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微弧氧(yang)化材料表(biao)面陶(tao)瓷化機理
微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對金屬材料進行表面處理的技術。由于采用了較高的電壓(大于250 V),在微弧氧化處理過程中,可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現象。光斑十分細小,密度很大,且無固定位置。這種細小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區,在微區內瞬間溫度可達2500℃以上,壓力可達數百個大氣壓,為上面提到的一系列化學、物理反應的進行創造了條件。利用這一環境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層,可用來改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。
微弧(hu)氧化(hua)膜(mo)(mo)(mo)層生(sheng)(sheng)長(chang)時(shi)(shi),首先(xian)在(zai)基體(ti)(ti)表面發生(sheng)(sheng)化(hua)學反(fan)應,生(sheng)(sheng)成(cheng)(cheng)一(yi)層陽極氧化(hua)膜(mo)(mo)(mo)。當增大反(fan)應電(dian)壓時(shi)(shi),膜(mo)(mo)(mo)層厚度會(hui)進(jin)一(yi)步(bu)增加(jia),厚度會(hui)隨之增加(jia)。但是當反(fan)應電(dian)壓增加(jia)到一(yi)定程(cheng)度時(shi)(shi),膜(mo)(mo)(mo)層會(hui)由于(yu)(yu)不能承受該(gai)工(gong)作(zuo)電(dian)壓發生(sheng)(sheng)放電(dian)再擊(ji)穿,產(chan)生(sheng)(sheng)等離子(zi)放電(dian)。反(fan)應的高溫將(jiang)使膜(mo)(mo)(mo)層發生(sheng)(sheng)熔(rong)融,基體(ti)(ti)元素由于(yu)(yu)處在(zai)富氧環境中,將(jiang)形(xing)成(cheng)(cheng)氧化(hua)物。同時(shi)(shi)由于(yu)(yu)是在(zai)電(dian)解液中,微弧(hu)氧化(hua)技術原理,熔(rong)融物將(jiang)瞬間冷凝,在(zai)基體(ti)(ti)表面生(sheng)(sheng)成(cheng)(cheng)一(yi)層陶瓷(ci)。陶瓷(ci)膜(mo)(mo)(mo)的生(sheng)(sheng)成(cheng)(cheng),將(jiang)導致工(gong)作(zuo)電(dian)壓進(jin)一(yi)步(bu)升高,膜(mo)(mo)(mo)層再次被擊(ji)穿,膜(mo)(mo)(mo)層厚度進(jin)一(yi)步(bu)增加(jia)。周而復始,表面微弧(hu)氧化(hua)技術,膜(mo)(mo)(mo)層得以生(sheng)(sheng)長(chang)。
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