食品生產加(jia)工企業(ye)的(de)生產車(che)(che)間可(ke)用(yong)白(bai)瓷磚設置 ?1.5 ?～ ?2.0m ?高(gao)的(de)墻(qiang)裙，10萬(wan)級防爆凈化公司安裝， ?因為在地面清掃時， ?地面飛濺的(de)水滴可(ke)以 ?達到 ?1.5m ?左右(you)的(de)高(gao)度。同時， ?1.5 ?～ ?2.0m ?高(gao)的(de)范圍又是作業(ye)人員經常(chang)接觸的(de)地方，易使墻(qiang)裙臟污(wu)。對于易產生水蒸 ?氣的(de)車(che)(che)間，將整(zheng)個墻(qiang)面貼上(shang)白(bai)瓷磚。瓷磚墻(qiang)裙上(shang)部分可(ke)用(yong)防腐蝕、耐熱、不透水、無(wu)異味的(de)淺色涂料涂層。墻(qiang) ?壁與地面交界面為漫彎形(xing)，沒(mei)有死角。

（舉例： ?包材間存在滲水情況，墻(qiang)皮脫落。不符合 ?GB 14881 ?第 ?6.2.1 ?條款關 ?于廠房(fang)內各項(xiang)設施應(ying)保持清潔(jie)，出(chu)現問題(ti)及時(shi)維修或更新，廠房(fang)地面(mian)、屋頂、天花(hua)板及墻(qiang)壁(bi)有破損時(shi)應(ying)及時(shi)修補(bu)的 ?要求。 ）

潔(jie)凈(jing)廠(chang)(chang)(chang)房(fang)(fang)(fang)是(shi)指廠(chang)(chang)(chang)房(fang)(fang)(fang)內的(de)(de)溫度(du)、潔(jie)凈(jing)度(du)、室(shi)(shi)內壓(ya)力(li)(li)、氣(qi)流(liu)速度(du)與氣(qi)流(liu)分布(bu)、噪音(yin)振(zhen)動(dong)、照明、靜電(dian)(dian)控制(zhi)在某一(yi)(yi)需要的(de)(de)范圍(wei)內，并排除其空(kong)氣(qi)中的(de)(de)有(you)害空(kong)氣(qi)、微粒子等污染物，不論外在空(kong)氣(qi)條件如(ru)何變化，灌云防爆凈(jing)化公司，其廠(chang)(chang)(chang)房(fang)(fang)(fang)內均能維(wei)持原先所設定要求(qiu)的(de)(de)潔(jie)凈(jing)度(du)、溫濕(shi)度(du)及壓(ya)力(li)(li)等的(de)(de)廠(chang)(chang)(chang)房(fang)(fang)(fang)。潔(jie)凈(jing)廠(chang)(chang)(chang)房(fang)(fang)(fang)的(de)(de)主(zhu)要作用就是(shi)在一(yi)(yi)個特殊凈(jing)化要求(qiu)的(de)(de)生產環(huan)境中制(zhi)造(zao)出優良(liang)的(de)(de)產品，無塵室(shi)(shi)防爆凈(jing)化公司安裝，其重(zhong)要性(xing)也越來越多地被(bei)人們(men)所認識(shi)和接受。隨著(zhu)我(wo)國(guo)國(guo)民(min)經濟的(de)(de)發展、社會的(de)(de)進步和人民(min)生活水(shui)平的(de)(de)提高，潔(jie)凈(jing)廠(chang)(chang)(chang)房(fang)(fang)(fang)已(yi)廣泛應用于(yu)電(dian)(dian)子、生物、食品、航空(kong)、航天、精密(mi)儀器制(zhi)造(zao)等各行各業中。

潔凈室中的(de)溫濕度(du)控制：

潔凈(jing)空間的溫(wen)濕度主要是根據工藝要求來確定(ding)，但在滿足工藝要求的條件(jian)下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣(qi)潔凈(jing)度要求的提高，出現了工藝對(dui)溫(wen)濕度的要求也越來越嚴的趨勢(shi)。

具(ju)體工(gong)藝(yi)對溫度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)以后還要(yao)列舉(ju)，但作(zuo)為總的(de)(de)(de)(de)原則看，由于加(jia)工(gong)精度(du)(du)(du)越(yue)來越(yue)精細，所(suo)以對溫度(du)(du)(du)波動范圍的(de)(de)(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)來越(yue)小。例(li)如在大規模集成電路生(sheng)產的(de)(de)(de)(de)光刻曝光工(gong)藝(yi)中，無塵室防爆凈化公司設(she)計，作(zuo)為掩膜板材料的(de)(de)(de)(de)玻璃(li)與硅片的(de)(de)(de)(de)熱膨脹系數的(de)(de)(de)(de)差(cha)要(yao)求(qiu)(qiu)越(yue)來越(yue)小。直徑100 um的(de)(de)(de)(de)硅片，溫度(du)(du)(du)上升1度(du)(du)(du)，就引(yin)起了0.24um線(xian)性膨脹，所(suo)以必須有±0.1度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)恒溫，同時(shi)要(yao)求(qiu)(qiu)濕度(du)(du)(du)值一(yi)般(ban)較(jiao)低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕(pa)鈉的(de)(de)(de)(de)半導(dao)體車間，這種(zhong)車間不宜超過25度(du)(du)(du)。

濕度(du)(du)(du)過(guo)高產生(sheng)(sheng)的(de)問題(ti)更多(duo)。相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)超過(guo)55%時(shi)(shi)(shi)(shi)，冷卻水(shui)管壁上會結露，如果發生(sheng)(sheng)在(zai)(zai)精(jing)密裝(zhuang)置(zhi)或電路中，就(jiu)會引起(qi)各種事故。相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)在(zai)(zai)50%時(shi)(shi)(shi)(shi)易生(sheng)(sheng)銹(xiu)。此外，濕度(du)(du)(du)太(tai)高時(shi)(shi)(shi)(shi)將(jiang)通過(guo)空(kong)氣中的(de)水(shui)分(fen)子把硅(gui)片(pian)表(biao)面粘著的(de)灰(hui)塵化(hua)學(xue)吸(xi)附在(zai)(zai)表(biao)面耐難以清除。相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)越高，粘附的(de)難去掉，但當相(xiang)對(dui)濕度(du)(du)(du)低(di)于(yu)30%時(shi)(shi)(shi)(shi)，又由于(yu)靜電力的(de)作用使粒子也容易吸(xi)附于(yu)表(biao)面，同時(shi)(shi)(shi)(shi)大量半導體器件容易發生(sheng)(sheng)擊穿。對(dui)于(yu)硅(gui)片(pian)生(sheng)(sheng)產蕞佳溫度(du)(du)(du)范圍為35—45%。