang)法(fa)測(ce)試(shi)(shi)能(neng)夠(gou)得到θ和(he)(he)2θ軸的誤(wu)差(cha)數(shu)據(ju)，可(ke)用于修(xiu)正XRD測(ce)角(jiao)(jiao)誤(wu)差(cha)，中(zhong)能(neng)x射(she)線(xian)發生(sheng)裝置(zhi)價格，提高XRD測(ce)試(shi)(shi)精度(du)(du).該(gai)方(fang)法(fa)也適用于同(tong)步輻射(she)等(deng)(deng)(deng)大型(xing)衍(yan)射(she)系統等(deng)(deng)(deng)其(qi)他需要角(jiao)(jiao)度(du)(du)校準(zhun)的情況.

x射線發(fa)生裝置解決哪些(xie)問題？

（1）當材料由多種結晶(jing)成分組成，需區(qu)分各成分所占(zhan)比例，可使(shi)用XRD物相(xiang)鑒定功能(neng)，分析各結晶(jing)相(xiang)的比例。

（2）很多(duo)材料的性(xing)能(neng)由結晶(jing)程(cheng)度決定，可使用XRD結晶(jing)度分析，確定材料的結晶(jing)程(cheng)度。

（3）新材料(liao)開(kai)發(fa)需(xu)要充分了解材料(liao)的晶(jing)格參(can)數，中能x射線(xian)發(fa)生裝置(zhi)供應商，使用(yong)XRD可快捷測(ce)試出(chu)點陣(zhen)參(can)數，為新材料(liao)開(kai)發(fa)應用(yong)提(ti)供性(xing)能驗證(zheng)指標。

（4）產品在使用(yong)過程(cheng)中出(chu)現(xian)斷裂(lie)、變(bian)形(xing)等失效現(xian)象，中能x射線(xian)發(fa)生裝置廠(chang)家(jia)，可能涉及(ji)微(wei)觀應(ying)力方面影(ying)響，使用(yong)XRD可以(yi)快捷測定微(wei)觀應(ying)力。

（5）納米(mi)材(cai)料由于(yu)顆(ke)粒(li)細小，極易(yi)形(xing)成(cheng)團(tuan)粒(li)，采用(yong)通常的粒(li)度(du)分析(xi)儀(yi)往往會(hui)給(gei)出錯誤的數據。采用(yong)X射(she)線(xian)(xian)(xian)衍射(she)線(xian)(xian)(xian)線(xian)(xian)(xian)寬法(謝樂法)可以測定納米(mi)粒(li)子的平均粒(li)徑。