是微電(dian)(dian)(dian)(dian)子工業(ye)中用量(liang)大(da)(da)的(de)(de)等離子蝕刻氣(qi)體(ti)，高(gao)(gao)純(chun)(chun)氣(qi)高(gao)(gao)純(chun)(chun)氧(yang)的(de)(de)混合氣(qi)，可廣泛應(ying)用于(yu)(yu)硅、二氧(yang)化硅、氮化硅、磷硅玻(bo)璃(li)及鎢(wu)等薄膜(mo)材料的(de)(de)蝕刻，在(zai)電(dian)(dian)(dian)(dian)子器件表面清洗、太陽能(neng)電(dian)(dian)(dian)(dian)池生產(chan)(chan)、激光(guang)技術、低溫制冷、泄漏檢驗(yan)、印刷電(dian)(dian)(dian)(dian)路生產(chan)(chan)中的(de)(de)去污劑(ji)等方面也大(da)(da)量(liang)使(shi)用。溫室氣(qi)體(ti)，四氟(fu)(fu)化碳(tan)廠家，其造成溫室效應(ying)的(de)(de)作用是二氧(yang)化碳(tan)的(de)(de)數千(qian)倍。氟(fu)(fu)代烴的(de)(de)低層(ceng)大(da)(da)氣(qi)中比較(jiao)穩定，而在(zai)上層(ceng)大(da)(da)氣(qi)中可被能(neng)量(liang)更大(da)(da)的(de)(de)紫外線分解。在(zai)范圍內，高(gao)(gao)純(chun)(chun)度四氟(fu)(fu)化碳(tan)應(ying)用于(yu)(yu)歐(ou)洲(zhou)、亞太地(di)區(qu)、北美、中東、非(fei)洲(zhou)和南美洲(zhou)等地(di)區(qu)，受電(dian)(dian)(dian)(dian)子產(chan)(chan)業(ye)發(fa)展程度不同影響(xiang)，對于(yu)(yu)高(gao)(gao)純(chun)(chun)度四氟(fu)(fu)化碳(tan)的(de)(de)需求(qiu)也不同，亞洲(zhou)地(di)區(qu)由于(yu)(yu)電(dian)(dian)(dian)(dian)子產(chan)(chan)業(ye)發(fa)展落后，近幾年電(dian)(dian)(dian)(dian)子電(dian)(dian)(dian)(dian)器行(xing)業(ye)處于(yu)(yu)快(kuai)速發(fa)展狀態，因此使(shi)得該地(di)區(qu)的(de)(de)高(gao)(gao)純(chun)(chun)度四氟(fu)(fu)化碳(tan)消費量(liang)持續攀升。

四氟(fu)(fu)(fu)化(hua)(hua)碳(tan)(tan)(tan)在(zai)不(bu)(bu)(bu)同的大氣壓(ya)下呈現的狀態是(shi)不(bu)(bu)(bu)同的，就像氧氣在(zai)101kPa時會呈現出液(ye)態。四氟(fu)(fu)(fu)化(hua)(hua)碳(tan)(tan)(tan)是(shi)無色、無臭、不(bu)(bu)(bu)燃的可壓(ya)縮性氣體(ti)，四氟(fu)(fu)(fu)化(hua)(hua)碳(tan)(tan)(tan)，發揮性較高.四氟(fu)(fu)(fu)化(hua)(hua)碳(tan)(tan)(tan)一般認為是(shi)惰(duo)性低毒物質，在(zai)高濃度(du)(du)下是(shi)窒息劑，其毒性不(bu)(bu)(bu)及四1氯化(hua)(hua)碳(tan)(tan)(tan)。產品經(jing)(jing)除(chu)塵，堿洗除(chu)去(qu)HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質、再經(jing)(jing)脫水可獲得含量約為85%的粗(cu)品。將粗(cu)品引入(ru)低溫(wen)精餾(liu)釜(fu)中進行間歇粗(cu)餾(liu)，通過控(kong)制精餾(liu)溫(wen)度(du)(du)，四氟(fu)(fu)(fu)化(hua)(hua)碳(tan)(tan)(tan)批發，除(chu)去(qu)O2、N2、H2，得到高純CF4。

四氟(fu)(fu)化(hua)碳(tan)(tan)亦稱全氟(fu)(fu)化(hua)碳(tan)(tan)、四氟(fu)(fu)甲(jia)(jia)1烷、全氟(fu)(fu)化(hua)碳(tan)(tan)，為非(fei)腐蝕性氣體，所有通(tong)用材料(liao)如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等(deng)金(jin)屬材料(liao)都可以使用。產(chan)品經除塵，堿洗除去(qu)HF、CoF2、SiF4、CO2等(deng)雜質(zhi)、再經脫水可獲(huo)得含量約為85%的粗品。將粗品引入(ru)低溫精(jing)餾(liu)釜中(zhong)進行(xing)間歇粗餾(liu)，通(tong)過控制精(jing)餾(liu)溫度，除去(qu)O2、N2、H2，得到(dao)高純CF4。由碳(tan)(tan)與(yu)(yu)(yu)(yu)氟(fu)(fu)反應(ying)(ying)(ying)，或一氧1化(hua)碳(tan)(tan)與(yu)(yu)(yu)(yu)氟(fu)(fu)反應(ying)(ying)(ying)，或碳(tan)(tan)化(hua)硅與(yu)(yu)(yu)(yu)氟(fu)(fu)反應(ying)(ying)(ying)，或氟(fu)(fu)石與(yu)(yu)(yu)(yu)石油焦在電(dian)爐里反應(ying)(ying)(ying)，或二氟(fu)(fu)二氯甲(jia)(jia)1烷與(yu)(yu)(yu)(yu)反應(ying)(ying)(ying)，或四氯1化(hua)碳(tan)(tan)與(yu)(yu)(yu)(yu)氟(fu)(fu)化(hua)銀反應(ying)(ying)(ying)，或四氯1化(hua)碳(tan)(tan)與(yu)(yu)(yu)(yu)氟(fu)(fu)1化(hua)氫反應(ying)(ying)(ying)，都能生成四氟(fu)(fu)1化(hua)碳(tan)(tan)。