在(zai)(zai)潔凈室(shi)內(nei)(nei)(nei)高xioa空氣(qi)過(guo)濾(lv)(lv)器(或(huo)超高xiao空氣(qi)過(guo)濾(lv)(lv)器)布置在(zai)(zai)頂棚或(huo)側面，從(cong)(cong)(cong)送風(feng)(feng)口到回(hui)風(feng)(feng)口，氣(qi)流(liu)(liu)流(liu)(liu)經(jing)途中的(de)斷(duan)(duan)(duan)面幾(ji)乎沒有什么變化(hua)，萬(wan)級凈化(hua)廠房(fang)設計，加上送風(feng)(feng)靜壓箱和高xiao過(guo)濾(lv)(lv)器的(de)均壓作(zuo)用，使(shi)得全室(shi)斷(duan)(duan)(duan)面上的(de)流(liu)(liu)速比(bi)較均勻，而至(zhi)少在(zai)(zai)工作(zuo)區內(nei)(nei)(nei)流(liu)(liu)線(xian)單(dan)向平(ping)行，沒有渦流(liu)(liu)。干凈的(de)氣(qi)流(liu)(liu)不是(shi)一(yi)股或(huo)幾(ji)股，而是(shi)充滿全室(shi)斷(duan)(duan)(duan)面，所以這種(zhong)潔凈室(shi)不是(shi)靠參混稀釋作(zuo)用，而是(shi)靠推出作(zuo)用將室(shi)內(nei)(nei)(nei)臟(zang)空氣(qi)沿整個(ge)斷(duan)(duan)(duan)面排至(zhi)室(shi)外，從(cong)(cong)(cong)而達(da)到凈化(hua)室(shi)內(nei)(nei)(nei)空氣(qi)的(de)目的(de)  空氣(qi)經(jing)架(jia)空地板回(hui)至(zhi)循(xun)環風(feng)(feng)機，從(cong)(cong)(cong)而形(xing)成上送下(xia)回(hui)的(de)垂直單(dan)向流(liu)(liu)流(liu)(liu)型。

潔(jie)凈室中(zhong)的(de)溫濕度控制：

    潔凈空間的(de)溫(wen)濕度(du)主要是根(gen)據(ju)工(gong)藝要求(qiu)來(lai)確定，但在滿(man)足工(gong)藝要求(qiu)的(de)條(tiao)件下，應考慮到人的(de)舒適(shi)度(du)感。隨著空氣(qi)潔凈度(du)要求(qiu)的(de)提高(gao)，出(chu)現了工(gong)藝對溫(wen)濕度(du)的(de)要求(qiu)也越來(lai)越嚴的(de)趨勢。

    具體工藝(yi)(yi)對溫(wen)(wen)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求以(yi)后還要(yao)列舉(ju)，但(dan)作為總的(de)(de)(de)(de)原則(ze)看，由(you)于加工精度(du)(du)越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)精細，所以(yi)對溫(wen)(wen)度(du)(du)波(bo)動范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)求越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。例如在大(da)規(gui)模集成電路生產的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻曝光(guang)工藝(yi)(yi)中(zhong)，作為掩膜板材料(liao)的(de)(de)(de)(de)玻璃與硅片的(de)(de)(de)(de)熱膨(peng)脹系數的(de)(de)(de)(de)差要(yao)求越(yue)(yue)(yue)來越(yue)(yue)(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片，溫(wen)(wen)度(du)(du)上升1度(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線性膨(peng)脹，所以(yi)必須(xu)有±0.1度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫(wen)(wen)，同時(shi)要(yao)求濕度(du)(du)值一般較低，南京萬級凈化廠房，因為人出汗以(yi)后，對產品(pin)將有污(wu)染，特別(bie)是(shi)怕鈉的(de)(de)(de)(de)半(ban)導體車(che)間，這(zhe)種車(che)間不宜超過25度(du)(du)。

    濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)過高(gao)產生的(de)問題更多。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)超過55%時(shi)，冷卻(que)水管壁上會(hui)結露，如果發(fa)(fa)生在(zai)(zai)精密(mi)裝置或電路中，就會(hui)引(yin)起各種事(shi)故。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)易生銹(xiu)。此外，濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)太(tai)高(gao)時(shi)將通(tong)過空氣(qi)中的(de)水分子(zi)(zi)把硅(gui)(gui)片表面粘著的(de)灰塵化學吸附在(zai)(zai)表面耐(nai)難(nan)以清(qing)除。相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)越高(gao)，萬(wan)級凈化廠房安裝，粘附的(de)難(nan)去掉(diao)，但當相(xiang)對(dui)濕(shi)(shi)(shi)(shi)度(du)(du)(du)低于30%時(shi)，又由于靜電力的(de)作用(yong)使粒子(zi)(zi)也容易吸附于表面，萬(wan)級凈化廠房裝修，同時(shi)大量半導體器件容易發(fa)(fa)生擊(ji)穿。對(dui)于硅(gui)(gui)片生產蕞佳溫度(du)(du)(du)范圍為35—45%。

   潔凈室是指(zhi)將一(yi)(yi)定(ding)(ding)空間范圍內(nei)(nei)之空氣(qi)中的微粒子、有害(hai)空氣(qi)、菌等(deng)之污染(ran)物排(pai)除，并(bing)將室內(nei)(nei)之溫度(du)(du)、潔凈度(du)(du)、室內(nei)(nei)壓力、氣(qi)流速度(du)(du)與(yu)氣(qi)流分(fen)布(bu)、噪音振(zhen)動及(ji)照明、靜電控制在(zai)某(mou)一(yi)(yi)需求(qiu)范圍內(nei)(nei)，而所給予特(te)別(bie)設計之房間。亦即(ji)是不(bu)論外在(zai)之空氣(qi)條件如(ru)何(he)變化，其室內(nei)(nei)均(jun)能俱有維(wei)持(chi)原先所設定(ding)(ding)要求(qiu)之潔凈度(du)(du)、溫濕(shi)度(du)(du)及(ji)壓力等(deng)性能之特(te)性。

    液體制劑GMP車間的(de)(de)凈化參數1、換氣次(ci)數：100000級(ji)(ji)≥15次(ci)；10000級(ji)(ji)≥20次(ci)；1000≥30次(ci)。壓(ya)差(cha)：主車間對相鄰房(fang)間≥5Pa平(ping)均風(feng)速：10級(ji)(ji)、100級(ji)(ji)0.3－0.5m/s；溫(wen)度(du)(du) 冬季(ji)>16℃；夏(xia)季(ji) <26℃；波動±2℃。 2、溫(wen)度(du)(du)45－65%；GMP車間濕度(du)(du)在50%左(zuo)右為宜(yi)；電(dian)子車間濕度(du)(du)略高以免(mian)產生靜(jing)電(dian)。噪聲≤65dB（A）；新風(feng)補充量(liang)是總送風(feng)量(liang)的(de)(de)10%－30%；照度(du)(du)300LX