SU8模具制備流程

1.后烘

將曝光后(hou)的硅片放置在熱板上，進行后(hou)曝光烘(hong)烤(kao)，以確保(bao)光刻膠的交聯反應完成(cheng)。（舉例說明：目標膠厚度50um，設置溫度65℃，SU8模具加(jia)工設備報價(jia)，烘(hong)烤(kao)7min，然后(hou)溫度95℃，烘(hong)烤(kao)3min）

2.顯影

將硅(gui)片放入顯(xian)影(ying)劑中，使(shi)未(wei)曝光部分的光刻膠溶解，形(xing)成(cheng)模具的圖(tu)案。（顯(xian)影(ying)時(shi)間根(gen)據光刻膠厚度(du)和(he)顯(xian)影(ying)劑濃度(du)進行調整(zheng)，此處顯(xian)影(ying)時(shi)間20min）

3.清洗

將顯影(ying)后(hou)的硅片(pian)用異丙chun溶劑進行(xing)清洗，去除多余的光刻膠。

4.檢查

使用顯(xian)微鏡檢查(cha)制備的SU-8模具，測(ce)試觀察(cha)制備的微結構(gou)尺(chi)寸，確(que)認圖(tu)案(an)的清晰度(du)和質量(liang)。

頂旭（蘇(su)州(zhou)）微控(kong)(kong)(kong)技術有限公司是一(yi)家專注于微流(liu)控(kong)(kong)(kong)領域的(de)高科技企業，我們(men)致力于為客戶(hu)提供微流(liu)控(kong)(kong)(kong)芯片定制、表面(mian)修飾改性、微流(liu)控(kong)(kong)(kong)芯片加工設備(bei)、以(yi)及微流(liu)控(kong)(kong)(kong)儀器等(deng)全mian的(de)微流(liu)控(kong)(kong)(kong)解決方案(an)

桌面光刻機

曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)(yuan)：紫外LED光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)(yuan)波長：365nm;曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)面(mian)積：4英寸、6英寸可(ke)選；曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)方式：單面(mian)接觸式定時曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)；曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)分辨率(lv)：2um；曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)強度(du)：20~200mW/cm2可(ke)調(diao)；曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)不(bu)均勻性：≤5%；光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)(yuan)平(ping)行性：≤2°；光(guang)(guang)(guang)源(yuan)(yuan)(yuan)壽命：≥20000h；電源(yuan)(yuan)(yuan)輸入：AC220V±10V，SU8模(mo)具(ju)加工設備怎么樣，50HZ功率(lv)：250W重量：25kg外形尺寸：382（長）*371（寬）*435（高）工作環(huan)境(jing)：溫度(du)0℃-40 ℃，金(jin)華SU8模(mo)具(ju)加工設備，相對濕度(du)＜80 %

熱板

溫度(du)：0~300℃溫度(du)穩定性(xing)：±1℃功率：850W臺面大小：200x200mm

公(gong)司團隊(dui)擁(yong)有(you)豐富的經驗和(he)技術積(ji)累，持續將專ye知識與創新思(si)維相結合(he)，SU8模具(ju)加工設備公(gong)司，為客戶提供高(gao)品pin質的解決方(fang)案。我們將始終堅(jian)持以客戶為中心(xin)，不斷挑戰自我，不斷追(zhui)求卓yue，通(tong)過專ye、創新和(he)合(he)作，為客戶創造更(geng)大的價值，共同kai創微(wei)流控領域的美好未來。