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ZL205A微弧氧化膜(mo)層耐蝕(shi)性能(neng)研(yan)究
利(li)用硅(gui)酸(suan)鹽(yan)復合電(dian)解液體系,鈦合金(jin)微(wei)弧(hu)氧化技術,在ZL205A上采用微(wei)弧(hu)氧化法制(zhi)備(bei)膜(mo)層(ceng)。
所用的(de)工藝參數(shu)為:恒(heng)流控制,電(dian)流密(mi)度3 A/dm^2,PEO技術(shu)微弧氧化,頻率500 Hz,終止(zhi)電(dian)壓(ya)450 V。利用掃描電(dian)鏡對該膜層的(de)形(xing)貌(mao)及(ji)結構進行(xing)分(fen)析(xi);對膜層的(de)化學(xue)成分(fen)進行(xing)分(fen)析(xi);采用極化曲(qu)線評價膜層的(de)耐(nai)蝕性。
結果表明:所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。
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