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微弧氧化(hua)膜(mo)(mo)(mo)層(ceng)生(sheng)(sheng)長時,首先在(zai)(zai)基體(ti)表(biao)面發(fa)生(sheng)(sheng)化(hua)學反應(ying),生(sheng)(sheng)成(cheng)一(yi)(yi)(yi)層(ceng)陽極氧化(hua)膜(mo)(mo)(mo)。當(dang)增大反應(ying)電(dian)(dian)(dian)(dian)壓(ya)(ya)時,膜(mo)(mo)(mo)層(ceng)厚度會進一(yi)(yi)(yi)步(bu)增加(jia),厚度會隨之(zhi)增加(jia)。但(dan)是當(dang)反應(ying)電(dian)(dian)(dian)(dian)壓(ya)(ya)增加(jia)到一(yi)(yi)(yi)定程度時,膜(mo)(mo)(mo)層(ceng)會由(you)(you)于不能承受該工(gong)作電(dian)(dian)(dian)(dian)壓(ya)(ya)發(fa)生(sheng)(sheng)放電(dian)(dian)(dian)(dian)再擊穿,產生(sheng)(sheng)等離子放電(dian)(dian)(dian)(dian)。反應(ying)的高溫(wen)將使膜(mo)(mo)(mo)層(ceng)發(fa)生(sheng)(sheng)熔融,基體(ti)元(yuan)素由(you)(you)于處在(zai)(zai)富(fu)氧環境中,將形成(cheng)氧化(hua)物(wu)。同(tong)時由(you)(you)于是在(zai)(zai)電(dian)(dian)(dian)(dian)解液(ye)中,熔融物(wu)將瞬間冷凝,在(zai)(zai)基體(ti)表(biao)面生(sheng)(sheng)成(cheng)一(yi)(yi)(yi)層(ceng)陶(tao)瓷。陶(tao)瓷膜(mo)(mo)(mo)的生(sheng)(sheng)成(cheng),將導致工(gong)作電(dian)(dian)(dian)(dian)壓(ya)(ya)進一(yi)(yi)(yi)步(bu)升高,膜(mo)(mo)(mo)層(ceng)再次被擊穿,膜(mo)(mo)(mo)層(ceng)厚度進一(yi)(yi)(yi)步(bu)增加(jia)。周而(er)復始,膜(mo)(mo)(mo)層(ceng)得以生(sheng)(sheng)長。
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