是否適(shi)合等離子電(dian)漿拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)設(she)(she)備，您得先了(le)解等離子電(dian)漿拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)設(she)(she)備的(de)(de)優點(dian)：環保，不(bu)使用(yong)(yong)(yong)有(you)毒或(huo)有(you)害的(de)(de)化(hua)學物(wu)質，廢液(ye)可(ke)以直接排放或(huo)回收利用(yong)(yong)(yong)，不(bu)會(hui)造成(cheng)污染。降低成(cheng)本，設(she)(she)備操作(zuo)簡單，維護方便，減(jian)少人工和材料的(de)(de)消(xiao)耗。提率，設(she)(she)備可(ke)以在短時間內達到鏡面效果，適(shi)用(yong)(yong)(yong)于(yu)規(gui)模化(hua)生產(chan)。提升品質，設(she)(she)備可(ke)以對復雜和精密(mi)的(de)(de)工件進行均勻(yun)和高精度的(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)，增強拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)面的(de)(de)抗腐蝕(shi)性能(neng)和硬度，減(jian)少表(biao)面粗糙度和摩擦(ca)系數。當然，等離子電(dian)漿拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)設(she)(she)備的(de)(de)缺點(dian)就是對表(biao)面的(de)(de)摩擦(ca)作(zuo)用(yong)(yong)(yong)有(you)限(xian)，不(bu)能(neng)去除沖壓印跡和表(biao)面橘皮(pi)，需(xu)要(yao)與手工拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)或(huo)其他方法(fa)結合使用(yong)(yong)(yong)。拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)液(ye)需(xu)要(yao)定期補充或(huo)更(geng)換(huan)，否則會(hui)影響拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)效果。拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)深(shen)度較淺，一般為(wei)1-2微米/分鐘，對于(yu)一些需(xu)要(yao)深(shen)層處理的(de)(de)工件可(ke)能(neng)不(bu)夠理想(xiang)。

隨著半導(dao)體(ti)工藝(yi)的(de)(de)不斷發展，對半導(dao)體(ti)表(biao)面平(ping)整(zheng)度和(he)(he)光澤度的(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)來越(yue)高，傳統的(de)(de)機械(xie)拋光技術已經(jing)不能滿(man)足需求(qiu)(qiu)。拋光設備作(zuo)為(wei)一(yi)種新興(xing)的(de)(de)表(biao)面處理技術，具有、、無(wu)污(wu)染等(deng)優(you)點(dian)，在半導(dao)體(ti)行(xing)業中(zhong)的(de)(de)應用前景廣闊。拋光設備不僅可(ke)以用于晶圓的(de)(de)表(biao)面拋光和(he)(he)去(qu)除氧化(hua)物(wu)，還可(ke)以用于半導(dao)體(ti)器件的(de)(de)表(biao)面平(ping)整(zheng)化(hua)和(he)(he)去(qu)除殘留物(wu)等(deng)方面，具有重要(yao)的(de)(de)應用價值(zhi)。

對(dui)于(yu)(yu)不能(neng)(neng)(neng)去除(chu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)表面(mian)缺陷，可(ke)以(yi)(yi)在等(deng)離子拋(pao)(pao)光之(zhi)前或之(zhi)后采用其他的(de)(de)(de)(de)(de)(de)表面(mian)處理方法(fa)，如機械拋(pao)(pao)光、電解拋(pao)(pao)光、離子束(shu)拋(pao)(pao)光等(deng)，以(yi)(yi)達(da)到更(geng)好的(de)(de)(de)(de)(de)(de)效(xiao)果。對(dui)于(yu)(yu)拋(pao)(pao)光液(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)補充或更(geng)換，可(ke)以(yi)(yi)采用自(zi)動化(hua)或智能(neng)(neng)(neng)化(hua)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)控制(zhi)(zhi)系統，實時(shi)監測和(he)(he)調節拋(pao)(pao)光液(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)溫度(du)、濃度(du)、pH值等(deng)參數(shu)，保證拋(pao)(pao)光液(ye)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)穩定(ding)性(xing)和(he)(he)有效(xiao)性(xing)。對(dui)于(yu)(yu)拋(pao)(pao)光深度(du)較淺(qian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)問題，可(ke)以(yi)(yi)通(tong)過(guo)優(you)化(hua)工藝(yi)參數(shu)，如電壓(ya)、電流、時(shi)間、間隙等(deng)，增(zeng)(zeng)加等(deng)離子體(ti)與工件表面(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)作用強度(du)和(he)(he)時(shi)間，提(ti)(ti)高(gao)(gao)拋(pao)(pao)光深度(du)和(he)(he)精度(du)。對(dui)于(yu)(yu)設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)投資成本較高(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)問題，可(ke)以(yi)(yi)通(tong)過(guo)提(ti)(ti)高(gao)(gao)設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)性(xing)能(neng)(neng)(neng)、穩定(ding)性(xing)、壽命和(he)(he)可(ke)靠性(xing)，降低設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)運行(xing)和(he)(he)維護成本，提(ti)(ti)高(gao)(gao)設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)使用效(xiao)率(lv)和(he)(he)回收率(lv)，增(zeng)(zeng)加設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)經(jing)濟效(xiao)益。對(dui)于(yu)(yu)技術的(de)(de)(de)(de)(de)(de)研發和(he)(he)應用還不夠成熟的(de)(de)(de)(de)(de)(de)問題，可(ke)以(yi)(yi)通(tong)過(guo)加強科研投入和(he)(he)合作，開(kai)展(zhan)更(geng)多的(de)(de)(de)(de)(de)(de)理論和(he)(he)實驗研究，探索更(geng)多的(de)(de)(de)(de)(de)(de)應用領域和(he)(he)優(you)化(hua)參數(shu)，制(zhi)(zhi)定(ding)更(geng)多的(de)(de)(de)(de)(de)(de)標準(zhun)和(he)(he)規范，推廣更(geng)多的(de)(de)(de)(de)(de)(de)技術交流和(he)(he)。