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微弧氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)處(chu)理形(xing)成的(de)(de)陶瓷(ci)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)膜,微弧氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)電源,與基體呈冶金(jin)結合,膜層(ceng)致密,具有良(liang)(liang)(liang)好的(de)(de)耐(nai)(nai)磨、耐(nai)(nai)蝕(shi)性(xing)能(neng)(neng)。 氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)膜的(de)(de)硬度(du)一般能(neng)(neng)達到600-1500HV(膜層(ceng)厚度(du)20-50μm),耐(nai)(nai)磨性(xing)能(neng)(neng)優于硬質陽極化(hua)(hua)(hua)膜及電鍍硬鉻。封孔后耐(nai)(nai)鹽霧試驗水平(ping)可達2000小時以上。該氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)膜還具有良(liang)(liang)(liang)好的(de)(de)絕緣性(xing),耐(nai)(nai)500V以上的(de)(de)高壓沖擊,且(qie)有效防止(zhi)電偶腐蝕(shi);氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)膜還具有良(liang)(liang)(liang)好的(de)(de)隔熱特(te)性(xing),是鋁合金(jin)活塞的(de)(de)首要選擇。
氧化時間對鋁合金微弧氧化效果(guo)的影響
1、隨(sui)著氧(yang)(yang)化時間的增(zeng)(zeng)加,微弧氧(yang)(yang)化電源報(bao)價(jia),氧(yang)(yang)化工業鋁型材厚度(du)增(zeng)(zeng)加,但有(you)極限氧(yang)(yang)化工業鋁型材厚度(du);
2、隨著氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)時(shi)間的增加,微(wei)弧(hu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)電源監控,工(gong)業(ye)鋁(lv)型材表面(mian)微(wei)孔密度(du)(du)降低,但粗(cu)糙(cao)度(du)(du)變(bian)大。如果氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)時(shi)間足夠長,達到(dao)溶(rong)解與沉積的動(dong)態平(ping)衡,微(wei)弧(hu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)電源類型,對工(gong)業(ye)鋁(lv)型材表面(mian)工(gong)業(ye)鋁(lv)型材代理有一定的平(ping)整作用,表面(mian)粗(cu)糙(cao)度(du)(du)反而(er)會減(jian)小。微(wei)弧(hu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)電源、微(wei)弧(hu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)生產(chan)線、微(wei)弧(hu)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)技(ji)術
微弧氧化抹的特點
? ? ?微(wei)弧氧化處理后的(de)鋁基表面陶瓷膜層(ceng)具(ju)(ju)有硬度高,耐蝕(shi)性(xing)強(qiang),絕(jue)緣性(xing)好,膜層(ceng)與基底金(jin)屬結合力強(qiang),并(bing)具(ju)(ju)有很好的(de)耐磨和耐熱沖擊等性(xing)能。微(wei)弧氧化的(de)合適放電(dian)區(qu)間較窄,要求對放電(dian)后的(de)電(dian)參數(shu)控制(zhi)比較好,大(da)電(dian)流、高電(dian)壓對供(gong)電(dian)電(dian)源(yuan)提出了高要求,由于對微(wei)弧氧化本質認識限(xian)制(zhi),使得電(dian)源(yuan)的(de)設(she)計及制(zhi)造仍停留在(zai)經驗(yan)摸(mo)索層(ceng)面上,帶(dai)有很大(da)的(de)盲(mang)目(mu)性(xing)。微(wei)弧氧化技術、微(wei)弧氧化生產線、微(wei)弧氧化電(dian)源(yuan)
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