中子料位計產品原理

華科HC-5000型中子(zi)料(liao)位計每(mei)塔(ta)(ta)安(an)裝三個(ge)檢測(ce)點(dian)，底部(bu)檢測(ce)點(dian)用于防水(shui)排(pai)空條件判(pan)定，可(ke)參與卸底蓋(gai)邏輯條件判(pan)斷，中部(bu)檢測(ce)點(dian)用于消泡劑(ji)注入時機判(pan)斷，焦炭塔(ta)(ta)測(ce)料(liao)位維(wei)修，消泡效果觀察及判(pan)定，焦炭塔(ta)(ta)測(ce)料(liao)位，切(qie)塔(ta)(ta)時機預判(pan)；上部(bu)檢測(ce)點(dian)作為上限(xian)報(bao)警點(dian)，以(yi)此為安(an)全生產區，用于泡沫高限(xian)報(bao)警、切(qie)塔(ta)(ta)時機判(pan)斷和改水(shui)溢流順控判(pan)定。

結合注油(you)信號的(de)注油(you)時間與到達檢測點的(de)時間，焦炭(tan)(tan)塔(ta)測料位原理，可推算出物(wu)質上(shang)(shang)升(sheng)(sheng)速(su)度(du)，可對泡沫(mo)層(ceng)、焦炭(tan)(tan)層(ceng)的(de)上(shang)(shang)沿高(gao)度(du)進行預判，并可在中部(bu)檢查(cha)點進一步(bu)修正物(wu)質上(shang)(shang)升(sheng)(sheng)速(su)度(du)，更加直觀(guan)的(de)顯示(shi)塔(ta)內各物(wu)質的(de)高(gao)度(du)。

中子料位計的缺陷

由上(shang)分析可知(zhi)焦(jiao)炭塔(ta)的(de)(de)(de)五種(zhong)料(liao)位(wei)(wei)變(bian)化(hua)都能(neng)夠(gou)反映到(dao)中(zhong)(zhong)(zhong)子料(liao)位(wei)(wei)計(ji)的(de)(de)(de)慢(man)中(zhong)(zhong)(zhong)子的(de)(de)(de)數(shu)(shu)量變(bian)化(hua)上(shang)，從而(er)能(neng)夠(gou)得到(dao)焦(jiao)炭塔(ta)料(liao)位(wei)(wei)的(de)(de)(de)變(bian)化(hua)，但這(zhe)種(zhong)檢測(ce)是(shi)通過慢(man)中(zhong)(zhong)(zhong)子數(shu)(shu)量的(de)(de)(de)跳變(bian)而(er)得出的(de)(de)(de)料(liao)位(wei)(wei)界面變(bian)化(hua)，其(qi)物質料(liao)位(wei)(wei)本身的(de)(de)(de)真(zhen)實高(gao)度(du)卻(que)無法實時檢測(ce)，所(suo)以中(zhong)(zhong)(zhong)子料(liao)位(wei)(wei)計(ji)實質上(shang)是(shi)一個(ge)料(liao)位(wei)(wei)開關，只能(neng)檢測(ce)中(zhong)(zhong)(zhong)子料(liao)位(wei)(wei)計(ji)安裝點(dian)的(de)(de)(de)料(liao)位(wei)(wei)突變(bian)情況，而(er)無法得知(zhi)焦(jiao)炭塔(ta)內各個(ge)料(liao)位(wei)(wei)的(de)(de)(de)真(zhen)實數(shu)(shu)值(zhi)。

焦炭(tan)塔物位檢測的必要(yao)性

不(bu)同于高壓鍋(guo)蒸米(mi)飯的(de)(de)(de)定量過(guo)程(cheng)(cheng)(cheng)(cheng)，焦炭(tan)(tan)塔(ta)生焦過(guo)程(cheng)(cheng)(cheng)(cheng)是(shi)一個(ge)連續的(de)(de)(de)進料(liao)(liao)過(guo)程(cheng)(cheng)(cheng)(cheng)。除塔(ta)內的(de)(de)(de)氣(qi)相的(de)(de)(de)油氣(qi)外(wai)，氣(qi)液(ye)共存的(de)(de)(de)稀泡(pao)沫，焦炭(tan)(tan)塔(ta)測(ce)(ce)料(liao)(liao)位安裝檢測(ce)(ce)，近乎(hu)液(ye)體的(de)(de)(de)濃泡(pao)沫，固體的(de)(de)(de)焦炭(tan)(tan)隨著進料(liao)(liao)過(guo)程(cheng)(cheng)(cheng)(cheng)，其(qi)高度在(zai)不(bu)斷變化。因此在(zai)生焦過(guo)程(cheng)(cheng)(cheng)(cheng)需(xu)要對焦炭(tan)(tan)塔(ta)內的(de)(de)(de)三種物位進行檢測(ce)(ce)。焦炭(tan)(tan)塔(ta)在(zai)除焦過(guo)程(cheng)(cheng)(cheng)(cheng)中的(de)(de)(de)冷焦階段同樣需(xu)要檢測(ce)(ce)冷焦水的(de)(de)(de)高度。所以整個(ge)焦炭(tan)(tan)塔(ta)的(de)(de)(de)循(xun)環使用過(guo)程(cheng)(cheng)(cheng)(cheng)中需(xu)要檢測(ce)(ce)四(si)中不(bu)同的(de)(de)(de)物位。