鋼研納克Plasma 1000 單(dan)道(dao)掃(sao)描(miao)ICP光譜儀

1. ? 光(guang)路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光(guang)譜儀

2. ? 光室恒溫：(30±0.2)℃

3. ? 光(guang)柵類(lei)型：離(li)子刻蝕全(quan)息平面光(guang)柵

4. ? 分辨率(lv)：不大(da)于0.007nm

5. ? 刻(ke)線密度：3600g/mm

6. ? 高頻(pin)(pin)發(fa)生器(qi)震蕩頻(pin)(pin)率(lv)：40.68MHz ? 功率(lv)穩(wen)定度：0.1%（長期25℃典型值）

7. ? 震(zhen)蕩類(lei)型：自激式(shi)

8. ? 進樣(yang)方式：蠕動泵進樣(yang)

配有多種霧室（旋流霧室、雙(shuang)筒霧室和耐氫1氟酸(suan)霧室）

9. ? 霧1化器(qi)(qi)：同心霧化1器(qi)(qi)

10. 重(zhong)復性：RSD ≤1.0%

11. 穩定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高(gao)）

16. 重量：240公(gong)斤(jin)

為了保證 ICP 光譜儀的(de)測量結(jie)果準確，需要注意以下幾個方(fang)面(mian)：

標(biao)(biao)(biao)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)化校準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)：ICP 光(guang)譜儀需要定期進行(xing)標(biao)(biao)(biao)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)化校準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)，以確保測量(liang)結果的準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)確性。標(biao)(biao)(biao)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)化校準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)可以使用(yong)標(biao)(biao)(biao)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)物(wu)質或(huo)標(biao)(biao)(biao)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)溶液(ye)進行(xing)，單道掃描(miao)ICP光(guang)譜儀廠家，校準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)后的儀器(qi)測量(liang)結果應(ying)該與(yu)標(biao)(biao)(biao)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)物(wu)質或(huo)標(biao)(biao)(biao)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)溶液(ye)的濃度一致。

樣(yang)品(pin)前(qian)(qian)處理：ICP 光(guang)譜儀的(de)(de)樣(yang)品(pin)前(qian)(qian)處理非常重要(yao)，如果(guo)前(qian)(qian)處理不(bu)當，會導致測量結(jie)(jie)果(guo)不(bu)準確。在(zai)進(jin)行樣(yang)品(pin)前(qian)(qian)處理時，需(xu)要(yao)注意樣(yang)品(pin)的(de)(de)均勻性、代表性和清潔(jie)度，以確保測量結(jie)(jie)果(guo)的(de)(de)準確性。

儀(yi)(yi)器參數設(she)置：ICP 光譜儀(yi)(yi)的參數設(she)置也會影響測(ce)量結果的準確(que)性。在進行(xing)測(ce)量之前，需要根據樣品的性質和測(ce)量要求設(she)置正確(que)的儀(yi)(yi)器參數，如(ru)積分時間、等(deng)離子體功(gong)率等(deng)。

儀器維(wei)護：ICP 光譜儀需要(yao)定期(qi)進(jin)行維(wei)護，以確(que)保儀器的性能和測量結果的準確(que)性。維(wei)護包括更(geng)換氬氣、清理(li)炬管、更(geng)換蠕動泵管等(deng)。

質量(liang)控制(zhi)(zhi)：ICP 光譜儀的(de)(de)質量(liang)控制(zhi)(zhi)是(shi)保證測(ce)量(liang)結果準(zhun)(zhun)確的(de)(de)重要措施(shi)。質量(liang)控制(zhi)(zhi)可以(yi)(yi)通過使用標(biao)(biao)準(zhun)(zhun)物(wu)質或(huo)(huo)標(biao)(biao)準(zhun)(zhun)溶液進行測(ce)量(liang)，并與(yu)標(biao)(biao)準(zhun)(zhun)物(wu)質或(huo)(huo)標(biao)(biao)準(zhun)(zhun)溶液的(de)(de)濃度進行比(bi)較，以(yi)(yi)確保測(ce)量(liang)結果的(de)(de)準(zhun)(zhun)確性。

總之，為了保證 ICP 光譜(pu)儀(yi)的測(ce)量結果(guo)準確(que)，需(xu)要注意標準化(hua)校準、樣品前(qian)處理、儀(yi)器(qi)參數設(she)置、儀(yi)器(qi)維護和質量控制等方面。

由(you)鋼研(yan)(yan)納(na)克承擔的(de)國家重大(da)科學儀(yi)器(qi)(qi)(qi)設備開發專項(xiang)“ICP痕(hen)量分析儀(yi)器(qi)(qi)(qi)的(de)研(yan)(yan)制與應用”取(qu)得(de)重要進展。本專項(xiang)開發內(nei)容包括二維全譜(pu)高分辨ICP光譜(pu)儀(yi)和(he)ICP質譜(pu)儀(yi)。目維全譜(pu)高分辨ICP光譜(pu)儀(yi)已(yi)解決了大(da)面(mian)積CCD采(cai)集的(de)瓶頸問(wen)題，接近于商品(pin)水(shui)平的(de)產品(pin)樣(yang)(yang)機將于年內(nei)完成；ICP質譜(pu)儀(yi)第(di)二代(dai)研(yan)(yan)發樣(yang)(yang)機已(yi)成功(gong)組裝和(he)調試，采(cai)集到(dao)正確的(de)譜(pu)圖，這(zhe)一突破標(biao)志著在(zai)第(di)二代(dai)樣(yang)(yang)機上采(cai)用的(de)自主(zhu)設計的(de)高真空系(xi)統(tong)、接口及(ji)離子傳(chuan)輸系(xi)統(tong)以及(ji)射頻發生器(qi)(qi)(qi)系(xi)統(tong)3個(ge)關鍵、難(nan)點技術已(yi)經(jing)實(shi)現原理。為高質量、按期(qi)完成項(xiang)目任務和(he)本單位新產品(pin)開發任務奠定了堅實(shi)的(de)基礎(chu)。