稀土礦(kuang)冶煉(lian)方法(fa)有兩種，即濕法(fa)冶金(jin)和(he)火法(fa)冶金(jin)。

濕法(fa)冶金屬(shu)化(hua)工冶金方式，全流程大多處于溶(rong)液、溶(rong)劑之中，如(ru)稀(xi)(xi)土(tu)精(jing)礦(kuang)的分(fen)(fen)解、稀(xi)(xi)土(tu)氧化(hua)物、稀(xi)(xi)土(tu)化(hua)合物、單一稀(xi)(xi)土(tu)金屬(shu)的分(fen)(fen)離(li)和提(ti)取過程就(jiu)是采用(yong)(yong)(yong)沉淀(dian)、結晶、氧化(hua)還原、溶(rong)劑萃取、離(li)子交換等(deng)化(hua)學分(fen)(fen)離(li)工藝過程。現應用(yong)(yong)(yong)較普遍的是溶(rong)劑萃取法(fa)，它是工業分(fen)(fen)離(li)高(gao)純(chun)(chun)單一稀(xi)(xi)土(tu)元素的通(tong)用(yong)(yong)(yong)工藝。濕法(fa)冶金流程復雜，產(chan)品純(chun)(chun)度高(gao)，該法(fa)生產(chan)成品應用(yong)(yong)(yong)面廣闊(kuo)。

使用電(dian)子導(dao)電(dian)性橡(xiang)(xiang)膠時，貴(gui)金(jin)屬靶材廠家，由于(yu)導(dao)電(dian)性填(tian)充劑添加(jia)量的變化都會引發電(dian)阻劇(ju)烈(lie)變化，所以存在電(dian)阻值(zhi)很(hen)難(nan)(nan)控制的問題(ti)。而且，由于(yu)橡(xiang)(xiang)膠中的導(dao)電(dian)性填(tian)充劑難(nan)(nan)以均勻分散，所以輥筒(tong)的圓周方(fang)向和寬度方(fang)向上的電(dian)阻值(zhi)不均勻。

對橡膠(jiao)組合物進(jin)行(xing)硫(liu)(liu)化處理(li)(li)的方(fang)法(fa)(fa)包括使用(yong)加(jia)壓(ya)(ya)裝置(zhi)和硫(liu)(liu)化處理(li)(li)槽的間(jian)歇(xie)式或(huo)連續式硫(liu)(liu)化法(fa)(fa)。用(yong)間(jian)歇(xie)式硫(liu)(liu)化法(fa)(fa)進(jin)行(xing)硫(liu)(liu)化處理(li)(li)制(zhi)造輥(gun)筒時(shi)，貴金屬靶材(cai)報價，由于端部(bu)和中(zhong)央部(bu)分會產生(sheng)壓(ya)(ya)力(li)和熱(re)傳遞差，所以電阻值不(bu)均勻。

平面顯示器(qi)（FPD)這些年來(lai)大幅沖擊以(yi)陰極(ji)射(she)線管(CRT)為主的(de)(de)電(dian)腦顯示器(qi)及電(dian)視機市(shi)(shi)場(chang)，貴金(jin)(jin)屬靶(ba)材工藝，亦(yi)將(jiang)帶(dai)動ITO靶(ba)材的(de)(de)技(ji)術與市(shi)(shi)場(chang)需求。如今的(de)(de)iTO靶(ba)材有(you)兩種(zhong)．一種(zhong)是采(cai)用(yong)納米狀態的(de)(de)氧化銦(yin)混合(he)后燒(shao)結，一種(zhong)是采(cai)用(yong)銦(yin)錫合(he)金(jin)(jin)靶(ba)材。銦(yin)錫臺(tai)金(jin)(jin)靶(ba)材可(ke)以(yi)采(cai)用(yong)直流反應濺(jian)射(she)制造(zao)ITO薄膜，但是靶(ba)表面會氧化而(er)影響(xiang)濺(jian)射(she)率，并且不易得到大尺寸(cun)的(de)(de)臺(tai)金(jin)(jin)靶(ba)材。如今一般采(cai)取方(fang)法生產ITO靶(ba)材，湖南(nan)貴金(jin)(jin)屬靶(ba)材，利用(yong)L}IRF反應濺(jian)射(she)鍍膜．它具有(you)沉積速(su)度快(kuai)．且能控(kong)制膜厚(hou)，電(dian)導率高(gao)，薄膜的(de)(de)一致性(xing)好(hao)，與基板的(de)(de)附著力強(qiang)等優(you)點。