氦質譜檢(jian)(jian)漏(lou)法(fa)(fa)(fa)由于其(qi)(qi)高(gao)的(de)(de)靈敏度(du)、方法(fa)(fa)(fa)的(de)(de)多樣性、對各(ge)種試件的(de)(de)適應性以(yi)及無(wu)破(po)壞性，使其(qi)(qi)廣(guang)泛(fan)應用。氦質譜檢(jian)(jian)漏(lou)方法(fa)(fa)(fa) 以(yi)其(qi)(qi)高(gao)靈敏度(du)和(he)準確性而通常應用于整體防(fang)漏(lou)等級(ji)較高(gao)的(de)(de)壓力(li)容(rong)器上。 氦檢(jian)(jian)方法(fa)(fa)(fa)基(ji)本上可分為(wei)用氦氣內(nei)(nei)部(bu)加壓法(fa)(fa)(fa)和(he) 設(she)備(bei)內(nei)(nei)部(bu)抽真空外部(bu)施氦這(zhe)兩(liang)種。對檢(jian)(jian)漏(lou)方法(fa)(fa)(fa)的(de)(de)要求：能(neng)(neng)定(ding)(ding)位、定(ding)(ding)量，即不(bu)經能(neng)(neng)夠找出(chu)漏(lou)孔(kong)的(de)(de)位置，還能(neng)(neng)知道(dao)漏(lou)率的(de)(de)大(da)小，以(yi)便確定(ding)(ding)是否(fou)合乎質量要求；能(neng)(neng)無(wu)損(sun)檢(jian)(jian)漏(lou)，不(bu)使被(bei)檢(jian)(jian)設(she)備(bei)受(shou)到損(sun)傷和(he)污染(ran)。

測漏(lou)(lou)壓力(li)應不高(gao)于(yu)設備設計壓力(li)的2 5 %，但不低于(yu)0. 1 03MP。設備備保壓3 0分鐘后， 用掃描率不大(da)于(yu)2 5 mm/秒或更(geng)慢的速度在(zai)距(ju)離焊縫(feng)表面不大(da)于(yu)3 mm的范圍(wei)內(nei)用吮(shun)吸， 并應從焊縫(feng)底部至上(shang)而行(xing)。氦(hai)質譜檢(jian)(jian)漏(lou)(lou)主要領域：電(dian)力(li)工(gong)業(ye)——高(gao)壓開關、避雷(lei)器、發電(dian)廠冷凝器系統；電(dian)力(li)工(gong)業(ye)——電(dian)子器件、半(ban)導(dao)體、傳感器和積成電(dian)路；對(dui)檢(jian)(jian)漏(lou)(lou)方法(fa)的要求(qiu)：能(neng)定(ding)(ding)位(wei)、定(ding)(ding)量，即不經能(neng)夠找出漏(lou)(lou)孔的位(wei)置，還能(neng)知道漏(lou)(lou)率的大(da)小，以便確(que)定(ding)(ding)是否合乎質量要求(qiu)；能(neng)無損檢(jian)(jian)漏(lou)(lou)，不使被檢(jian)(jian)設備受到(dao)損傷和污染；

對于(yu)分裝(zhuang)或(huo)總(zong)裝(zhuang)，采(cai)用(yong)吸入法。被(bei)檢(jian)(jian)(jian)工(gong)件(jian)沖入氦(hai)(hai)-氮(dan)混合氣體(ti)，利用(yong)被(bei)檢(jian)(jian)(jian)工(gong)件(jian)裝(zhuang)配面(mian)或(huo)疑是漏(lou)(lou)點進(jin)行找漏(lou)(lou)。檢(jian)(jian)(jian)漏(lou)(lou)儀顯(xian)示數值超過規定值即為有(you)漏(lou)(lou)。對于(yu)體(ti)積(ji)較大的(de)(de)工(gong)件(jian)，家電(dian)行業檢(jian)(jian)(jian)漏(lou)(lou)設(she)備，采(cai)用(yong)背壓發(fa)，按照工(gong)件(jian)體(ti)積(ji)的(de)(de)大小(xiao)試用(yong)不同大小(xiao)的(de)(de)檢(jian)(jian)(jian)漏(lou)(lou)罐。通常把被(bei)檢(jian)(jian)(jian)工(gong)件(jian)沖入0.6MPa的(de)(de)純氦(hai)(hai)或(huo)氦(hai)(hai)（含量30%）-氮(dan)混合氣體(ti)，然后放入檢(jian)(jian)(jian)漏(lou)(lou)罐中(zhong)。漏(lou)(lou)孔距(ju)離質譜室的(de)(de)距(ju)離檢(jian)(jian)(jian)漏(lou)(lou)儀反(fan)應時(shi)間(jian)也不同，所以噴氦(hai)(hai)氣應先(xian)從靠近檢(jian)(jian)(jian)漏(lou)(lou)儀的(de)(de)一側開始由近至遠進(jin)行。