鋼研納克(ke)雙向(xiang)觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出(chu) 限：亞(ya) ppb- ppb 短期(qi)穩(wen)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期(qi)穩(wen)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固(gu)態(tai)射(she)頻發生器(qi)，功率(lv)連續(xu) 1 瓦(wa)可(ke)調 震蕩頻率(lv)：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩定(ding)性：< 0.1%

儀器規格

尺寸：寬(kuan) x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學系統

分(fen)析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光(guang)室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積(ji)：24μm x 24μm

工作環境

實驗室濕度(du)(du)環境：相對(dui)濕度(du)(du) 20%~80% 氬氣純度(du)(du)：不小于 99.95%

排  風：不小于 400 立(li)方米 / 小時

電  源(yuan)：200V~240V AC 單(dan)相；50Hz~60Hz；4kVA

Plasma 2000型(xing)ICP-OES測定污(wu)泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅

鋼研納克

隨著城(cheng)市污水處理(li)量(liang)的增加，處理(li)過程中(zhong)產生的污泥總(zong)量(liang)也在(zai)不斷上(shang)升。污泥中(zhong)除(chu)了含有(you)豐富的有(you)機物，還含有(you)很(hen)多難以降解的金屬(shu)(shu)元(yuan)(yuan)素(su)(su)，如果處理(li)不當會造(zao)成更為嚴重的二次污染(ran)。因此對(dui)污泥中(zhong)金屬(shu)(shu)元(yuan)(yuan)素(su)(su)含量(liang)的監測(ce)尤為重要(yao)。本(ben)文(wen)采用(yong)微(wei)波消解的前處理(li)方法，使用(yong)Plasma 2000型(xing)全譜電感耦合等(deng)離子體發射光譜儀(yi)，建立了污泥中(zhong)鋁、鈣(gai)、銅、鐵、鎂、鋅(xin)6種元(yuan)(yuan)素(su)(su)測(ce)量(liang)方法，加標回收率在(zai)93.4% - 106.6%之間，方法可(ke)靠(kao)，適用(yong)于污泥中(zhong)金屬(shu)(shu)元(yuan)(yuan)素(su)(su)的測(ce)定。

實驗過程

1

儀器特點

觀測方式：徑向觀測

分光系統：中階梯光柵(zha)與棱鏡交叉(cha)色散結構(gou)，全(quan)譜瞬(shun)態直讀

檢測器：大面積背照(zhao)式CCD芯(xin)片，高紫外檢出效率，寬動態范圍

光源：固態(tai)射頻發生器，小體積

2

儀器參數

表(biao)1 Plasma 2000工(gong)作條件

3

實驗方法

稱取(qu)一定(ding)量(liang)污泥樣品(pin)，加入(ru)一定(ding)比例的混酸，單道掃描ICP光譜儀廠家，使用微波(bo)消解儀消解。待樣品(pin)冷(leng)卻(que)后取(qu)出，定(ding)容(rong)至100mL容(rong)量(liang)瓶待測(ce)。

4

分析譜線

表2 Plasma 2000譜線選擇（nm）

5

標準曲線

Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標準溶液（國(guo)家(jia)鋼鐵(tie)材(cai)料測試中(zhong)心(xin)，1000 μg/mL）配制(zhi)曲線濃度如表3 ，線性相關系(xi)數(shu)大于(yu)0.999。

表3 標準曲線(xian)濃度(du)（μg/mL）

6

測定結果

在實際樣品中加入被測元素，其加標回收率93.4%-106.6%為之間(jian)，滿足定量(liang)要(yao)求(qiu)。

表4 實(shi)際(ji)樣(yang)品(pin)分(fen)析結果（%）

結論

本方(fang)法采用(yong)Plasma 2000電(dian)感耦(ou)合等(deng)離子體(ti)發射(she)光譜儀(yi)測定污水處理廠中(zhong)(zhong)污泥(ni)中(zhong)(zhong)重金屬元素，加標回收率介于93.4%-106.6%之間(jian)，適用(yong)于污泥(ni)中(zhong)(zhong)鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等(deng)元素的檢測。

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光(guang)譜儀

Plasma2000電(dian)感耦(ou)合等離(li)子體發(fa)射光(guang)譜儀(yi)(yi)是鋼研納克在(zai)(zai)首批“國家(jia)重大科學儀(yi)(yi)器(qi)設(she)備開(kai)發(fa)專項”支持下(xia)研發(fa)的(de)二(er)維(wei)全譜高分辨ICP光(guang)譜儀(yi)(yi)，是國產全譜ICP光(guang)譜儀(yi)(yi)革命性(xing)產品，曾斬獲中國儀(yi)(yi)器(qi)儀(yi)(yi)表行業(ye)協會“自主金獎”等一系列榮譽，在(zai)(zai)業(ye)界獲得廣泛的(de)好評。美(mei)觀(guan)精致的(de)高顏值工業(ye)設(she)計，優異穩(wen)定(ding)的(de)測試性(xing)能(neng)源于納克近四十(shi)年ICP行業(ye)經驗。Plasma2000擁有

1、中階(jie)梯光柵與(yu)棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有(you)穩健的檢測能力(li)。

2、 有(you)效穩(wen)定的(de)自激式固態(tai)射頻發生器(qi)，體積小巧，匹配(pei)速度(du)快(kuai)，確保(bao)儀器(qi)的(de)精度(du)較高運行(xing)及優異(yi)的(de)長(chang)期穩(wen)定性。

3、 高(gao)速面陣(zhen)CCD采集技術，單次曝(pu)光獲(huo)取全部譜線信(xin)息，真正實(shi)現“全譜直讀”。

4、 功能強大的(de)軟件(jian)系統(tong)，簡化(hua)分析方法的(de)開發過程，為用戶量身打造(zao)簡潔、舒(shu)適的(de)操作體(ti)驗(yan)。

可廣(guang)泛應用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生(sheng)物、水質等各領域的元素(su)分(fen)析。