不(bu)銹鋼(gang)等(deng)離子(zi)拋光工(gong)藝

等離子拋光的原理:

透過高電壓令工件(jian)表層與(yu)(yu)特(te)殊(shu)藥劑產生穩定的等(deng)離子(zi)膜(mo)，膜(mo)內強烈等(deng)離子(zi)體化學(xue)(xue)反(fan)(fan)應(ying)(ying)與(yu)(yu)電化學(xue)(xue)反(fan)(fan)應(ying)(ying)使(shi)被處理(li)表面(mian)產生陽(yang)極(ji)反(fan)(fan)應(ying)(ying)，同時(shi)又使(shi)陽(yang)極(ji)氧化層受到化學(xue)(xue)侵(qin)蝕，不(bu)(bu)銹(xiu)鋼(gang)等(deng)離子(zi)拋(pao)(pao)光工藝(yi)，在氧化速(su)度(du)與(yu)(yu)侵(qin)蝕速(su)度(du)相(xiang)等(deng)時(shi)出現整平及(ji)拋(pao)(pao)光效果，使(shi)工件(jian)增強光澤度(du)及(ji)提高反(fan)(fan)射率。化學(xue)(xue)反(fan)(fan)應(ying)(ying)快及(ji)無孔不(bu)(bu)入，適合復(fu)雜形狀的工件(jian)!

等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)拋(pao)(pao)光(guang)是(shi)一(yi)種利用(yong)高能(neng)(neng)量等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)體(ti)（電(dian)離氣(qi)(qi)體(ti)）對工(gong)件(jian)表(biao)(biao)(biao)面(mian)進行(xing)加工(gong)的方(fang)法。其原理是(shi)通過高頻電(dian)場(chang)將氣(qi)(qi)體(ti)分子(zi)(zi)(zi)(zi)激(ji)發(fa)至電(dian)離狀態，謝(xie)崗(gang)不銹鋼(gang)等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)拋(pao)(pao)光(guang)，形成等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)體(ti)，這些(xie)帶(dai)有(you)高能(neng)(neng)的離子(zi)(zi)(zi)(zi)和(he)電(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)沖(chong)擊在工(gong)件(jian)表(biao)(biao)(biao)面(mian)，通過物(wu)理和(he)化(hua)學作用(yong)，磨(mo)(mo)蝕(shi)掉表(biao)(biao)(biao)面(mian)的微(wei)小粒(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)，從而實現精細拋(pao)(pao)光(guang)。等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)拋(pao)(pao)光(guang)過程無機械切削，不會引(yin)入新的刀痕，適用(yong)于各種硬質和(he)軟質材(cai)料，如金屬、塑料、玻璃等(deng)，常用(yong)于精密零件(jian)、電(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)器件(jian)、光(guang)學鏡片(pian)等(deng)高精度表(biao)(biao)(biao)面(mian)處理，不銹鋼(gang)等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)拋(pao)(pao)光(guang)哪里好(hao)，以(yi)提(ti)高表(biao)(biao)(biao)面(mian)光(guang)潔(jie)度和(he)耐腐(fu)蝕(shi)性。此外，不銹鋼(gang)等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)拋(pao)(pao)光(guang)公司，等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)拋(pao)(pao)光(guang)還可用(yong)于去除(chu)微(wei)裂紋、修復磨(mo)(mo)損表(biao)(biao)(biao)面(mian)以(yi)及(ji)進行(xing)表(biao)(biao)(biao)面(mian)改性等(deng)。

什么是等離子？

人們(men)常常把等(deng)離(li)子(zi)稱(cheng)為(wei)物(wu)質的(de)(de)第四態(tai)(tai)。我們(men)通常認為(wei)物(wu)質有三(san)種狀態(tai)(tai)：固態(tai)(tai)、液態(tai)(tai)和(he)氣態(tai)(tai)。以常見的(de)(de)物(wu)質“水”為(wei)例，水的(de)(de)三(san)種狀態(tai)(tai)分(fen)別是(shi)冰(bing)、水和(he)水蒸氣。這(zhe)些狀態(tai)(tai)的(de)(de)區別在于(yu)其能(neng)(neng)量水平。當以加熱的(de)(de)形式給冰(bing)增加能(neng)(neng)量時，冰(bing)會融化(hua)成水。繼(ji)續增加能(neng)(neng)量，水就(jiu)會蒸發(fa)形成蒸氣形態(tai)(tai)的(de)(de)氫和(he)氧。繼(ji)續給蒸氣增加能(neng)(neng)量，氫和(he)氧就(jiu)會離(li)子(zi)化(hua)。離(li)子(zi)化(hua)過程會使氣體(ti)(ti)變為(wei)導電(dian)(dian)體(ti)(ti)。這(zhe)種能(neng)(neng)導電(dian)(dian)的(de)(de)離(li)子(zi)化(hua)氣體(ti)(ti)就(jiu)是(shi)所(suo)謂的(de)(de)等(deng)離(li)子(zi)。

等離子體技術作為一個學科交叉的前沿研究領域，在材料、能源、天文、化工、生物工程等方面具有廣泛的應用，在并不算長的發展歷程中已經在化學合成、新材料研制、精密電化學加工、表面處理等領域開拓出一系列新技術和新工藝。傳統的等離子體拋光技術在真空、低壓或者常壓下激發產生等離子體，利用等離子體中的活性粒子與表面材料粒子發生化學反應，生成揮發性物質，將表面材料去除，主要應用于光學元件的加工，處理對象絕大多數為半導體材料。