20W機型可發(fa)生275.4至1090.0 nm的(de)(de)一些(xie)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)。主要的(de)(de)可見(jian)光(guang)(guang)(guang)波長分(fen)別是514.5、501.7、496.5、 488.0、476.5、472.7、465.8、457.9、454.5 nm。藍綠光(guang)(guang)(guang)波段中(zhong)(zhong)(zhong)，而(er)的(de)(de)是514.5及488 nm。氪離子(zi)(zi)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)可發(fa)生337.4至799.3 nm，的(de)(de)是647.1 nm，其(qi)次為(wei)(wei)413.1及530.9 nm。產品中(zhong)(zhong)(zhong)，有(you)將氬氣(qi)(qi)與氪氣(qi)(qi)混合的(de)(de)機型。氣(qi)(qi)體激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(Gaseous laser)，以(yi)氣(qi)(qi)體為(wei)(wei)自動介質的(de)(de)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)中(zhong)(zhong)(zhong)，包(bao)含(han)(han)中(zhong)(zhong)(zhong)性原子(zi)(zi)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)、離子(zi)(zi)氣(qi)(qi)體激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)、金(jin)屬蒸汽激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)、分(fen)子(zi)(zi)氣(qi)(qi)體激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)、準(zhun)分(fen)子(zi)(zi)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)。準(zhun)分(fen)子(zi)(zi)(Excimer)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)：準(zhun)分(fen)子(zi)(zi)一詞的(de)(de)本(ben)意，是「兩個同種原子(zi)(zi)組成，而(er)只存在于受(shou)激(ji)(ji)態的(de)(de)分(fen)子(zi)(zi)」，如稀有(you)氣(qi)(qi)體分(fen)子(zi)(zi)He2、Ar2、Xe2等；其(qi)英文(wen)原名為(wei)(wei) Excited Dimer 組合成的(de)(de)術語。現(xian)在現(xian)已(yi)將它的(de)(de)適(shi)用(yong)范圍(wei)放寬，以(yi)包(bao)含(han)(han)「不存在于基態，只以(yi)受(shou)激(ji)(ji)態出現(xian)的(de)(de)任何雙原子(zi)(zi)分(fen)子(zi)(zi)(有(you)時還包(bao)含(han)(han)三原子(zi)(zi)分(fen)子(zi)(zi))」。

重(zhong)要的(de)(de)準分(fen)子(zi)(zi)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)，以(yi)稀(xi)有氣體(ti)的(de)(de)鹵化(hua)物為(wei)自動介質(zhi)，如(ru)ArF， KrF， XeF， KrCl，激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)混合(he)氣定制廠家， XeCl等。因(yin)為(wei)受(shou)激(ji)(ji)態(tai)常以(yi)星(xing)號(*)上標表示，所以(yi)有些(xie)數據上寫(xie)成(cheng)ArF*等。準分(fen)子(zi)(zi)不(bu)會(hui)天(tian)然出(chu)現，而是(shi)(shi)在氣體(ti)混合(he)物中(zhong)放電時形(xing)成(cheng)的(de)(de)。激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)混合(he)氣中(zhong)的(de)(de)發生(sheng)(sheng)氣體(ti)是(shi)(shi)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)發生(sheng)(sheng)器(qi)上用來產(chan)生(sheng)(sheng)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)(de)氣體(ti)，對(dui)氣體(ti)質(zhi)量要求(qiu)高(gao)，激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)混合(he)氣配制精度要求(qiu)高(gao)，高(gao)純(chun)二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)碳(tan)純(chun)度達99.999%，高(gao)純(chun)氮氣的(de)(de)純(chun)度99.999%，高(gao)純(chun)氦(hai)氣的(de)(de)純(chun)度要求(qiu)99.999%，二(er)(er)氧(yang)(yang)化(hua)碳(tan)是(shi)(shi)產(chan)生(sheng)(sheng)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)(de)，激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)混合(he)氣，氦(hai)氣是(shi)(shi)冷卻激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)器(qi)的(de)(de)，氮氣是(shi)(shi)平衡氣體(ti)，氣體(ti)中(zhong)的(de)(de)水分(fen)、氧(yang)(yang)份、有機(ji)氣體(ti)雜質(zhi)對(dui)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)機(ji)的(de)(de)鏡(jing)片(pian)(pian)損傷特別大，能快速減少鏡(jing)片(pian)(pian)的(de)(de)壽命。所以(yi)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)機(ji)對(dui)這些(xie)氣體(ti)的(de)(de)質(zhi)量要求(qiu)特別高(gao)。20W機(ji)型可發生(sheng)(sheng)275.4至1090.0 nm的(de)(de)一些(xie)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)。主要的(de)(de)可見光(guang)(guang)(guang)(guang)波(bo)長分(fen)別是(shi)(shi)514.5、501.7、496.5、 488.0、476.5、472.7、465.8、457.9、454.5 nm。藍綠光(guang)(guang)(guang)(guang)波(bo)段中(zhong)，而的(de)(de)是(shi)(shi)514.5及488 nm。氪離子(zi)(zi)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)可發生(sheng)(sheng)337.4至799.3 nm，的(de)(de)是(shi)(shi)647.1 nm，其次為(wei)413.1及530.9 nm。產(chan)品中(zhong)，有將氬氣與氪氣混合(he)的(de)(de)機(ji)型。

分(fen)(fen)子(zi)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)：二(er)氧化(hua)(hua)碳激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)和氮氣(qi)(qi)(qi)激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)是(shi)常見的(de)(de)(de)分(fen)(fen)子(zi)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)，其(qi)主要激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)光(guang)(guang)分(fen)(fen)屬紅外(wai)線(10，640 nm)及紫外(wai)線(337 nm)。生(sheng)物(wu)(wu)組織(zhi)中(zhong)的(de)(de)(de)水(shui)分(fen)(fen)會吸收(shou)它(ta)的(de)(de)(de)10，640 nm激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)光(guang)(guang)，激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)混(hun)合(he)氣(qi)(qi)(qi)廠(chang)家(jia)，所(suo)以(yi)能(neng)用于手術，所(suo)需激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)光(guang)(guang)功率約為50W。此(ci)外(wai)，非金(jin)屬材料的(de)(de)(de)加工(gong)、金(jin)屬表(biao)面的(de)(de)(de)熱(re)處(chu)理(li)、光(guang)(guang)譜學及光(guang)(guang)化(hua)(hua)學研討、環境遙測、測距、激(ji)(ji)(ji)(ji)起其(qi)他激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)、發生(sheng)離子(zi)體(ti)(俗稱電漿；Plasma)等，也都(dou)可用二(er)氧化(hua)(hua)碳激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)來進(jin)行。重要的(de)(de)(de)準分(fen)(fen)子(zi)激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)，以(yi)稀有氣(qi)(qi)(qi)體(ti)的(de)(de)(de)鹵化(hua)(hua)物(wu)(wu)為自(zi)動介質(zhi)，如ArF， KrF， XeF， KrCl， XeCl等。因為受激(ji)(ji)(ji)(ji)態常以(yi)星號(*)上(shang)標表(biao)示，所(suo)以(yi)有些數據上(shang)寫成ArF*等。準分(fen)(fen)子(zi)不(bu)會天然(ran)出現，而是(shi)在(zai)(zai)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)混(hun)合(he)物(wu)(wu)中(zhong)放電時形成的(de)(de)(de)。激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)混(hun)合(he)氣(qi)(qi)(qi)中(zhong)組分(fen)(fen)氣(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)純度直接影響激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)的(de)(de)(de)性能(neng)，特別是(shi)氣(qi)(qi)(qi)體(ti)中(zhong)氧、水(shui)、碳氫(qing)化(hua)(hua)合(he)物(wu)(wu)等雜質(zhi)的(de)(de)(de)存在(zai)(zai)將導(dao)致激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)輸(shu)出功率在(zai)(zai)鏡(面)和電極(ji)上(shang)的(de)(de)(de)耗損，還會引起激(ji)(ji)(ji)(ji)光(guang)(guang)發射的(de)(de)(de)不(bu)穩(wen)定。