鋼研納(na)克ICP光(guang)譜儀(yi)(yi)(yi)源于鋼鐵研究(jiu)總(zong)院(yuan)，35年電感耦合等(deng)離(li)子體光(guang)譜儀(yi)(yi)(yi)方法開發經驗，數十項ICP檢測標準的起(qi)草單位(wei)，重大科學儀(yi)(yi)(yi)器(qi)專項《ICP痕量(liang)分析儀(yi)(yi)(yi)器(qi)的研制》牽頭單位(wei)，ICP光(guang)譜儀(yi)(yi)(yi)產品標準GB/T 36244-2018起(qi)草單位(wei)，懂ICP應用的國產ICP光(guang)譜儀(yi)(yi)(yi)制造商。，上市公司，品質之選(xuan)！

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ICP 光譜儀是一種(zhong)高精度(du)的分(fen)析儀器，國產ICP光譜儀廠家，為了確保(bao)其(qi)長期穩(wen)定地工作，需要定期進行保(bao)養。以下(xia)是一些常見的保(bao)養方(fang)法(fa)：

清(qing)(qing)理(li)炬(ju)(ju)管(guan)：炬(ju)(ju)管(guan)是 ICP 光(guang)譜(pu)儀的重要(yao)(yao)部件(jian)之(zhi)一，需要(yao)(yao)定期清(qing)(qing)理(li)。清(qing)(qing)理(li)炬(ju)(ju)管(guan)時(shi)，需要(yao)(yao)將炬(ju)(ju)管(guan)拆下，浸泡24小時(shi)，然(ran)(ran)后用(yong)去(qu)離(li)子(zi)水沖洗(xi)干(gan)(gan)凈(jing)，然(ran)(ran)后用(yong)氮氣(qi)吹(chui)干(gan)(gan)。如果矩管(guan)體有污染物沉積可用(yong)熱的稀王(wang)水（1:1體積比）浸泡后，去(qu)離(li)子(zi)水沖洗(xi)干(gan)(gan)凈(jing)，然(ran)(ran)后用(yong)氮氣(qi)吹(chui)干(gan)(gan)。

清(qing)理(li)霧(wu)室(shi)(shi)：霧(wu)室(shi)(shi)是 ICP 光譜儀的重要部件之一，需(xu)要定期清(qing)理(li)。清(qing)理(li)霧(wu)室(shi)(shi)時(shi)，需(xu)要將霧(wu)室(shi)(shi)拆下，用(yong)去離子(zi)水，然(ran)后用(yong)氮氣(qi)吹干。

更(geng)換(huan)蠕(ru)(ru)動(dong)(dong)泵(beng)管(guan)(guan)(guan)：蠕(ru)(ru)動(dong)(dong)泵(beng)管(guan)(guan)(guan)是 ICP 光譜儀的進(jin)樣(yang)系統，當泵(beng)管(guan)(guan)(guan)沒(mei)有彈性時需要更(geng)換(huan)。更(geng)換(huan)蠕(ru)(ru)動(dong)(dong)泵(beng)管(guan)(guan)(guan)時，需要將舊(jiu)的蠕(ru)(ru)動(dong)(dong)泵(beng)管(guan)(guan)(guan)拆下，然后換(huan)上(shang)新的蠕(ru)(ru)動(dong)(dong)泵(beng)管(guan)(guan)(guan)。

更換火花(hua)塞(sai)(sai)：火花(hua)塞(sai)(sai)是 ICP 光(guang)譜儀的點火系統，需要定期更換。更換火花(hua)塞(sai)(sai)時，需要將舊的火花(hua)塞(sai)(sai)拆下(xia)，然后(hou)換上(shang)新(xin)的火花(hua)塞(sai)(sai)。

更(geng)換循(xun)環(huan)水(shui)：循(xun)環(huan)水(shui)是 ICP 光譜儀的(de)冷卻系統，需(xu)要定期(qi)更(geng)換。更(geng)換循(xun)環(huan)水(shui)時，需(xu)要將(jiang)舊的(de)循(xun)環(huan)水(shui)放出，然后換上新的(de)循(xun)環(huan)水(shui)，一(yi)般(ban)三(san)個月為周(zhou)期(qi)。

清理空(kong)(kong)氣(qi)過濾(lv)器：空(kong)(kong)氣(qi)過濾(lv)器是 ICP 光(guang)譜(pu)儀的空(kong)(kong)氣(qi)凈化(hua)系統，需要定期(qi)清理。清理空(kong)(kong)氣(qi)過濾(lv)器時，需要將(jiang)空(kong)(kong)氣(qi)過濾(lv)器拆下，用蒸餾水或無水乙醇(chun)清洗，然(ran)后(hou)用氮氣(qi)吹干。

以上是一些(xie)常見的(de)(de) ICP 光譜儀(yi)保(bao)養(yang)方(fang)法，具體的(de)(de)保(bao)養(yang)方(fang)法需要根(gen)據儀(yi)器的(de)(de)型號和(he)使用情況(kuang)來(lai)確定。在進行保(bao)養(yang)時，需要注意安全，避免(mian)損(sun)壞(huai)儀(yi)器。

鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光(guang)譜儀(yi)儀(yi)器特點

1.   分析流(liu)程全自動化控(kong)制(zhi)，實現軟件點火、氣路智能(neng)控(kong)制(zhi)功(gong)能(neng)；

2.   輸出功率自(zi)動匹配調諧，功率參數程序設定(ding)；      

3.   優良(liang)的光學系統(tong)，的控制系統(tong)，保證(zheng)峰位定位準(zhun)確，信背(bei)比(bi)優良(liang)；

4.   較小的基(ji)體效應；      

5.   測量(liang)范(fan)圍寬，超微量(liang)到常量(liang)的(de)分析，動態線性范(fan)圍5—6個數(shu)量(liang)級(ji)；

6.   檢出限低，大(da)多數元素的(de)檢出限可達ppb級；

7.   良好的測量(liang)精度，穩定性(xing)相對標準偏差RSD≤1.5%（5ppm），優于國家A等(deng)級標準（JJG768-2005）；

8.  

Rf輸出功率(lv)的范圍750-1500W，輸出功率(lv)穩(wen)定性小于(yu)0.1%；

9.   光電倍增(zeng)管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調，可根據(ju)不(bu)同(tong)元素的不(bu)同(tong)譜線單獨設置條件，和全譜儀(yi)器(qi)比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽(bi)和(he)良好接地保證操(cao)作(zuo)者的安(an)全；

11. 精(jing)度(du)較高的(de)(de)光(guang)室(shi)恒溫系統(tong)，保證儀器優(you)良的(de)(de)長短期精(jing)度(du)；

12. 多(duo)通道蠕動泵(beng)進樣(yang)，保證儀器進樣(yang)均(jun)勻，工作穩(wen)定；

13. 使用(yong)鈸銅彈(dan)片和特殊處理的屏蔽玻(bo)璃，在吸(xi)收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規定小于10V/m）。

14. 具有(you)較高的(de)(de)譜線(xian)分辨率(lv)，能分出Hg313.154和313.183nm雙線(xian)譜線(xian)，能分出鐵的(de)(de)四重峰。

15. 人性化的(de)軟件(jian)(jian)設計，操作方(fang)便，終身(shen)免費升級。功(gong)能(neng)強(qiang)大(da)、友好的(de)人機界面分析(xi)軟件(jian)(jian)，可(ke)(ke)在(zai)測定過(guo)程(cheng)中，進行數(shu)據處(chu)(chu)理(li)，方(fang)法編(bian)制和結果(guo)分析(xi)，是真正的(de)多任(ren)務工作軟件(jian)(jian)；該軟件(jian)(jian)數(shu)據處(chu)(chu)理(li)功(gong)能(neng)強(qiang)大(da)，提供了多種方(fang)法，如內標校正、IECS和QC監測功(gong)能(neng)等，可(ke)(ke)獲得(de)的(de)背景扣除(chu)點以消(xiao)除(chu)干擾；對輸出數(shu)據可(ke)(ke)直接打印或自動(dong)生成Excel格(ge)式的(de)結果(guo)報告。