鍍(du)膜靶(ba)材是通過磁控濺射(she)、多(duo)弧離子鍍(du)或其他(ta)類(lei)型的鍍(du)膜系統在適(shi)當工藝條件(jian)下濺射(she)在基板上形成各種功(gong)能薄(bo)膜的濺射(she)源。簡(jian)單說的話，貴(gui)金屬復合材料(liao)報價，靶(ba)材就是高速荷能粒子轟(hong)擊的目標(biao)材料(liao)，不(bu)同功(gong)率密(mi)度、不(bu)同輸出波(bo)形、不(bu)同波(bo)長(chang)的激光(guang)與不(bu)同的靶(ba)材相互作用時，會產生不(bu)同的殺傷破壞效應。

各種類型的(de)濺射薄膜材料在半導體(ti)集成電路(VLSI)、光碟(die)、平面顯示(shi)器(qi)以(yi)及工(gong)件(jian)的(de)表面涂層等方面都得到(dao)了(le)廣(guang)泛的(de)應用。20世紀90年(nian)代以(yi)來，濺射靶材及濺射技術的(de)同步發展，極大地(di)滿足(zu)了(le)各種新(xin)型電子元器(qi)件(jian)發展的(de)需(xu)求。

眾所(suo)周知，靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)材(cai)(cai)(cai)料的(de)(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)術(shu)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)趨(qu)勢與下游應(ying)用(yong)產(chan)業的(de)(de)(de)(de)(de)(de)薄膜技(ji)術(shu)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)趨(qu)勢息(xi)息(xi)相關，隨(sui)著應(ying)用(yong)產(chan)業在薄膜產(chan)品(pin)或元(yuan)件上的(de)(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)術(shu)改進，靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)技(ji)術(shu)也應(ying)隨(sui)之(zhi)變(bian)化。如(ru)Ic制造商．近段時間致力于低電阻(zu)率銅(tong)(tong)布線(xian)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)開發(fa)(fa)，貴(gui)(gui)金屬復合材(cai)(cai)(cai)料哪家好，預計未來幾年將大幅(fu)度取代(dai)原來的(de)(de)(de)(de)(de)(de)鋁膜，這樣(yang)銅(tong)(tong)靶(ba)(ba)(ba)(ba)及(ji)其所(suo)需(xu)阻(zu)擋(dang)層靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)開發(fa)(fa)將刻不容緩。另(ling)外，鞍山(shan)貴(gui)(gui)金屬復合材(cai)(cai)(cai)料，近年來平面(mian)顯示器(qi)（FPD）大幅(fu)度取代(dai)原以陰極(ji)射(she)線(xian)管（CRT）為主的(de)(de)(de)(de)(de)(de)電腦顯示器(qi)及(ji)電視機市(shi)場．亦將大幅(fu)增(zeng)加ITO靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)術(shu)與市(shi)場需(xu)求。此外在存儲技(ji)術(shu)方(fang)面(mian)。高密度、大容量硬盤，高密度的(de)(de)(de)(de)(de)(de)可擦寫光盤的(de)(de)(de)(de)(de)(de)需(xu)求持續(xu)增(zeng)加．這些均導致應(ying)用(yong)產(chan)業對靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)需(xu)求發(fa)(fa)生變(bian)化。下面(mian)我(wo)們將分(fen)別介(jie)紹靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)主要(yao)應(ying)用(yong)領域(yu)，以及(ji)這些領域(yu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)趨(qu)勢。

用于(yu)復印(yin)機(ji)和打印(yin)機(ji)等的(de)帶(dai)電輥(gun)、顯(xian)影輥(gun)、色(se)粉供給(gei)輥(gun)、轉印(yin)輥(gun)等都必須具備適當的(de)穩定的(de)電阻值。

以往(wang)，使上述輥筒(tong)具有導(dao)電(dian)性的(de)方法包括采用(yong)在(zai)橡(xiang)(xiang)膠(jiao)(jiao)中混(hun)入了金屬氧化物粉(fen)末和碳(tan)黑等導(dao)電(dian)性填(tian)充(chong)劑的(de)電(dian)子(zi)(zi)導(dao)電(dian)性橡(xiang)(xiang)膠(jiao)(jiao)的(de)方法；采用(yong)聚氨酯橡(xiang)(xiang)膠(jiao)(jiao)、表氯橡(xiang)(xiang)膠(jiao)(jiao)等離子(zi)(zi)導(dao)電(dian)性橡(xiang)(xiang)膠(jiao)(jiao)(聚合(he)物)或含有季銨(an)鹽等離子(zi)(zi)導(dao)電(dian)材料(liao)的(de)離子(zi)(zi)導(dao)電(dian)性聚合(he)物的(de)組合(he)物的(de)方法。