在(zai)20世(shi)紀80年代(dai)ICP-MS的(de)研(yan)究主要(yao)集中(zhong)在(zai)儀器分(fen)(fen)析(xi)(xi)特點(dian)的(de)討論、潛力的(de)發掘以(yi)及一(yi)些簡單樣品(pin)的(de)分(fen)(fen)析(xi)(xi)上， 隨著(zhu)應(ying)用的(de)深入和(he)被分(fen)(fen)析(xi)(xi)樣品(pin)的(de)復雜化，90年代(dai)ICP-MS在(zai)一(yi)方面被用來完(wan)成極為(wei)困難的(de)分(fen)(fen)析(xi)(xi)任務，其樣品(pin)處理(li) 和(he)進樣裝置常常需要(yao)作特別的(de)考慮和(he)設計(ji)，甚至整個儀器都需改裝，而在(zai)另一(yi)方面，作為(wei)快速、簡便、有(you)力的(de)分(fen)(fen)析(xi)(xi)工具，ICP-MS正逐漸(jian)應(ying)用到(dao)生產或其它研(yan)究的(de)例(li)行(xing)分(fen)(fen)析(xi)(xi)中(zhong)，每天可測量(liang)數百個樣品(pin)，提供大量(liang)的(de)數據。

就儀器(qi)(qi)(qi)本身而言(yan)，以扇形(xing)磁鐵代替(ti)四極桿形(xing)成HR-ICP-MS的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)術已(yi)(yi)經成熟并實(shi)現了商(shang)(shang)業(ye)化(hua)，這(zhe)種高分辨率的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)能力在許多應用領域中都是很有價值的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)。以多接(jie)收檢測(ce)器(qi)(qi)(qi)代替(ti)單接(jie)收檢測(ce)器(qi)(qi)(qi)也是儀器(qi)(qi)(qi)發展的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)趨勢，尤其是對同位 素(su)比值精密分析(xi)來(lai)說這(zhe)是極為必要的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)。多種儀器(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)一(yi)體化(hua)，如TJA公(gong)司(si)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)POEMSII型(xing)和III型(xing)將(jiang)ICP-OES和ICP- MS融為一(yi)體，FinniganMAT公(gong)司(si)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)Sola型(xing)則(ze)可以實(shi)現ICP源與GD源的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)自動轉(zhuan)換，儀器(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)操(cao)作軟件將(jiang)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)易于(yu)操(cao)作且功能將(jiang)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)強大，整個儀器(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)自動化(hua)程度會不斷提高。以飛(fei)行(xing)時(shi)間為質量分析(xi)器(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)ICP-MS現在已(yi)(yi)經由(you) LECO和GBC公(gong)司(si)實(shi)現了商(shang)(shang)品化(hua)。

在所有ICP-MS技術(shu)的發展(zhan)和改進(jin)中(zhong)，進(jin)樣(yang)(yang)及聯用技術(shu)始終(zhong)是(shi)其為活(huo)躍的研究領域之(zhi)一，盡管(guan)諸如HPLC、 IC、FI、ETV、LA等(deng)樣(yang)(yang)品(pin)處理(li)和進(jin)樣(yang)(yang)裝置已經實(shi)現了商業化并(bing)可很(hen)容易(yi)地與ICP-MS進(jin)行耦合，但這(zhe)方面的研究 和應(ying)用仍將是(shi)今后(hou)ICP-MS發展(zhan)的重點。FI已經發展(zhan)成為一種(zhong)在線(xian)自(zi)動化的樣(yang)(yang)品(pin)預(yu)處理(li)技術(shu)，并(bing)使多種(zhong)分(fen)析(xi)(xi)技術(shu) 的在線(xian)聯機檢測成為可能，這(zhe)對(dui)核工業中(zhong)中(zhong)、強(qiang)性的樣(yang)(yang)品(pin)分(fen)析(xi)(xi)來說往往是(shi)至(zhi)關重要(yao)的。隨著人們對(dui)生(sheng)物學、核工業等(deng)領域中(zhong)元素的存在形態日益重視，色(se)譜與ICP-MS的聯用技術(shu)已經得到了長足的發展(zhan)和應(ying)用。

空白(bai)樣品檢測結果(guo)異常(chang)可能(neng)是由多(duo)種(zhong)原因引起的。除了之前(qian)提到的一些因素，還可能(neng)包(bao)括以下原因：

氣源(yuan)問(wen)題：氬氣等(deng)氣源(yuan)的純(chun)度不夠或(huo)存(cun)在雜質，可能(neng)影響空白樣品的檢測。

樣(yang)品(pin)容器(qi)污染：用于存放空白樣(yang)品(pin)的(de)容器(qi)可(ke)能受到污染，導致空白樣(yang)品(pin)結果異常。

靜電(dian)干(gan)擾：靜電(dian)可能對儀器的檢測產(chan)生干(gan)擾，尤其(qi)在干(gan)燥環境中更容易(yi)出現。

參(can)數(shu)(shu)設置不(bu)(bu)當：儀(yi)器的某些參(can)數(shu)(shu)設置不(bu)(bu)合適，如霧(wu)化氣流量、等離子體功率等，可能(neng)影響空白(bai)樣品的檢(jian)測(ce)。

軟件(jian)問題：儀器(qi)的軟件(jian)可能存(cun)在故障(zhang)或錯誤，導致(zhi)數據處理異常。

外部干(gan)擾(rao)源：附近的電磁輻射(she)、振(zhen)動等外部干(gan)擾(rao)源可(ke)能影響儀器的正常工作。

要(yao)解決這些問題，可以嘗試以下(xia)方法：

檢查和優化氣源，確保氣源的純(chun)度(du)和穩定(ding)性。

清洗或更換樣品容器，避免(mian)污(wu)染。

控制實驗(yan)室的濕度，減少靜電干擾的可能性。

仔細檢(jian)查和調整儀(yi)器的(de)參數設置(zhi)，根據實(shi)際情況(kuang)進行優化。

檢查軟件是(shi)否需(xu)要(yao)更(geng)新或重新安裝，確(que)保軟件正常運(yun)行。

排除(chu)外部干擾源(yuan)，如移動干擾源(yuan)或對儀器(qi)進行(xing)屏蔽防護。

如(ru)果 ICP-MS 質(zhi)譜(pu)儀的(de)靈敏(min)度低，可能有以下一些(xie)原因和(he)解決方(fang)法???

樣品制備問題：確保樣品的(de)制備方(fang)法正確，避(bi)免(mian)污染或損(sun)失(shi)。

儀器校(xiao)準：定期進行儀器的校(xiao)準和(he)質量校(xiao)正，確保儀器的準確性。

離(li)子(zi)源(yuan)條(tiao)件：優化(hua)離(li)子(zi)源(yuan)的參(can)數(shu)，如(ru)射頻功(gong)率、氣(qi)體流量等(deng)，以(yi)提高(gao)離(li)子(zi)化(hua)效率。

接口和(he)錐體維護：定期清(qing)潔和(he)維護接口和(he)錐體，以減少(shao)離子傳輸(shu)的損失。

檢測(ce)器(qi)性(xing)能：檢查(cha)檢測(ce)器(qi)的狀態，確保其(qi)正(zheng)常工作。

質譜干擾：排除可(ke)能存(cun)在的質譜干擾，如基(ji)質效(xiao)應、多原子離子等。

氣體(ti)質量：使用高純度的氣體(ti)，以避(bi)免氣體(ti)不純對靈敏(min)度的影響。

樣(yang)品提(ti)升(sheng)率(lv)：檢查樣(yang)品的提(ti)升(sheng)率(lv)是否合適，過低(di)(di)的提(ti)升(sheng)率(lv)可能導致靈敏度降低(di)(di)。

儀(yi)器(qi)老化或故障：如(ru)果儀(yi)器(qi)使用時間(jian)較長或出現故障，可(ke)能(neng)需要(yao)進行維修或部(bu)件更換。要(yao)解決(jue)靈敏度低的問題，可(ke)能(neng)需要(yao)綜合考慮以上因素，并進行逐(zhu)步排查和(he)優化。

3. 如何進行(xing)儀(yi)器的校(xiao)準和(he)質量校(xiao)正(zheng)？

進行(xing) ICP-MS 質(zhi)譜儀(yi)的(de)校準(zhun)和(he)質(zhi)量校正(zheng)可(ke)以確保(bao)儀(yi)器的(de)準(zhun)確性(xing)和(he)可(ke)靠性(xing)，具體步驟如(ru)下???

硬件校準：

進(jin)行電子(zi)學參(can)數的校準，包括離子(zi)能量、離子(zi)束流、放大(da)器增益(yi)等。

進行離(li)子(zi)光(guang)學(xue)系統的校準(zhun)，包括離(li)子(zi)傳(chuan)輸效率、離(li)子(zi)聚焦(jiao)等(deng)。

元素校準：

使用標準溶液(ye)進行元素的校準，可以選擇物(wu)質(zhi)或商業標準物(wu)質(zhi)。

根據標準溶(rong)液的濃度和(he)質譜儀的響應(ying)信號，建立元(yuan)素(su)的校準曲線(xian)。

根據校準曲線，對(dui)未知(zhi)樣品進行濃度的(de)測(ce)量和計(ji)算。

質量校正：

進(jin)行質量的(de)校正，以消除(chu)同位(wei)素(su)的(de)影響。

進行質(zhi)量偏差的校正，以保證不(bu)同質(zhi)量數的離子有相(xiang)同的響應信號。

在(zai)校準和(he)質(zhi)量校正過程(cheng)中，電感耦合等離子體(ti)質(zhi)譜廠家，需要(yao)注意以下幾點???

選擇合(he)適的(de)標準溶液和校準方法(fa)，以確保(bao)校準結(jie)果的(de)準確性。

定期(qi)進(jin)行(xing)校準和質量校正，以保證儀器的準確(que)性和穩定性。

記錄(lu)校準和質量校正的結果，以便(bian)后續分(fen)析時參考。

需(xu)要(yao)注(zhu)意的(de)(de)是(shi)，不同的(de)(de)儀(yi)器型(xing)號和(he)分析要(yao)求(qiu)可能會(hui)對校(xiao)準和(he)質量校(xiao)正有具體(ti)的(de)(de)要(yao)求(qiu)，因此(ci)好參考儀(yi)器的(de)(de)操作手(shou)冊和(he)制造(zao)商的(de)(de)建議進(jin)行操作。