如何(he)提(ti)高(gao)等(deng)(deng)離(li)子體(ti)的(de)(de)(de)生成、控制(zhi)和(he)穩定性，以(yi)實(shi)(shi)現更(geng)(geng)高(gao)的(de)(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)效率和(he)質量，以(yi)及(ji)(ji)更(geng)(geng)低(di)的(de)(de)(de)能耗和(he)成本。如何(he)擴大等(deng)(deng)離(li)子拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)技(ji)(ji)術的(de)(de)(de)適用范(fan)圍，以(yi)實(shi)(shi)現對更(geng)(geng)多種類(lei)、形(xing)狀、尺寸的(de)(de)(de)工件的(de)(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)，以(yi)及(ji)(ji)對更(geng)(geng)多領域和(he)行業的(de)(de)(de)應用。如何(he)解(jie)決等(deng)(deng)離(li)子拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)技(ji)(ji)術的(de)(de)(de)環(huan)境和(he)安全問題，如如何(he)減少廢(fei)液(ye)的(de)(de)(de)排(pai)放(fang)和(he)處(chu)理(li)(li)(li)，如何(he)避(bi)免電(dian)磁干擾和(he)噪音(yin)等(deng)(deng)。如何(he)提(ti)高(gao)等(deng)(deng)離(li)子拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)技(ji)(ji)術的(de)(de)(de)智(zhi)能化(hua)(hua)和(he)自動化(hua)(hua)水(shui)平(ping)，以(yi)實(shi)(shi)現對拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)過(guo)程(cheng)的(de)(de)(de)實(shi)(shi)時監測、調節(jie)和(he)優(you)化(hua)(hua)，以(yi)及(ji)(ji)對拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)結果的(de)(de)(de)評估和(he)反(fan)饋。如何(he)加強等(deng)(deng)離(li)子拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)技(ji)(ji)術的(de)(de)(de)理(li)(li)(li)論(lun)和(he)實(shi)(shi)驗研究，以(yi)揭(jie)示等(deng)(deng)離(li)子拋(pao)(pao)(pao)(pao)光(guang)過(guo)程(cheng)中發生的(de)(de)(de)復雜的(de)(de)(de)物理(li)(li)(li)、化(hua)(hua)學(xue)、電(dian)化(hua)(hua)學(xue)、熱力(li)學(xue)等(deng)(deng)機(ji)理(li)(li)(li)，以(yi)及(ji)(ji)對工件表面性能的(de)(de)(de)影響規律。

隨著半(ban)導體工藝的(de)不斷發展，對半(ban)導體表(biao)面(mian)平整(zheng)度(du)和(he)光(guang)澤度(du)的(de)要求越(yue)來越(yue)高，傳統的(de)機(ji)械拋(pao)光(guang)技(ji)術已經不能滿足需求。拋(pao)光(guang)機(ji)多(duo)少(shao)錢作(zuo)為一種新(xin)興的(de)表(biao)面(mian)處(chu)理(li)技(ji)術，具(ju)有、、無污染(ran)等優點，在半(ban)導體行業中的(de)應用前(qian)景廣闊。拋(pao)光(guang)機(ji)多(duo)少(shao)錢不僅可以用于(yu)晶圓的(de)表(biao)面(mian)拋(pao)光(guang)和(he)去(qu)除(chu)氧化物，還可以用于(yu)半(ban)導體器件的(de)表(biao)面(mian)平整(zheng)化和(he)去(qu)除(chu)殘留(liu)物等方面(mian)，具(ju)有重要的(de)應用價值。

等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)也(ye)稱為物(wu)(wu)(wu)質的(de)第四態(tai)(tai)，是(shi)一種電磁氣(qi)態(tai)(tai)放電現象，使氣(qi)態(tai)(tai)粒子(zi)(zi)(zi)部分(fen)電離(li)(li)，這種被(bei)電離(li)(li)的(de)氣(qi)體包括(kuo)原子(zi)(zi)(zi)、分(fen)子(zi)(zi)(zi)、原子(zi)(zi)(zi)團.離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)和電子(zi)(zi)(zi)。等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)就是(shi)在高(gao)溫高(gao)壓下，拋光劑水溶，在高(gao)溫高(gao)壓下，電子(zi)(zi)(zi)會脫離(li)(li)原子(zi)(zi)(zi)核而跑出來，原子(zi)(zi)(zi)核就形成了一個帶正電的(de)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)，當(dang)這些離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)達到一定(ding)數量的(de)時候可以成為等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)態(tai)(tai)，等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)態(tai)(tai)能(neng)量很大，當(dang)這些等(deng)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)和要拋光的(de)物(wu)(wu)(wu)體摩(mo)擦時，項刻間(jian)會使物(wu)(wu)(wu)體達到表面(mian)(mian)光亮的(de)效果。拋光一次會導致(zhi)工(gong)件向(xiang)上的(de)部分(fen)效果會會稍(shao)微差一些、所以需要拋兩次、就是(shi)把效果稍(shao)差的(de)一面(mian)(mian)翻轉180°、再做(zuo)一次、即可做(zuo)到均勻。