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控制系統參數 :
(1)溫(wen)(wen)度控制(zhi)系統(tong):采用(yong)接觸式控溫(wen)(wen)方式,控溫(wen)(wen)無誤差,使用(yong)鉑電阻(zu)溫(wen)(wen)度傳感器;實時(shi)檢測控制(zhi)并(bing)顯示微波消解反應(ying)罐內的溫(wen)(wen)度和曲線;
*(2)溫(wen)度控制范圍:0~300℃;控溫(wen)精度:±0.5℃;
*(3)控溫(wen)能力(li):速(su)率升(sheng)溫(wen)功能。
*(4)壓(ya)力控(kong)制系統:采用非(fei)接(jie)觸(chu)式控(kong)壓(ya)方(fang)(fang)式,控(kong)壓(ya)無誤差(cha),多樣(yang)品組織搗碎機,是沿襲100年技術成熟(shu)的(de)(de)控(kong)壓(ya)方(fang)(fang)式。實時檢測(ce)控(kong)制并顯示微(wei)波(bo)消解反(fan)應(ying)罐內的(de)(de)壓(ya)力和曲線;
*(5)壓力控(kong)制范圍:范圍: 0~6MPa,0-10MPa.0-15MPa,任選。;控(kong)壓精度:0.01MPa;
*(6)壓(ya)力保護:超壓(ya)自動調(diao)整/停止微波發射并自動報警;
反應罐參數:
*(1)、額定溫度(du)≥300℃,gao壓力≥1500psi;
(2)、內罐材質(zhi):聚四氟(fu)材料;
(3)、防爆外套管材質(zhi):PEEK宇航材料;
*(6)、內罐反應(ying)容積:100ml;
*(7)、高壓消(xiao)解罐批處理量≥10個樣品/批
*(8)防爆(bao)膜(mo)片采用(yong)陶(tao)瓷(ci)壓(ya)緊(jin),陶(tao)瓷(ci)受熱(re)不變形,四氟受熱(re)變形,起(qi)不到防爆(bao)膜(mo)作用(yong),采用(yong)陶(tao)瓷(ci)件(jian)壓(ya)緊(jin)。
*(9)、消解罐工作(zuo)方式為360°同(tong)向(xiang)連續(xu)旋(xuan)轉(zhuan),微(wei)波(bo)均勻,保證各個樣品(pin)微(wei)波(bo)環境相同(tong),提高實驗結果的(de)一(yi)致性(xing)
該(gai)系(xi)列(lie)設(she)備(bei)用于(yu)破碎抗(kang)壓強度小于(yu)450MPa的各種礦石(shi)、巖石(shi)以及各類脆性(xing)物(wu)料。
顎式破碎機主要用于各種中(zhong)等硬度的巖石(shi)(shi)或(huo)礦(kuang)石(shi)(shi),是冶金(jin)、地質、建材(cai)、化工等行業實驗室和化驗室中(zhong)的重要設備。也可用于規模不大的礦(kuang)石(shi)(shi)破碎生產(chan)中(zhong)。
主(zhu)要有機(ji)架、偏(pian)心軸、動(dong)(dong)顎(e)(e)座、固定顎(e)(e)板(ban)座、調整偏(pian)心軸、襯板(ban)等組成(cheng) ;由電動(dong)(dong)機(ji)通過帶輪帶動(dong)(dong)偏(pian)心軸轉動(dong)(dong) ,動(dong)(dong)顎(e)(e)座隨著(zhu)偏(pian)心軸按照已調整好的軌跡進行運動(dong)(dong)時帶動(dong)(dong)著(zhu)動(dong)(dong)顎(e)(e)板(ban)運動(dong)(dong) ,并(bing)與(yu)相對的固定顎(e)(e)板(ban)座上固定顎(e)(e)板(ban)碰撞擠壓 ,從而將破碎腔內的物料(liao)按所需的要求予(yu)以破碎 。
排料口的(de)尺寸(cun)由(you)調整(zheng)偏(pian)(pian)心(xin)軸(zhou)上的(de)調整(zheng)座調節調整(zheng)偏(pian)(pian)心(xin)軸(zhou)的(de)位置 ,從而達到所(suo)需的(de)粒度 。
WGZ-AS智能濁度儀采用(yong)散射光原理,其標定溶(rong)液采用(yong)國際普遍采用(yong)的福爾(er)馬肼標準溶(rong)液。它是(shi)精密、智能化儀器,測(ce)量濁度線性好(hao),數值準確、可靠,操(cao)作方便。
本儀器(qi)適用(yong)于自來水(shui)廠、中水(shui)處(chu)理廠、游泳池水(shui)回用(yong)、食(shi)品飲料行業等。是水(shui)試驗(yan)室儀器(qi)。
技術參數
型號(hao):WGZ-200AS
測量范圍(NTU):0-200
校正點:4個
示值(zhi)誤(wu)差 ?:±6%(±2%F.S)
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