濺(jian)射(she)(she)靶材(cai)的(de)要求(qiu)較傳統(tong)材(cai)料(liao)(liao)行業高(gao)，營口純(chun)金(jin)靶材(cai)，一般要求(qiu)如，純(chun)金(jin)靶材(cai)技術，尺(chi)寸(cun)、平整度、純(chun)度、各項(xiang)雜質含(han)量(liang)、密(mi)度、N/O/C/S、晶(jing)粒尺(chi)寸(cun)與(yu)缺陷控制；較高(gao)要求(qiu)或特殊要求(qiu)包(bao)含(han)：表面粗糙度、電阻值(zhi)、晶(jing)粒尺(chi)寸(cun)均(jun)勻性、成(cheng)份與(yu)組織均(jun)勻性、異物(wu)（氧化(hua)物(wu)）含(han)量(liang)與(yu)尺(chi)寸(cun)、導磁(ci)率(lv)、超高(gao)密(mi)度與(yu)超細晶(jing)粒等(deng)等(deng)。磁(ci)控濺(jian)射(she)(she)鍍(du)膜(mo)是一種新型的(de)物(wu)相鍍(du)膜(mo)方式，純(chun)金(jin)靶材(cai)價格，就是用電子系統(tong)把電子發射(she)(she)并聚(ju)焦在被(bei)鍍(du)的(de)材(cai)料(liao)(liao)上，使其被(bei)濺(jian)射(she)(she)出(chu)來(lai)的(de)原子遵循(xun)動量(liang)轉換原理以較高(gao)的(de)動能脫離(li)材(cai)料(liao)(liao)飛向基片淀積(ji)成(cheng)膜(mo)。這種被(bei)鍍(du)的(de)材(cai)料(liao)(liao)就叫濺(jian)射(she)(she)靶材(cai)。 濺(jian)射(she)(she)靶材(cai)有金(jin)屬，合(he)(he)金(jin)，陶瓷化(hua)合(he)(he)物(wu)等(deng)。

對圓周方向的(de)電阻(zu)值(zhi)的(de)不(bu)均勻依(yi)然無法改善。

此外，采用(yong)連續(xu)硫(liu)(liu)化法(fa)時(shi)，如果硫(liu)(liu)化時(shi)的熱(re)傳遞沒有設法(fa)盡量達到(dao)均勻(yun)，則擠壓后(hou)的硫(liu)(liu)化速度(du)不一致，這(zhe)樣可能電阻(zu)值(zhi)的不均勻(yun)程度(du)反而大(da)于間歇式(shi)硫(liu)(liu)化法(fa)。特別(bie)是在圓周方向上這(zhe)種傾向更顯著。

采(cai)用連續硫化法時(shi)，在擠壓(ya)機的(de)擠壓(ya)筒內的(de)半徑(jing)方向上有非常(chang)大的(de)剪(jian)切速度分布，這(zhe)可能會影響電(dian)子導(dao)電(dian)性填充劑的(de)分散。

電源供應(ying)裝(zhuang)置(zhi)通過一(yi)升(sheng)降(jiang)機構安裝(zhuang)在(zai)(zai)機座上并與控(kong)制(zhi)裝(zhuang)置(zhi)電連(lian)接；所述(shu)整體測量(liang)機構包(bao)括一(yi)安裝(zhuang)在(zai)(zai)機座上的(de)(de)(de)驅(qu)動(dong)電機、一(yi)連(lian)接在(zai)(zai)驅(qu)動(dong)電機上的(de)(de)(de)傳動(dong)軸(zhou)及一(yi)安裝(zhuang)在(zai)(zai)傳動(dong)軸(zhou)的(de)(de)(de)一(yi)端的(de)(de)(de)接地端；所述(shu)擇點測量(liang)機構包(bao)括一(yi)安裝(zhuang)在(zai)(zai)機座上的(de)(de)(de)第(di)二(er)驅(qu)動(dong)電機、一(yi)對安裝(zhuang)在(zai)(zai)所述(shu)第(di)二(er)驅(qu)動(dong)電機上的(de)(de)(de)第(di)二(er)傳動(dong)軸(zhou)、一(yi)安裝(zhuang)在(zai)(zai)機座上并與所述(shu)第(di)二(er)傳動(dong)軸(zhou)平行的(de)(de)(de)滑軌及若干(gan)安裝(zhuang)在(zai)(zai)滑軌上的(de)(de)(de)測點探針(zhen)。