操作火花直讀光譜(pu)儀時應注意要點

控制樣品的使用

①、分(fen)析爐(lu)中樣(yang)品應(ying)盡量采用同(tong)鋼種(zhong)，接近含量的(de)控制標準樣(yang)品。

②、一個控(kong)制(zhi)樣品很難(nan)滿足(zu)多(duo)元素分(fen)析的要求(qiu)，盡(jin)量做到(dao)分(fen)析樣品的含量與控(kong)制(zhi)標鋼的成分(fen)接近。

③、對特殊情況，個別元素(su)接近邊緣(yuan)規格或(huo)超過標準規定時，應選(xuan)擇適當含量(liang)的標鋼去進(jin)行控制。

④、應隨(sui)時聯(lian)系電爐，取(qu)好(hao)光譜(pu)(pu)內控(kong)制(zhi)標(biao)鋼，光譜(pu)(pu)檢測儀價(jia)格，爐中快速分析，應盡量采(cai)取(qu)澆注的控(kong)制(zhi)標(biao)鋼為好(hao)。

⑤、對成品(pin)試樣，要注意樣品(pin)的狀(zhuang)態(指(zhi)淬火，退火狀(zhuang)態)選擇適當(dang)的控(kong)制標鋼。

5、氣的使用

①、換氣前，先將瓶內氣體空放一下，使瓶嘴沾污的泥土(tu)吹(chui)干凈。

②、接(jie)通氣(qi)表(biao)前應試一(yi)下瓶嘴是否漏氣(qi)，發現漏氣(qi)應另(ling)換一(yi)瓶；如不漏氣(qi)，把表(biao)頭緊固接(jie)在瓶上(shang)。

緩慢(man)打開瓶上的一次壓力(li)閥門，使一次壓力(li)表(biao)(biao)指針逐漸上，然后(hou)緩慢(man)調(diao)節二次表(biao)(biao)頭的壓力(li)上升到(dao)規定(ding)的

讀數：0.15MPa氣源即可(視不同品牌儀(yi)器會(hui)有一些差異(yi))，并規(gui)定(ding)：平時(shi)待機狀態：流(liu)量(liang)為0.1—0.5L／

min激發前大流(liu)量(liang)沖(chong)洗(xi)為(wei)5—8L／min激發流(liu)量(liang)3—5L／min

③、每(mei)次新換氣(qi)后，工(gong)作曲(qu)線必須重新標準化。

④、當瓶內壓力降到15個大氣壓時，需要更換新氣；如果在工作過程中發現激發斑點呈白點狀，也應另換一瓶新氣。

光譜儀是將(jiang)成分(fen)復雜(za)的(de)(de)光分(fen)解(jie)為光譜線的(de)(de)科學(xue)儀器。光譜儀主要包括四個部分(fen)：光源、入射狹縫、色散元件（圖中為棱鏡）、探測器。同時，與相應配套的(de)(de)光學(xue)系(xi)(xi)統，如光源系(xi)(xi)統、準直系(xi)(xi)統、成像系(xi)(xi)統

光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)讀光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)已經普遍應用于(yu)金屬相關的(de)生產過程及(ji)產品質量控制中。據(ju)了解(jie)，當前中國有(you)數以萬(wan)計的(de)光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)讀光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)應用于(yu)金屬行業(ye)及(ji)上下游產業(ye)，從(cong)事光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)讀光(guang)(guang)(guang)譜(pu)分析的(de)人(ren)(ren)員達數萬(wan)人(ren)(ren)之多。據(ju)記(ji)載，上世紀(ji)70年代，中國鋼鐵產量徘(pai)徊在2000萬(wan)噸(dun)的(de)水平，對(dui)于(yu)中國的(de)用戶來說(shuo)，光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)讀光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)還是(shi)(shi)神秘、是(shi)(shi)“高大(da)上”的(de)儀(yi)(yi)(yi)器設備，而且由于(yu)沒有(you)國產同類儀(yi)(yi)(yi)器，進(jin)口儀(yi)(yi)(yi)器單臺(tai)價格一般高達100多萬(wan)，只有(you)大(da)型(xing)的(de)鋼廠才有(you)可(ke)能(neng)引(yin)進(jin)，而中小型(xing)鋼廠、下游加(jia)工廠、五金企業(ye)根本用不(bu)起，導致了當時光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)讀光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)(yi)器在中國的(de)普及(ji)率不(bu)高。

一直(zhi)(zhi)(zhi)到20世紀末，國產(chan)光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)(zhi)(zhi)讀(du)(du)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)器缺乏的狀(zhuang)況依然(ran)未能緩解。鋼(gang)(gang)研納(na)(na)克(ke)檢測技術有限公司（以下簡(jian)稱(cheng)：鋼(gang)(gang)研納(na)(na)克(ke)）于(yu)2001年(nian)(nian)成(cheng)立之初開始了光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)(zhi)(zhi)讀(du)(du)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)器的研發工作，歷(li)經(jing)(jing)5年(nian)(nian)的時(shi)間(jian)，2006年(nian)(nian)9月推出(chu)了鋼(gang)(gang)研納(na)(na)克(ke)的臺光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)(zhi)(zhi)讀(du)(du)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)，使(shi)得(de)同類(lei)進口(kou)儀(yi)(yi)器的價(jia)格下降了近一半。2011年(nian)(nian)，在臺光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)(zhi)(zhi)讀(du)(du)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)的基礎上，經(jing)(jing)過了5年(nian)(nian)的研制時(shi)間(jian)，鋼(gang)(gang)研納(na)(na)克(ke)推出(chu)1000型(xing)光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)(zhi)(zhi)讀(du)(du)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)。2014年(nian)(nian)，1000型(xing)光(guang)(guang)(guang)電(dian)(dian)(dian)直(zhi)(zhi)(zhi)讀(du)(du)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀(yi)(yi)經(jing)(jing)受住大(da)量(liang)用戶長時(shi)間(jian)使(shi)用的檢驗(yan)，用戶授予其(qi)“國產(chan)好儀(yi)(yi)器”稱(cheng)號。

鋼研納(na)克SparkCCD7000

高分辨率 CCD 檢(jian)測(ce)器

像素數：3648+46 全行業(ye)較高

像素(su)尺寸：8μm 全行業較小

精薄(bo)鍍膜，紫(zi)外(wai)波(bo)段檢出限更低，可(ke)做低含量 N

萬級超凈環境下(xia)打造(zao)較優光學(xue)系統

帕(pa)邢 - 龍格結(jie)構羅蘭(lan)光(guang)學系統，無(wu)像差，分辨率均(jun)勻

高(gao)發光全(quan)息(xi)光柵(zha)，光柵(zha)焦距 500mm， 刻線為 2700 條(tiao) /mm，全(quan)行業較(jiao)高(gao)

線分辨率 0.7407nm/mm

像素分(fen)辨率 0.005926nm

譜線范圍(wei)：130-800nm（可分析 N、Li、 Na、K 等元(yuan)素）

智能控制系統(tong)，再啟動耗時行業較低

潮(chao)汐(xi)式(shi)沖洗方(fang)式(shi)，冷機(ji)（關機(ji) 12 小(xiao)時(shi)）啟動只需 30min，熱機(ji)啟動時(shi)間 5min

智能判斷分析(xi)間(jian)(jian)隔時(shi)間(jian)(jian)，合理(li)補(bu)充氣，降低(di)氣消(xiao)耗

60ml/min 超低待機流量(liang)，一(yi)瓶氣 24 小時待機 70 天(tian)

分片式曝(pu)光(guang)，痕量元素識別強度大幅提高，檢出限更(geng)低

一次激(ji)發，分片曝光，同時采集(ji)，同時回數

獨(du)立(li)控制不(bu)同 CCD 的積分曝光時(shi)間

提升痕量元素的強度，降低儀器的檢出(chu)限(xian)

隨波(bo)段(duan)調節積分時間(jian)，提升儀器的 穩定性(xing)