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在所有(you)應用產業(ye)中(zhong),半(ban)導(dao)體(ti)(ti)產業(ye)對靶材(cai)(cai)濺(jian)射薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)的(de)品(pin)質(zhi)要求(qiu)(qiu)是苛刻的(de)。如(ru)今12英寸(300衄口)的(de)硅晶片已制(zhi)造(zao)出來.而互連線的(de)寬度(du)卻(que)在減(jian)小。硅片制(zhi)造(zao)商(shang)對靶材(cai)(cai)的(de)要求(qiu)(qiu)是大(da)尺寸、高純(chun)(chun)(chun)度(du)、低偏析和(he)細(xi)晶粒,這就要求(qiu)(qiu)所制(zhi)造(zao)的(de)靶材(cai)(cai)具有(you)更好的(de)微觀結構。靶材(cai)(cai)的(de)結晶粒子直(zhi)徑(jing)和(he)均(jun)勻(yun)性已被認為是影響薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)沉積率(lv)的(de)關鍵因素。另外,薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)的(de)純(chun)(chun)(chun)度(du)與靶材(cai)(cai)的(de)純(chun)(chun)(chun)度(du)關系極大(da),過99.995%(4N5)純(chun)(chun)(chun)度(du)的(de)銅(tong)靶,或(huo)許能(neng)夠(gou)滿足半(ban)導(dao)體(ti)(ti)廠商(shang)0.35pm工藝的(de)需求(qiu)(qiu),純(chun)(chun)(chun)銀板材(cai)(cai)廠家(jia),但是卻(que)無法(fa)滿足如(ru)今0.25um的(de)工藝要求(qiu)(qiu)。
但是(shi)靶材(cai)(cai)(cai)制作困難,這(zhe)是(shi)因為氧(yang)化(hua)銦不容易燒(shao)結(jie)在(zai)一起。一般采(cai)(cai)用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒(shao)結(jie)添(tian)加(jia)劑,能夠(gou)獲得(de)密度為理論(lun)值的(de)93%~98%的(de)靶材(cai)(cai)(cai),這(zhe)種方式(shi)形成的(de)ITO薄膜的(de)性(xing)能與(yu)添(tian)加(jia)劑的(de)關(guan)系極大。日本(ben)的(de)科學家采(cai)(cai)用Bizo作為添(tian)加(jia)劑,Bi2O3在(zai)820Cr熔化(hua),池(chi)州(zhou)純(chun)銀板材(cai)(cai)(cai),在(zai)l500℃的(de)燒(shao)結(jie)溫度超出部分已經揮發,純(chun)銀板材(cai)(cai)(cai)價格,這(zhe)樣能夠(gou)在(zai)液相燒(shao)結(jie)條件下得(de)到比較純(chun)的(de)ITO靶材(cai)(cai)(cai)。而(er)且所需要(yao)的(de)氧(yang)化(hua)物原料也(ye)不一定是(shi)納米顆粒(li),這(zhe)樣可以(yi)簡化(hua)前期的(de)工序。
鍍(du)(du)膜(mo)靶(ba)材是(shi)通(tong)過磁(ci)控(kong)濺射(she)(she)、多弧(hu)離子(zi)鍍(du)(du)或(huo)其他類(lei)型(xing)的(de)鍍(du)(du)膜(mo)系統在適當(dang)工藝條件下濺射(she)(she)在基板上形(xing)成各種(zhong)功能(neng)薄(bo)膜(mo)的(de)濺射(she)(she)源。簡單(dan)說(shuo)的(de)話,純銀板材誰家好,靶(ba)材就是(shi)高速(su)荷能(neng)粒子(zi)轟擊的(de)目(mu)標(biao)材料,用于高能(neng)激光(guang)中(zhong),不(bu)同(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)功率密度、不(bu)同(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)輸出波形(xing)、不(bu)同(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)波長(chang)的(de)激光(guang)與不(bu)同(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)的(de)靶(ba)材相互作用時,會產(chan)生不(bu)同(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)的(de)殺(sha)傷破壞效應(ying)。例如(ru):蒸發磁(ci)控(kong)濺射(she)(she)鍍(du)(du)膜(mo)是(shi)加熱(re)蒸發鍍(du)(du)膜(mo)、鋁(lv)膜(mo)等。更換不(bu)同(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)的(de)靶(ba)材(如(ru)鋁(lv)、銅、不(bu)銹鋼、鈦、鎳靶(ba)等),即可(ke)得到(dao)不(bu)同(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)(tong)的(de)膜(mo)系(如(ru)超硬、耐磨、防腐的(de)合金膜(mo)等)。
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