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廣州福滔微波設備有限公司

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石墨烯成套設備價格-佛山石墨烯成套設備-廣州福滔微波售后完善

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廣州福滔微波設備有限公司
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石墨烯制備的發展

隨著(zhu)石(shi)墨(mo)烯制備水平的(de)發展(zhan)和(he)石(shi)墨(mo)烯應用技術水平的(de)發展(zhan),石(shi)墨(mo)烯材料能夠應用在更(geng)多的(de)下游產品(pin)和(he)領(ling)域中,這些待(dai)開(kai)發的(de)領(ling)域都是(shi)未來極(ji)具投資(zi)機會(hui)的(de)處i女地。

據預計,到2024年(nian)前后,石墨烯器(qi)件有(you)望替代互補金屬氧(yang)化(hua)物半導體(CMOS)器(qi)件,在納米(mi)電子器(qi)件,光電化(hua)學電池、超輕型飛(fei)機材料等研究領(ling)域得到應(ying)用。

石(shi)墨(mo)烯(xi)制(zhi)備水(shui)平和應(ying)用(yong)(yong)技術水(shui)平的(de)(de)(de)發(fa)展是(shi)相(xiang)輔相(xiang)成的(de)(de)(de),以(yi)目(mu)前(qian)的(de)(de)(de)發(fa)展水(shui)平看,電(dian)子元件領(ling)域(yu)的(de)(de)(de)應(ying)用(yong)(yong)對石(shi)墨(mo)烯(xi)的(de)(de)(de)質量和技術要求i高,也難以(yi)實現,預計(ji)其應(ying)用(yong)(yong)在(zai)10年左右。石(shi)墨(mo)烯(xi)在(zai)消(xiao)費電(dian)子類的(de)(de)(de)應(ying)用(yong)(yong)主(zhu)要需(xu)克服制(zhi)備技術的(de)(de)(de)難關,佛山石(shi)墨(mo)烯(xi)成套設備,這也是(shi)目(mu)前(qian)石(shi)墨(mo)烯(xi)研究中熱點的(de)(de)(de)方向,預計(ji)制(zhi)備技術在(zai)未來1-2年內會有(you)所突破。石(shi)墨(mo)烯(xi)復合材料(liao)和石(shi)墨(mo)烯(xi)能源類產品對石(shi)墨(mo)烯(xi)質量和應(ying)用(yong)(yong)技術均有(you)一定要求,預計(ji)其在(zai)3-5年內會有(you)所突破。

廣州(zhou)福滔(tao)微(wei)(wei)波設(she)備(bei)(bei)有(you)限公(gong)司自成立以(yi)來一(yi)直致力于(yu)微(wei)(wei)波干燥(zao)設(she)備(bei)(bei)的研(yan)制(zhi)、生(sheng)產(chan)(chan)和經營,同時(shi)也匯集了一(yi)批(pi)集科研(yan)、設(she)計(ji)、生(sheng)產(chan)(chan)、服務于(yu)一(yi)體(ti)的高素(su)質人才(cai),并長期同有(you)關(guan)院校實行(xing)橫向合作,對產(chan)(chan)品(pin)不斷(duan)進行(xing)更新與開(kai)發。公(gong)司主營產(chan)(chan)品(pin)包括:石(shi)墨(mo)烯(xi)制(zhi)造(zao)設(she)備(bei)(bei)、石(shi)墨(mo)烯(xi)成套設(she)備(bei)(bei)、微(wei)(wei)波石(shi)墨(mo)烯(xi)設(she)備(bei)(bei)、石(shi)墨(mo)烯(xi)制(zhi)備(bei)(bei)設(she)備(bei)(bei)、微(wei)(wei)波石(shi)墨(mo)烯(xi)爆裂(lie)設(she)備(bei)(bei)、石(shi)墨(mo)烯(xi)膨化(hua)等(deng)。福滔(tao)微(wei)(wei)波的產(chan)(chan)品(pin)廣泛用于(yu)制(zhi)藥(yao)、化(hua)工、食品(pin)、飼料、礦產(chan)(chan)、農副、電子、輕工等(deng)行(xing)業,產(chan)(chan)品(pin)遍(bian)布,遠銷美(mei)國、日本、俄羅斯(si)、香港、臺灣等(deng)地。工廠還備(bei)(bei)有(you)大型試(shi)驗車間,品(pin)種樣機齊(qi)全,歡迎客戶帶料試(shi)驗和訂貨。

淺談石墨烯的制備

目前獲取石(shi)墨(mo)烯的途徑大致可分(fen)為兩大類,自上而下的頂層剝離(exfoliation)和自下而上的底層生長(growth):

一是利(li)用各種物理、化學手段削(xue)弱石墨(mo)(mo)層(ceng)與層(ceng)間的(de)范德(de)華力剝離(li)(li)(li)(li)得到單層(ceng)或少層(ceng)石墨(mo)(mo)烯,主要有機械(xie)剝離(li)(li)(li)(li)法(fa)、液相(xiang)剝離(li)(li)(li)(li)法(fa)、氧化還原(yuan)剝離(li)(li)(li)(li)法(fa),近(jin)幾年也提出了諸(zhu)如電(dian)化學剝離(li)(li)(li)(li)和(he)超臨界(jie)流體剝離(li)(li)(li)(li)的(de)一些新穎方法(fa)(此(ci)處(chu)不做介(jie)紹);

二是通過(guo)化(hua)學反應(ying)合成石墨(mo)烯片(pian)層(ceng),有(you)化(hua)學氣相沉積法(fa)、外延生長(chang)法(fa)以(yi)及有(you)機合成法(fa)。

機械剝離法

早在1999年,美國華盛頓大學的(de)(de) Rodney S Ruoff 等人試圖從高(gao)定(ding)向熱解石(shi)墨(HOPG)出(chu)發,用氧等離(li)子體刻(ke)蝕其(qi)表面得到形(xing)成一(yi)定(ding)形(xing)狀的(de)(de)小(xiao)“石(shi)墨島”,再(zai)用原子力(li)顯微鏡(jing)(AFM)探針進行(xing)精i確(que)操控、剝(bo)(bo)離(li)出(chu)單(dan)層(ceng)(ceng)(ceng)的(de)(de)石(shi)墨烯(xi)[1],這就是機(ji)械(xie)剝(bo)(bo)離(li)法的(de)(de)開端,即(ji)通過機(ji)械(xie)外(wai)力(li)將石(shi)墨逐步剝(bo)(bo)離(li)成石(shi)墨烯(xi)片(pian)層(ceng)(ceng)(ceng)的(de)(de)方法。后(hou)來,Geim 等人沿此(ci)思路將刻(ke)蝕過的(de)(de) HOPG 用光刻(ke)膠(jiao)粘到玻璃襯底(di)上(shang)(shang),之(zhi)后(hou)再(zai)用膠(jiao)帶反復粘貼撕下(xia)以得到石(shi)墨烯(xi)片(pian)層(ceng)(ceng)(ceng),足夠(gou)次數后(hou)把附有片(pian)層(ceng)(ceng)(ceng)的(de)(de)玻璃襯底(di)置于丙i酮溶液(ye)中(zhong)超聲處理使(shi)片(pian)層(ceng)(ceng)(ceng)脫附,后(hou)將硅(gui)片(pian)(表層(ceng)(ceng)(ceng)是薄薄的(de)(de)二(er)氧化硅(gui))放(fang)入丙i酮溶液(ye)中(zhong),在范德華力(li)作(zuo)用下(xia),石(shi)墨烯(xi)片(pian)層(ceng)(ceng)(ceng)會自動吸附到硅(gui)片(pian)上(shang)(shang)[2]。

機械(xie)剝離制得的石(shi)墨(mo)烯質量相對(dui)較(jiao)高(gao),但產(chan)率低、尺寸小且層數難以控制,目前只(zhi)能(neng)用于(yu)實(shi)驗室研究使(shi)用。

廣州(zhou)福滔(tao)微波設(she)(she)備(bei)有限公(gong)司(si)(si)專注(zhu)于烘干(gan)(gan)(gan)干(gan)(gan)(gan)燥(zao)設(she)(she)備(bei)的研發與生(sheng)產(chan)(chan),在(zai)水(shui)果蔬菜脫水(shui)深加工(gong)、藥材(cai)深加工(gong)、食品(pin)加工(gong)生(sheng)產(chan)(chan)線(xian)、工(gong)業品(pin)干(gan)(gan)(gan)燥(zao)加工(gong)生(sheng)產(chan)(chan)線(xian)方(fang)面成(cheng)效顯著,為(wei)客戶、為(wei)社會創造(zao)了巨大的經濟價值(zhi)和(he)社會效益。公(gong)司(si)(si)主營產(chan)(chan)品(pin)有:石(shi)(shi)(shi)(shi)墨(mo)(mo)(mo)烯(xi)(xi)(xi)設(she)(she)備(bei)廠(chang)家、石(shi)(shi)(shi)(shi)墨(mo)(mo)(mo)烯(xi)(xi)(xi)干(gan)(gan)(gan)燥(zao)設(she)(she)備(bei)、石(shi)(shi)(shi)(shi)墨(mo)(mo)(mo)烯(xi)(xi)(xi)制(zhi)造(zao)設(she)(she)備(bei)、石(shi)(shi)(shi)(shi)墨(mo)(mo)(mo)烯(xi)(xi)(xi)成(cheng)套設(she)(she)備(bei)、石(shi)(shi)(shi)(shi)墨(mo)(mo)(mo)烯(xi)(xi)(xi)生(sheng)產(chan)(chan)設(she)(she)備(bei)、單層石(shi)(shi)(shi)(shi)墨(mo)(mo)(mo)烯(xi)(xi)(xi)生(sheng)產(chan)(chan)線(xian)等(deng)。公(gong)司(si)(si)秉(bing)承“服(fu)務(wu)到底,爭取更好”的宗旨(zhi),石(shi)(shi)(shi)(shi)墨(mo)(mo)(mo)烯(xi)(xi)(xi)成(cheng)套設(she)(she)備(bei)供應(ying),立足中原,放眼(yan)世界,時刻關注(zhu)來自于市(shi)場和(he)用(yong)戶的建議,不(bu)斷改進技術,完善服(fu)務(wu),提(ti)。福滔(tao)的產(chan)(chan)品(pin)不(bu)僅在(zai)國內,更是(shi)吸引了世界各地的客戶來廠(chang)考察,訂貨。

石墨(mo)烯制備技(ji)術發展現狀

碳化硅外延法

碳(tan)(tan)化硅(gui)外(wai)延法是在碳(tan)(tan)化硅(gui)單(dan)晶基底(di)上,經過(guo)高(gao)溫熱(re)處理,外(wai)延生長出(chu)(chu)單(dan)層石(shi)墨烯。該(gai)方(fang)法以單(dan)晶碳(tan)(tan)化硅(gui)為基礎(chu)材料,經除去表(biao)面(mian)氧化物過(guo)程,然后(hou)在超(chao)高(gao)真空、高(gao)溫(1 200 ~1 450℃ )條(tiao)件下,熱(re)分解蒸發(fa)表(biao)面(mian)的(de)硅(gui)(S i)原子(zi),在碳(tan)(tan)化硅(gui)晶面(mian)上外(wai)延生長出(chu)(chu)石(shi)墨烯片(pian)。

該方法制備的(de)石墨(mo)烯(xi)載流子(zi)遷移率高,石墨(mo)烯(xi)成套設備價(jia)格,適用于電(dian)學性(xing)能要求(qiu)高的(de)微電(dian)子(zi)器件。

化學氣相沉積法

化(hua)學氣(qi)相沉積(CVD)法是以碳氫氣(qi)體(ti)為前驅(qu)物體(ti),在銅(tong)、鎳或者鉑等金屬(shu)的(de)(de)(de)表面熱裂(lie)解、沉積、成(cheng)核(he)形成(cheng)單層石墨(mo)的(de)(de)(de)物理(li)化(hua)學過程。CVD法可(ke)以通過改變金屬(shu)襯底的(de)(de)(de)種類、反應溫度、反應時(shi)間等工藝(yi)參數,實現對(dui)于石墨(mo)烯厚(hou)度和晶(jing)疇尺寸的(de)(de)(de)調控。

CVD法(fa)制(zhi)備石(shi)(shi)墨烯簡單易(yi)行,制(zhi)取的石(shi)(shi)墨烯品質高,且非常有利(li)于(yu)大面積生產,產品直接得到石(shi)(shi)墨烯薄(bo)膜,再加工(gong)工(gong)藝簡單。在(zai)石(shi)(shi)墨烯產品品質及工(gong)藝的簡易(yi)性方(fang)面,CVD法(fa)相比(bi)其他3種方(fang)法(fa)具(ju)有明顯的優勢,因(yin)此CVD法(fa)目(mu)前已成(cheng)為石(shi)(shi)墨烯生長領(ling)域的主(zhu)流(liu)技術。

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