鋼研納(na)克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀(yi)參數

1. 光學(xue)(xue)系統：中階梯二維分光光學(xue)(xue)系統，焦距400mm

2. 譜(pu)(pu)線(xian)范圍(wei)：165nm~900nm，吉林國(guo)產ICP光(guang)譜(pu)(pu)儀，光(guang)學(xue)分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規格：中階(jie)梯(ti)光柵，52.67刻線(xian)/毫(hao)米(mi)，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態射頻發生器，小巧(qiao)有效

5. 40.68MHz頻率提(ti)高信噪比(bi)，改善了(le)檢出(chu)限

6. 自動匹配調節

7. 全組裝式炬管，降低(di)了維護成本

8. 計算機控制可變速10滾軸(zhou)四道(dao)或(huo)兩道(dao)蠕動泵，具有快速清洗功(gong)能

9. 實(shi)驗數據(ju)穩定性(xing)良好：重(zhong)復性(xing)

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩(wen)定性：RSD

≤2.0%（大于3小(xiao)時）

Plasma 2000型(xing)ICP-OES測定污泥中鋁、鈣、銅、鐵(tie)、鎂、鋅(xin)

鋼研納克

隨著城市污水處(chu)理(li)量的(de)(de)增加(jia)，處(chu)理(li)過程中(zhong)產(chan)生的(de)(de)污泥(ni)總量也在(zai)不斷上升。污泥(ni)中(zhong)除了含有豐富的(de)(de)有機物(wu)，還含有很多難以降解(jie)的(de)(de)金(jin)屬(shu)元素(su)，如(ru)果處(chu)理(li)不當會造(zao)成更為嚴重的(de)(de)二次污染。因此(ci)對污泥(ni)中(zhong)金(jin)屬(shu)元素(su)含量的(de)(de)監測(ce)尤(you)為重要(yao)。本文采用微波消解(jie)的(de)(de)前處(chu)理(li)方(fang)法，使用Plasma 2000型全譜電感耦合(he)等離子體發射光譜儀，建立了污泥(ni)中(zhong)鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅(xin)6種(zhong)元素(su)測(ce)量方(fang)法，加(jia)標(biao)回收率(lv)在(zai)93.4% - 106.6%之(zhi)間，方(fang)法可靠，適用于污泥(ni)中(zhong)金(jin)屬(shu)元素(su)的(de)(de)測(ce)定。

實驗過程

1

儀器特點

觀測方式：徑向觀測

分(fen)光(guang)系統(tong)：中(zhong)階梯光(guang)柵與棱鏡(jing)交叉色散結構，全譜瞬(shun)態直讀

檢(jian)測器：大(da)面積背照式CCD芯(xin)片(pian)，高(gao)紫(zi)外(wai)檢(jian)出效(xiao)率(lv)，國產ICP光譜儀廠(chang)家，寬動(dong)態范圍(wei)

光(guang)源：固態射(she)頻發生器，國產ICP光(guang)譜儀廠家，小(xiao)體積

2

儀器參數

表1 Plasma 2000工作條件

3

實驗方法

稱取(qu)一定(ding)量污泥樣品(pin)(pin)，加入(ru)一定(ding)比例的(de)混酸，使用(yong)微波消(xiao)解儀(yi)消(xiao)解。待樣品(pin)(pin)冷卻后(hou)取(qu)出，定(ding)容至(zhi)100mL容量瓶待測(ce)。

4

分析譜線

表2 Plasma 2000譜線(xian)選擇（nm）

5

標準曲線

Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標準溶(rong)液（國家鋼鐵材料測試中(zhong)心，1000 μg/mL）配制曲線濃度如表3 ，線性相(xiang)關系數(shu)大于0.999。

表(biao)3 標準曲線濃度(du)（μg/mL）

6

測定結果

在實際(ji)樣品中(zhong)加入被測元素，其加標回收率(lv)93.4%-106.6%為之間，滿足定量要(yao)求。

表4 實(shi)際樣品分析結果（%）

結論

本(ben)方法采(cai)用Plasma 2000電感(gan)耦合等(deng)離(li)子(zi)體發射光譜儀測(ce)定污水(shui)處(chu)理廠中(zhong)污泥中(zhong)重金屬元素，加標回收率介于93.4%-106.6%之間，國(guo)產ICP光譜儀價格，適用于污泥中(zhong)鋁、鈣(gai)、銅(tong)、鐵、鎂、鋅等(deng)元素的檢(jian)測(ce)。

鋼研納克：固(gu)態光源ICP，國產單(dan)道掃(sao)描ICP進入固(gu)態光源時代

穩(wen)健的全固態(tai)光(guang)源ICP光(guang)譜儀 鋼研納(na)克 Plasma 1500

全(quan)固態射(she)頻發生器，體積(ji)小、，全(quan)自(zi)動負載匹配，速度(du)快、精度(du)高，全(quan)固態光源ICP光譜儀(yi)能(neng)適應各(ge)種復雜基體樣品(pin)及揮發性的(de)測試，具(ju)有優異的(de)長期穩定性。

垂直炬管(guan)的(de)設(she)計，具有(you)更好的(de)樣品耐受(shou)性，減少了(le)清潔需求，降低了(le)備用炬管(guan)的(de)消耗。

簡潔的(de)炬管安裝定位(wei)設計，快速定位(wei)，的(de)位(wei)置重(zhong)現。

具有低(di)功率待(dai)機模(mo)式，待(dai)機時降(jiang)低(di)輸出功率，減(jian)小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約(yue)使用成本(ben)。

實時監控儀器運行參數(shu)，以太網及CAN工業現場總線(xian)，保障通訊可靠。