在所(suo)有(you)應用產業中，半(ban)導(dao)體產業對靶材(cai)(cai)濺射薄膜(mo)的(de)品質要(yao)(yao)求(qiu)是苛刻的(de)。如今12英寸（300衄口）的(de)硅晶片已制造出(chu)來．而互連線的(de)寬度(du)卻(que)在減小。硅片制造商(shang)(shang)對靶材(cai)(cai)的(de)要(yao)(yao)求(qiu)是大尺(chi)寸、高(gao)純(chun)度(du)、低偏析和(he)(he)細晶粒(li)，金銅靶材(cai)(cai)廠家(jia)，這(zhe)就要(yao)(yao)求(qiu)所(suo)制造的(de)靶材(cai)(cai)具有(you)更好的(de)微觀結構。靶材(cai)(cai)的(de)結晶粒(li)子直徑和(he)(he)均勻性已被認(ren)為是影響薄膜(mo)沉積率的(de)關鍵因(yin)素。另外，薄膜(mo)的(de)純(chun)度(du)與靶材(cai)(cai)的(de)純(chun)度(du)關系極(ji)大，金銅靶材(cai)(cai)報價(jia)，過(guo)99.995%（4N5）純(chun)度(du)的(de)銅靶，或許(xu)能夠滿(man)足半(ban)導(dao)體廠商(shang)(shang)0.35pm工藝的(de)需(xu)求(qiu)，但是卻(que)無法滿(man)足如今0.25um的(de)工藝要(yao)(yao)求(qiu)。

金(jin)屬靶(ba)材就是高(gao)速(su)荷能粒子轟擊的目標材料。有金(jin)屬類(lei)(lei)、合金(jin)類(lei)(lei)、氧化(hua)物類(lei)(lei)等等。

簡單說的(de)話，例如(ru)(ru)：蒸發磁控濺(jian)射鍍膜是加熱蒸發鍍膜......鋁膜等。更換不(bu)(bu)(bu)同的(de)靶材（如(ru)(ru)鋁、銅、不(bu)(bu)(bu)銹鋼、鈦(tai)、鎳靶等），即可得(de)到(dao)不(bu)(bu)(bu)同的(de)膜系（如(ru)(ru)超硬、耐(nai)磨、防腐的(de)合金(jin)膜等）。

應用(yong)于(yu)顯示屏的(de)阻(zu)擋層(ceng)或調色(se)層(ceng)，筆記本電(dian)腦的(de)裝飾層(ceng)、電(dian)池的(de)封裝等.

什么是靶(ba)材綁(bang)定？靶(ba)材綁(bang)定的適用(yong)范圍、流(liu)程？

?綁(bang)定(ding)是指用(yong)焊(han)料將靶(ba)材與(yu)背靶(ba)焊(han)接起來(lai)。主要有三種(zhong)的方式(shi)：壓(ya)接、釬焊(han)和導電膠。

?1.壓(ya)接：采用壓(ya)條(tiao)，金(jin)銅(tong)靶材，一般為了(le)提高接觸的良好性，會增加(jia)石墨紙、Pb或In皮；

?2.釬焊：一般使用(yong)軟釬料的情況下，要(yao)求濺射功(gong)率小(xiao)于(yu)20W/cm2，釬料常用(yong)In、Sn、In-Sn；我司采用(yong)銦焊綁定技術(shu)。

?3.導電膠(jiao)(jiao)：采(cai)用的導電膠(jiao)(jiao)要(yao)耐高溫，厚度在0.02-0.05um。