由(you)于具(ju)有的(de)(de)(de)(de)(de)物(wu)理化(hua)學性能，當代科(ke)學技(ji)術的(de)(de)(de)(de)(de)飛(fei)速(su)發(fa)展，將會(hui)越來越多的(de)(de)(de)(de)(de)應用于國民經濟(ji)中的(de)(de)(de)(de)(de)航空、航天、航海(hai)、火箭、原子(zi)能、微(wei)電子(zi)技(ji)術等(deng)(deng)高(gao)科(ke)技(ji)領域及(ji)石油化(hua)工、化(hua)學工業、汽(qi)車(che)尾氣凈化(hua)等(deng)(deng)與人類生活息息相關(guan)的(de)(de)(de)(de)(de)領域，大連純銀(yin)板材，并在眾多的(de)(de)(de)(de)(de)應用領域中起著關(guan)鍵的(de)(de)(de)(de)(de)的(de)(de)(de)(de)(de)作(zuo)用，純銀(yin)板材工藝，因(yin)此被(bei)譽(yu)為“首要(yao)高(gao)技(ji)術金屬(shu)”、“現代工業的(de)(de)(de)(de)(de)維生素(su)”“現代新金屬(shu)”，發(fa)達的(de)(de)(de)(de)(de)國家長期以來一(yi)直把視為“戰略性物(wu)質(zhi)”。

熱(re)(re)壓(ya)(ya)法：ITO靶材(cai)的(de)熱(re)(re)壓(ya)(ya)制作過(guo)程是在石墨(mo)或(huo)氧化鋁制的(de)模具內充填入適當粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的(de)壓(ya)(ya)力(li)(li)單軸向(xiang)加(jia)壓(ya)(ya)，同時以1000℃～1600℃進(jin)行燒結(jie)(jie)。熱(re)(re)壓(ya)(ya)工藝制作過(guo)程所需的(de)成(cheng)型壓(ya)(ya)力(li)(li)較(jiao)小，燒結(jie)(jie)溫度(du)較(jiao)低(di)，燒結(jie)(jie)時間較(jiao)短。但(dan)熱(re)(re)壓(ya)(ya)法生產的(de)ITO靶材(cai)由(you)于(yu)缺氧率高，氧含量分布不均勻，純銀板材(cai)加(jia)工，從而影響了生產ITO薄膜的(de)均勻性，且不能生產大尺寸的(de)靶。

金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊(ji)的(de)目標材料。有金屬類(lei)、合金類(lei)、氧化物類(lei)等(deng)等(deng)。

簡(jian)單說的(de)話(hua)，純(chun)銀(yin)板材(cai)(cai)回收，例(li)如：蒸發磁(ci)控濺(jian)射鍍膜(mo)是加熱(re)蒸發鍍膜(mo)......鋁膜(mo)等。更換不(bu)同的(de)靶材(cai)(cai)（如鋁、銅(tong)、不(bu)銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不(bu)同的(de)膜(mo)系（如超硬、耐(nai)磨、防腐的(de)合金膜(mo)等）。

應用(yong)于顯示(shi)屏的(de)阻擋(dang)層或調色層，筆記(ji)本電(dian)(dian)腦的(de)裝(zhuang)(zhuang)飾層、電(dian)(dian)池的(de)封(feng)裝(zhuang)(zhuang)等.