x射線發生裝置-涂層應用

現代(dai)生活的(de)(de)每個環(huan)節都得益于涂層或薄(bo)(bo)膜(mo)技(ji)術(shu)(shu)(shu)(shu)。無(wu)論是集成電路芯片上的(de)(de)阻擋層薄(bo)(bo)膜(mo)還是鋁(lv)制飲料罐上的(de)(de)涂層，X射(she)線(xian)(xian)是研發(fa)，產品過程控制和不可缺少(shao)(shao)的(de)(de)分析技(ji)術(shu)(shu)(shu)(shu)。作為納米技(ji)術(shu)(shu)(shu)(shu)研究，低能x射(she)線(xian)(xian)發(fa)生裝置(zhi)多少(shao)(shao)錢(qian)，X射(she)線(xian)(xian)衍(yan)射(she)(XRD)和附屬(shu)技(ji)術(shu)(shu)(shu)(shu)被用于確定薄(bo)(bo)膜(mo)分子結構(gou)的(de)(de)性質。理(li)學的(de)(de)技(ji)術(shu)(shu)(shu)(shu)和經驗為涂層和薄(bo)(bo)膜(mo)測量提供(gong)各(ge)種無(wu)損(sun)分析解(jie)決(jue)方案。

x射線發生裝(zhuang)置-地質，礦產

在(zai)研(yan)究行星(xing)進(jin)程(cheng)和地球構(gou)造過程(cheng)中，地理學(xue)家們需要(yao)分(fen)析(xi)(xi)(xi)巖石(shi)和礦物樣品的(de)組成。X射(she)線(xian)衍(yan)射(she)儀(yi)分(fen)析(xi)(xi)(xi)技(ji)術如：小點激發，分(fen)布分(fen)析(xi)(xi)(xi)和無標定量(liang)分(fen)析(xi)(xi)(xi)，日漸成為地質研(yan)究及(ji)礦物學(xue)研(yan)究領域內(nei)的(de)主要(yao)儀(yi)器。X射(she)線(xian)衍(yan)射(she)儀(yi)(XRD)可定量(liang)測量(liang)相組成。X射(she)線(xian)衍(yan)射(she)數據的(de)Rietveld分(fen)析(xi)(xi)(xi)被認為是晶(jing)體相定量(liang)分(fen)析(xi)(xi)(xi)適合的(de)方法(fa)。技(ji)術和經驗為這些判定提供了一(yi)系列解決方案(an)。

x射線發生裝置檢測樣品(pin)時(shi)有哪些要求？

1、送樣者在測(ce)試X射(she)(she)線(xian)(xian)衍(yan)射(she)(she)之前(qian)，低能x射(she)(she)線(xian)(xian)發生裝置哪家好，請務必事先了解晶體(ti)學的基礎(chu)知識和X射(she)(she)線(xian)(xian)衍(yan)射(she)(she)的基本原理。為什么要用X射(she)(she)線(xian)(xian)衍(yan)射(she)(she)儀以及(ji)測(ce)試項(xiang)目（晶型(xing)、晶粒尺寸(cun)、結(jie)晶度、取向度、物相分析等）；

2、送樣前，請用簡單易(yi)記的(de)英文字(zi)母（如：A，B，C…）和數字(zi)（如：1，2，低能(neng)x射線發生裝置報(bao)價，3…）對樣品(pin)進行編號等.

3、粉末(mo)樣品：須充分研磨(mo)，黑龍江低能x射線發生裝置，需0.2克左右；

4、 片狀樣品(pin)：需有(you)一(yi)個大于5?5mm（佳為15?15mm）平(ping)整的測試面；

5、塊狀樣品：需有一個大于5?5mm（佳為(wei)15?15mm）平整的測試面，如不平整，可用砂紙輕輕磨平，無厚度要(yao)求；

6、纖維樣品：

a、取向度測試：樣品須疏理整齊，少需長約(yue)30mm，直徑約(yue)3mm一(yi)束纖(xian)維（大約(yue)圓(yuan)珠(zhu)筆芯大小的一(yi)束絲）；

b、常規測試、結晶(jing)度、晶(jing)粒(li)尺寸：樣(yang)品須充(chong)分(fen)剪碎(sui)，呈細(xi)粉(fen)末狀，需(xu)0.2克左右(大約(yue)一分(fen)錢(qian)的體(ti)積(ji))；

7、 液(ye)體樣品不能測試(shi)；