ICP-MS簡述

20世紀60年代末期，采用電感耦合等離子體源的原子光譜技術成為當時應用于微量元素分析的一項非常有前

途的技術（Greenfield等，國產ICP-MS質譜儀價格，1964； Wendt與Fassel， 1965）。但在分析超低含量物質時由于背景光譜增強，光譜干擾

嚴重使分析靈敏度和準確度達不到要求。只有質譜法能同時滿足譜圖簡單、分辨率適中和較低檢出限的要求。因此， ICP-AES所具有的樣品易于引入、分析速度快、多元素同時分析的特點與質譜儀的聯用成為科學和商業上研究的

熱點。1970年許多公司深入的參與了該技術的研究，國產ICP-MS質譜儀廠家，CP作為發射源使等離子體中分析物有效電離能夠滿足新一代

儀器源的要求。同時也注意到惰性氣體在大氣壓下的電等離子體可能是一個很好的離子源。因此人們采用四極桿 質量分析器和通道式離子檢測器開展可行性研究。Gral在70年代中期首先報道了用等離子體作為離子源的質譜分 析法。1981年Gray在Surrey實驗室設計完成了 ICP源上所預期性能的設備，獲得了張ICP譜圖。1983年英 國VG公司與加拿***ciex公司推出商業化的ICP-MS，1984年在用戶實驗室才安裝ICP-MS。在此以后 ICP-MS在化學分析中廣泛應用開來。

這些干擾要有效識別和消除 ICP-MS 質譜儀中的干擾，可以采取以下一些方法

干擾校正方程：通過建立干擾校正方程，利用已知的干擾元素和目標元素的關系，對干擾進行校正。

內標法：使用內標元素來監測和校正信號的變化，以補償基體效應和其他干擾。

碰撞/反應池技術：利用碰撞/反應池來去除或降低多原子離子、分子離子等干擾。

選擇合適的質量數：避免選擇受到嚴重干擾的質量數，或者采用高分辨率質譜儀來區分干擾和目標離子。

優化儀器參數：調整射頻功率、離子源氣體流量等參數，國產ICP-MS質譜儀，以減少干擾的影響。

樣品前處理：適當的樣品前處理方法可以去除干擾物質，如稀釋、萃取、凈化等。

同位素比值測量：通過測量同位素比值，國產ICP-MS質譜儀廠家，可以消除一些干擾的影響，并提供的分析結果。

質量篩選：利用質量篩選技術，只監測特定質量數范圍內的離子，減少干擾的干擾。

數據處理方法：采用合適的數據處理軟件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，來校正干擾。

標準加入法：通過添加已知濃度的標準物質到樣品中，校正基體效應和干擾。

識別和消除干擾需要綜合考慮多種方法，并根據具體的分析需求和樣品特點選擇合適的策略。同時，定期進行質量控制和方法驗證也是確保干擾得到有效校正的重要步驟。

ICP-MS理想的樣品制備應該達到以下幾條標準

? 將固體和液體樣品轉換為澄清溶液

? 完全消解了所有的有機物質

? 保留所有目標檢測元素，并且元素濃度在儀器的檢測范圍內

? 未引入新的干擾離子

? 將樣品的粘度和固體物含量調節到適合分析的范圍

? 確保所有的樣品容器都進行過酸液浸泡的前處理，以保證的檢出限

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