等離(li)子拋(pao)光(guang)(guang)(guang)設(she)(she)備報價的(de)(de)設(she)(she)備功(gong)率(lv)一(yi)定(ding)(ding)(ding)的(de)(de)情況下、就決(jue)定(ding)(ding)(ding)它所(suo)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)產品的(de)(de)表面積一(yi)定(ding)(ding)(ding)、換句話(hua)說(shuo)就決(jue)定(ding)(ding)(ding)了(le)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)產品的(de)(de)數量(liang)、我(wo)們(men)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)槽就是根據(ju)(ju)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)產品數量(liang)來設(she)(she)計(ji)(ji)的(de)(de)、常(chang)用(yong)普通(tong)產品是完全可(ke)以滿足(zu)滿功(gong)率(lv)生(sheng)產的(de)(de)、特殊產品除外，但(dan)也可(ke)以設(she)(she)計(ji)(ji)的(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)槽。八溢自(zi)動化(hua)設(she)(she)備有限公司(si)是專”生(sheng)產等離(li)子拋(pao)光(guang)(guang)(guang)設(she)(she)備報價、和配套設(she)(she)備的(de)(de)廠家、在設(she)(she)備配置和設(she)(she)計(ji)(ji)上(shang)都是有一(yi)定(ding)(ding)(ding)的(de)(de)科學依據(ju)(ju)的(de)(de)、值得信耐的(de)(de)。

金(jin)(jin)屬(shu)表面(mian)電解質等離子拋(pao)光(guang)(guang)利用(yong)氣(qi)(qi)液等離子體發生(sheng)技(ji)(ji)術(shu)，將(jiang)工(gong)件置于拋(pao)光(guang)(guang)液中，施加一定的(de)(de)電壓，使工(gong)件周圍的(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)液汽(qi)化，形(xing)(xing)成一個包裹工(gong)件的(de)(de)氣(qi)(qi)層，通(tong)過在(zai)氣(qi)(qi)層的(de)(de)不(bu)同(tong)位置形(xing)(xing)成放電通(tong)道，將(jiang)表面(mian)材料微觀(guan)凸起地去(qu)除(chu)，實(shi)現對金(jin)(jin)屬(shu)工(gong)件表面(mian)拋(pao)光(guang)(guang)。在(zai)該(gai)拋(pao)光(guang)(guang)體系(xi)下電極(拋(pao)光(guang)(guang)工(gong)件)、放電介質、氣(qi)(qi)層和拋(pao)光(guang)(guang)液等離子層五相共同(tong)作用(yong)，主要通(tong)過放電去(qu)除(chu)表面(mian)材料，該(gai)技(ji)(ji)術(shu)不(bu)僅能解決傳統機械拋(pao)光(guang)(guang)方法達(da)到的(de)(de)死(si)角位的(de)(de)問題，特別對形(xing)(xing)狀復(fu)雜的(de)(de)工(gong)件達(da)到很好的(de)(de)拋(pao)光(guang)(guang)效(xiao)果。拋(pao)光(guang)(guang)后的(de)(de)產品無需除(chu)油、除(chu)蠟(la)。只需水(shui)洗，烘干(gan)即(ji)可。

在(zai)高(gao)(gao)溫超高(gao)(gao)電(dian)(dian)流(liu)的(de)作用(yong)(yong)下，電(dian)(dian)解(jie)質(zhi)(zhi)水產(chan)生(sheng)(sheng)電(dian)(dian)離(li)子(zi)(zi)，分離(li)化(hua)(hua)學(xue)液態(tai)電(dian)(dian)漿(jiang)，利用(yong)(yong)電(dian)(dian)解(jie)質(zhi)(zhi)水溶和高(gao)(gao)溫、高(gao)(gao)壓的(de)配合產(chan)生(sheng)(sheng)等(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)，等(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)與工件的(de)表面摩擦(ca)而產(chan)生(sheng)(sheng)拋光(guang)的(de)效(xiao)果。等(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)拋光(guang)的(de)過(guo)(guo)程中涉及(ji)到(dao)化(hua)(hua)學(xue)變化(hua)(hua)，其(qi)(qi)材(cai)料去(qu)(qu)除(chu)(chu)機理(li)主要(yao)表現在(zai)材(cai)料的(de)化(hua)(hua)學(xue)去(qu)(qu)除(chu)(chu)過(guo)(guo)程，其(qi)(qi)原理(li)為反(fan)應等(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)在(zai)放(fang)電(dian)(dian)過(guo)(guo)程中產(chan)生(sheng)(sheng)許多離(li)子(zi)(zi)和化(hua)(hua)學(xue)活物質(zhi)(zhi)，這(zhe)(zhe)些(xie)中性物質(zhi)(zhi)稱其(qi)(qi)為自(zi)由基(ji)，與原來的(de)氣(qi)體(ti)分子(zi)(zi)相比，這(zhe)(zhe)些(xie)自(zi)由基(ji)是(shi)活躍的(de)刻溶劑。等(deng)(deng)(deng)離(li)子(zi)(zi)體(ti)的(de)材(cai)料去(qu)(qu)除(chu)(chu)機理(li)不僅僅包括化(hua)(hua)學(xue)反(fan)應的(de)去(qu)(qu)除(chu)(chu)原理(li)，還包含物理(li)方(fang)法(fa)的(de)去(qu)(qu)除(chu)(chu)原理(li)，但主要(yao)的(de)還是(shi)氣(qi)相化(hua)(hua)學(xue)反(fan)應去(qu)(qu)除(chu)(chu)原理(li)。