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此(ci)外,使(shi)用(yong)混入了(le)導(dao)電(dian)(dian)(dian)(dian)性填充劑(ji)的電(dian)(dian)(dian)(dian)子導(dao)電(dian)(dian)(dian)(dian)性橡膠的導(dao)電(dian)(dian)(dian)(dian)輥,其電(dian)(dian)(dian)(dian)阻值與施(shi)加的電(dian)(dian)(dian)(dian)壓有關,存在電(dian)(dian)(dian)(dian)阻值不固定的問題。特別是采用(yong)碳黑作為導(dao)電(dian)(dian)(dian)(dian)性填充劑(ji)時,這(zhe)些傾向更明顯(xian)。
由于(yu)使用(yong)了電(dian)(dian)(dian)子(zi)導電(dian)(dian)(dian)性橡膠的導電(dian)(dian)(dian)輥,不論是(shi)采用(yong)間歇式(shi)制(zhi)法(fa)還(huan)是(shi)連續(xu)硫(liu)化(hua)(hua)處理法(fa),都存在(zai)電(dian)(dian)(dian)阻值不均勻的問題,金(jin)粒生(sheng)產加工,所(suo)以在(zai)數字(zi)化(hua)(hua)、彩色化(hua)(hua)等提高圖像質量的技術日新月異的今天(tian),金(jin)粒哪(na)家好,希望(wang)用(yong)離子(zi)導電(dian)(dian)(dian)性橡膠替代(dai)電(dian)(dian)(dian)子(zi)導電(dian)(dian)(dian)性橡膠。
金屬靶材就是高速荷能粒(li)子(zi)轟擊的(de)目標材料(liao)。有金屬類(lei)、合金類(lei)、氧化(hua)物類(lei)等等。
簡單說的(de)(de)話,例如(ru):蒸發磁(ci)控濺射鍍(du)膜(mo)是加熱蒸發鍍(du)膜(mo)......鋁(lv)膜(mo)等。更換不同的(de)(de)靶材(如(ru)鋁(lv)、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即(ji)可得(de)到不同的(de)(de)膜(mo)系(如(ru)超硬、耐磨(mo)、防腐的(de)(de)合(he)金膜(mo)等)。
應用于(yu)顯(xian)示屏(ping)的阻擋層或調色層,筆(bi)記本電(dian)(dian)腦的裝飾層、電(dian)(dian)池的封裝等.
濺(jian)射技(ji)術:濺(jian)射是制備(bei)薄膜材料(liao)的(de)(de)主要技(ji)術之一,金(jin)粒誰家好,它利用離(li)子(zi)源產生的(de)(de)離(li)子(zi),在(zai)真空中經過加速(su)聚集,而形成高(gao)速(su)度能的(de)(de)離(li)子(zi)束流,轟擊固體(ti)(ti)表(biao)面,離(li)子(zi)和固體(ti)(ti)表(biao)面原子(zi)發生動能交換,江西金(jin)粒,使固體(ti)(ti)表(biao)面的(de)(de)原子(zi)離(li)開固體(ti)(ti)并沉(chen)積在(zai)基底表(biao)面,被轟擊的(de)(de)固體(ti)(ti)是制備(bei)濺(jian)射法沉(chen)積薄膜的(de)(de)原材料(liao),稱(cheng)為濺(jian)射靶材。各種類型的(de)(de)濺(jian)射薄膜材料(liao)無(wu)論在(zai)半導體(ti)(ti)集成電路、太(tai)陽能光伏、記(ji)錄介質、平面顯(xian)示以及工件表(biao)面涂(tu)層(ceng)等方面都得到了廣泛的(de)(de)應用。
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