Plasma 2000 技術(shu)特(te)點

1.  優異的(de)光學系統

2.  固(gu)態(tai)有效(xiao)射頻發生(sheng)器，體積更加小巧

3.  流程自動化，狀態監(jian)控及自動保護

4.  科研級(ji)檢測器(qi)，極(ji)高的紫(zi)外量化效率

5.  強大分析譜線(xian)

6.  信息直觀豐富

7.  多窗口(kou)多方法

8.  編輯功能(neng)強大(da)

9.  智能譜圖標定

10. 智(zhi)能干擾矯正(zheng)

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鋼研納(na)克 Plasma2000型全(quan)譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國分析(xi)測(ce)試(shi)協(xie)會組織(zhi)在北京(jing)對鋼(gang)(gang)研納(na)克(ke)檢(jian)測(ce)技術有(you)限(xian)(xian)公司(si)的“Plasma2000型全譜等離子體(ti)光譜儀”3項(xiang)成果進行(xing)了鑒定(ding)。本(ben)(ben)次(ci)鑒定(ding)組成員包括：清華大學張新(xin)榮、中國分析(xi)測(ce)試(shi)協(xie)會張渝英、中國分析(xi)測(ce)試(shi)協(xie)會汪正范研究(jiu)員、科(ke)學儀器研究(jiu)中心(xin)于科(ke)岐研究(jiu)員、北分瑞利儀器有(you)限(xian)(xian)公司(si)章詒學、北京(jing)科(ke)技大學劉杰民。鋼(gang)(gang)研納(na)克(ke)檢(jian)測(ce)技術有(you)限(xian)(xian)公司(si)賈云海(hai)總經理(li)、技術中心(xin)沈學靜、項(xiang)目負責人(ren)及項(xiang)目骨干出席(xi)本(ben)(ben)次(ci)鑒定(ding)會。

本(ben)次(ci)鑒(jian)定會由鑒(jian)定組(zu)(zu)(zu)組(zu)(zu)(zu)長(chang)張新(xin)榮(rong)主持，項目組(zu)(zu)(zu)向組(zu)(zu)(zu)成(cheng)(cheng)員詳細匯(hui)報(bao)了(le)(le)成(cheng)(cheng)果(guo)(guo)情況，組(zu)(zu)(zu)審議了(le)(le)成(cheng)(cheng)果(guo)(guo)研(yan)制(zhi)報(bao)告(gao)、成(cheng)(cheng)果(guo)(guo)查新(xin)報(bao)告(gao)、檢驗報(bao)告(gao)和用戶報(bao)告(gao)等項目鑒(jian)定資料，icp等離子體光(guang)譜(pu)儀價(jia)格，并觀看了(le)(le)儀器(qi)(qi)現(xian)場操作(zuo)演示，進(jin)行了(le)(le)質(zhi)詢。在此基礎上，們進(jin)行了(le)(le)認真討論，一致(zhi)同意并通過了(le)(le)“Plasma2000型全(quan)譜(pu)等離子體光(guang)譜(pu)儀”的儀器(qi)(qi)鑒(jian)定。

鑒定結論如下：

“Plasma2000型全(quan)(quan)譜等(deng)離(li)子體(ti)光(guang)譜儀(yi)” 技術(shu)指標達到(dao)：波長范圍：165~900nm；200nm處分辨(bian)率(lv)(lv)0.007nm；自主研(yan)(yan)發固態(tai)射頻發生器(qi)，功率(lv)(lv)范圍800W~1600W，連續1瓦可調，功率(lv)(lv)穩定性優(you)于(yu)0.1%，具(ju)(ju)有(you)(you)自動匹配調諧功能；軟件一鍵(jian)點火，電路(lu)具(ju)(ju)有(you)(you)全(quan)(quan)自動保(bao)護功能；具(ju)(ju)有(you)(you)儀(yi)器(qi)參數自動優(you)化功能；具(ju)(ju)有(you)(you)激光(guang)剝蝕進樣系(xi)統接口，可配備有(you)(you)機進樣系(xi)統、高(gao)鹽和耐進樣系(xi)統，可使用有(you)(you)機進樣系(xi)統直(zhi)接測試油品。具(ju)(ju)有(you)(you)（1）成(cheng)功了(le)固態(tai)射頻發生器(qi)、高(gao)分辨(bian)二維全(quan)(quan)譜光(guang)譜系(xi)統等(deng)關鍵(jian)技術(shu)；（2）自主研(yan)(yan)發的高(gao)分辨(bian)率(lv)(lv)二維分光(guang)系(xi)統，無需切換光(guang)路(lu)，一次(ci)曝光(guang)即可獲(huo)取全(quan)(quan)部(bu)譜線數據(ju)；（3）建立了(le)多種樣品分析的方(fang)法數據(ju)庫等(deng)點。該儀(yi)器(qi)技術(shu)指標已達到(dao)國內同類產(chan)品水平，已實現銷售，具(ju)(ju)有(you)(you)良好市場前景。

鋼(gang)研納克雙向觀(guan)測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣(guang)泛適(shi)用于冶金、地質(zhi)、材料、環境、食品(pin)、石油、化工、生物、水(shui)質(zhi)等(deng)各領域的(de)元素(su)分析(xi)。

Plasma 3000 ICP光譜儀(yi)具有垂直火炬(ju)，雙向觀測，冷錐消除尾(wei)焰，具有更寬的(de)動態線性范圍和(he)更低的(de)背景。

自激式固態射頻發(fa)生器，有效穩定，體積小巧(qiao)，匹配速度快，確保Plasma 3000

ICP光譜儀精度較高運行及優異(yi)的長期(qi)穩(wen)定性。

高(gao)速面(mian)陣 CCD 采集技術(shu)，單(dan)次曝(pu)光獲(huo)取全部(bu)譜(pu)線信息，Plasma 3000 ICP光譜(pu)儀真正實現“全譜(pu)直(zhi)讀”。

功能(neng)強大的(de)軟件系統，簡化分析方(fang)法的(de)開發過程(cheng)。應用工程(cheng)師(shi)為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的(de)操作體驗。