在使(shi)用電子照相方法(fa)的(de)(de)打(da)印(yin)技術(shu)中，已經漸進實現高(gao)速打(da)印(yin)操作、高(gao)質(zhi)量圖像(xiang)形(xing)成、彩色(se)(se)像(xiang)形(xing)成、以及(ji)成像(xiang)裝置小型(xing)化，并且變得很(hen)普遍。色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)一直是這些改進的(de)(de)關鍵。為滿足上(shang)述需(xu)要，必須形(xing)成精(jing)細(xi)分配(pei)的(de)(de)色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)顆粒，使(shi)得色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)顆粒的(de)(de)直徑均(jun)一，并且使(shi)得色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)顆粒呈球(qiu)形(xing)。至于形(xing)成精(jing)細(xi)分配(pei)的(de)(de)色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)顆粒的(de)(de)技術(shu)，近(jin)已經開發(fa)出直徑不超過10nm的(de)(de)色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)和不超過5pm的(de)(de)色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)。至于使(shi)色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)呈球(qiu)形(xing)的(de)(de)技術(shu)，已經開發(fa)出球(qiu)形(xing)度99%以上(shang)的(de)(de)色(se)(se)粉(fen)(fen)(fen)(fen)(fen)。

磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)種類：金屬(shu)濺(jian)(jian)射(she)鍍膜(mo)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，合(he)金濺(jian)(jian)射(she)鍍膜(mo)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，純銀板材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)工藝，陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)鍍膜(mo)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，硼化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，碳化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，純銀板材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)誰家好(hao)，氟化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，氮化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，氧(yang)化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，硒化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，硅化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，硫(liu)化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，碲化(hua)物(wu)陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，其他陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，摻鉻一氧(yang)化(hua)硅陶(tao)(tao)瓷(ci)(ci)(ci)(ci)(ci)靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)（Cr-SiO），磷化(hua)銦靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)（InP），純銀板材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)，鉛靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)（PbAs），銦靶(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)(cai)(cai)（InAs）。

燒結(jie)法(fa)：?ITO靶(ba)材燒結(jie)制作法(fa)是在以(yi)銦(yin)錫氧(yang)化物共沉淀粉末或氧(yang)化銦(yin)和氧(yang)錫混(hun)合(he)粉末為(wei)原料(liao)，加入粘(zhan)結(jie)劑和分散劑混(hun)合(he)后(hou)，壓力成型，純銀板(ban)材廠(chang)家(jia)，脫脂，然后(hou)于1400℃---1600℃燒結(jie)。燒結(jie)法(fa)設備投入少(shao)，成本低(di)，產品密度高(gao)、缺氧(yang)率低(di)，尺寸(cun)大、但制造過程中對粉末的選擇性很(hen)強(qiang)。

ITO靶制備的(de)透明導電薄膜廣泛應(ying)用(yong)于數碼(ma)(ma)相機、投(tou)影電視、數碼(ma)(ma)顯示的(de)各種光學系統中，需求量(liang)都很(hen)大。