光(guang)譜膜厚儀的原理是(shi)什么?
光譜膜厚儀的原理主要基于光的干涉現象。當光線垂直入射到薄膜表面時,薄膜會對光線的反射和透射產生干涉,形成多重反射和透射波。這些波的相位差與薄膜的厚度密切相關。光譜膜厚儀通過測量這些多重反射和透射波之間.. 全文
問一下:反射率(lv)測試(shi)儀具有什么特點(dian)? 幫忙解答(da)一下
反射率測試儀可以作為礦石粉末反射率光譜測量,不透明薄膜反射率測量。 全文
熒光量子測量系統廠家要怎(zen)么進行合作(zuo)呢? 幫忙解答一下
一個好的熒光量子測量系統廠家必須有一定的規模,有自己的生產工廠,有自己的技術團隊,而市場上的小作坊就不能被稱為廠家。因為小作坊沒有很大的保障,也沒有技術專員。 全文
二氧化硅膜(mo)厚儀的測(ce)量原理是(shi)?
二氧化硅膜厚儀的測量原理主要基于光的干涉現象。當單色光垂直照射到二氧化硅膜層表面時,光會在膜層表面和膜層與基底的界面處發生反射。這兩束反射光在返回的過程中會發生干涉,即相互疊加,產生干涉條紋。干涉條紋.. 全文