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日照微弧技術有限公司

主營(ying):微(wei)弧(hu)氧化(hua),微(wei)弧(hu)氧化(hua)技術,微(wei)弧(hu)氧化(hua)電源,微(wei)弧(hu)氧化(hua)廠家

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鎂合金微弧氧化表面要求-日照微弧技術-鎂合金微弧氧化

||| 產品編號:597392396                    更新時間:2025-05-19
日照微弧技術有限公司
  • 主營業(ye)務:微弧氧化,微弧氧化技術,微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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微(wei)弧氧化工(gong)藝的整流(liu)電源特(te)點:

操(cao)作方式:本控(kong)遠控(kong)操(cao)作模式可(ke)選擇;

輸出控制方(fang)式:直流(liu)、單極脈沖(chong)或(huo)雙極脈沖(chong)輸出控制模(mo)式可選擇

恒流恒壓、恒功率三種控制模式可選擇

軟啟動時間:軟啟動工作時間可在0-2005范圍內整定

整流方(fang)式:IGBT逆(ni)變軟開關整流,PWM脈沖步調制IGBT斬波(bo)

脈(mo)沖步調頻率范圍(wei):1000-8000Hz;

人(ren)機操(cao)作界面:PLC彩(cai)色觸摸屏

主控制器(qi):微弧氧化電(dian)源DSP微機數字觸發控制,PWM脈(mo)(mo)寬調節(jie)控制,脈(mo)(mo)沖移相分辨率≤1μ。

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微弧氧化技術優勢

1、采用堿性(xing)電解液,對環境污染小。

2、工(gong)藝流程簡單,鎂合金微弧氧化表面要求(qiu),前處理工(gong)序(xu)少,適于大規模(mo)自動化生(sheng)產。

3、允(yun)許(xu)溫(wen)度(du)變化范圍(wei)寬,電解(jie)液允(yun)許(xu)的溫(wen)度(du)范圍(wei)一般為10-70℃。

4、處(chu)理能(neng)力(li)(li)強(qiang)。工件的形(xing)狀可(ke)(ke)較復雜,鎂合金微弧氧化,且(qie)可(ke)(ke)處(chu)理部分內表(biao)面,對異(yi)形(xing)零件、孔洞、焊縫(feng)的可(ke)(ke)加工能(neng)力(li)(li)遠(yuan)遠(yuan)高于其(qi)他(ta)表(biao)面陶瓷化工藝。且(qie)對工件的修(xiu)補和重復加工能(neng)力(li)(li)投強(qiang)。

5、電源(yuan)模式(shi)一般采用交流或脈沖方式(shi),這種方式(shi)具有(you)較高能量,且生成的陶瓷膜(mo)性能比直流電源(yuan)的高。

微弧氧(yang)化膜(mo)層的性能(neng)能(neng)夠達到(dao)何種程度?

一般來講,微弧氧化(hua)膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)是瞬間高(gao)(gao)溫下(xia)生成(cheng)的內(nei)部致密的陶瓷層(ceng)(ceng),膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)均具有(you)良(liang)好的膜(mo)(mo)基(ji)結合力、硬(ying)度(du)(du)(du)、耐(nai)磨(mo)耐(nai)腐蝕特性(xing)、高(gao)(gao)的絕緣性(xing)及(ji)耐(nai)高(gao)(gao)溫氧化(hua)性(xing)能等(deng)。但是不(bu)同材料不(bu)同溶液不(bu)同工藝下(xia)制(zhi)備(bei)的膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)性(xing)能也(ye)有(you)差異。如,一般情(qing)況(kuang)下(xia),鋁(lv)(lv)表面制(zhi)備(bei)的膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)比鎂(mei)合金表面制(zhi)備(bei)的膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)具有(you)更(geng)高(gao)(gao)的硬(ying)度(du)(du)(du)和耐(nai)磨(mo)性(xing),因為從(cong)生成(cheng)物來看,氧化(hua)鋁(lv)(lv)硬(ying)度(du)(du)(du)及(ji)耐(nai)磨(mo)性(xing)均高(gao)(gao)于氧化(hua)鎂(mei),鎂(mei)合金微弧氧化(hua)著色,鋁(lv)(lv)表面氧化(hua)膜(mo)(mo)硬(ying)度(du)(du)(du)高(gao)(gao)可以(yi)達到HV3000。但是通常單純(chun)考慮這種極限性(xing)能并不(bu)可取,如單純(chun)提(ti)高(gao)(gao)膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)的硬(ying)度(du)(du)(du),可能需提(ti)高(gao)(gao)膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)厚度(du)(du)(du),降低(di)膜(mo)(mo)基(ji)結合力,對膜(mo)(mo)層(ceng)(ceng)整(zheng)體性(xing)能不(bu)利。

因此,一般很少單獨強(qiang)調某種性能。只是如果有特殊要求,可以(yi)提出,整(zheng)體加以(yi)調制(zhi),在滿足特殊需(xu)求的基(ji)礎上使膜層整(zheng)體具有良好性能。如,微(wei)弧氧化(hua) 鎂合金加工,某鎂合金需(xu)要耐蝕,可以(yi)根據需(xu)求對膜層厚度、溶液成分等進行調制(zhi),滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需(xu)求。

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