濺(jian)射(she)靶(ba)材(cai)(cai)的(de)要求(qiu)(qiu)較(jiao)傳統材(cai)(cai)料(liao)行業高，一般要求(qiu)(qiu)如(ru)，尺(chi)(chi)(chi)寸(cun)、平整(zheng)度(du)(du)、純度(du)(du)、各項(xiang)雜質含(han)量、密度(du)(du)、N/O/C/S、晶粒(li)(li)尺(chi)(chi)(chi)寸(cun)與缺陷控制；較(jiao)高要求(qiu)(qiu)或特(te)殊要求(qiu)(qiu)包含(han)：表面粗糙度(du)(du)、電(dian)阻值、晶粒(li)(li)尺(chi)(chi)(chi)寸(cun)均勻性、成份與組織均勻性、異物(wu)（氧化物(wu)）含(han)量與尺(chi)(chi)(chi)寸(cun)、導(dao)磁(ci)(ci)率、超(chao)高密度(du)(du)與超(chao)細晶粒(li)(li)等(deng)等(deng)。磁(ci)(ci)控濺(jian)射(she)鍍膜是(shi)一種新型的(de)物(wu)相鍍膜方式，哪家有(you)銀(yin)環，就是(shi)用電(dian)子系統把(ba)電(dian)子發射(she)并聚(ju)焦在被鍍的(de)材(cai)(cai)料(liao)上，使其被濺(jian)射(she)出(chu)來的(de)原(yuan)子遵循動量轉換原(yuan)理以較(jiao)高的(de)動能脫離(li)材(cai)(cai)料(liao)飛向(xiang)基片淀積成膜。這(zhe)種被鍍的(de)材(cai)(cai)料(liao)就叫(jiao)濺(jian)射(she)靶(ba)材(cai)(cai)。 濺(jian)射(she)靶(ba)材(cai)(cai)有(you)金屬，合(he)金，上海(hai)銀(yin)環，陶瓷化合(he)物(wu)等(deng)。

稀(xi)(xi)(xi)土(tu)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)制取(qu)(preparation of rare earth metal)，將稀(xi)(xi)(xi)土(tu)化(hua)合(he)物(wu)還原(yuan)成金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)的過程。還原(yuan)所制得的稀(xi)(xi)(xi)土(tu)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)產(chan)品含稀(xi)(xi)(xi)土(tu)95%～99%，銀環(huan)價格(ge)，主要(yao)用作鋼(gang)鐵、有色金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)及其合(he)金(jin)(jin)的添加劑，以(yi)及用作生(sheng)產(chan)稀(xi)(xi)(xi)土(tu)永磁材料、貯氫材料等功能材料的原(yuan)料。瑞典人穆桑(sang)德爾(C．G．Mosander)自1826年(nian)先制得金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)以(yi)來，銀環(huan)廠，現已(yi)能生(sheng)產(chan)全部(bu)稀(xi)(xi)(xi)土(tu)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)，產(chan)品純度達到99.9%。常用的方法有金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)熱還原(yuan)法制取(qu)稀(xi)(xi)(xi)土(tu)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu)和熔鹽電解法制取(qu)稀(xi)(xi)(xi)土(tu)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)(shu) 。

濺(jian)射(she)技術：濺(jian)射(she)是(shi)(shi)制備薄膜(mo)材(cai)料(liao)(liao)的(de)主要(yao)技術之一，它利用離子(zi)源產(chan)生的(de)離子(zi)，在真(zhen)空中經(jing)過(guo)加速(su)聚集，而形成高速(su)度能(neng)(neng)的(de)離子(zi)束流，轟(hong)擊固體(ti)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)，離子(zi)和固體(ti)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)原子(zi)發生動能(neng)(neng)交換，使固體(ti)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)的(de)原子(zi)離開(kai)固體(ti)并沉積(ji)在基底表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)，被轟(hong)擊的(de)固體(ti)是(shi)(shi)制備濺(jian)射(she)法沉積(ji)薄膜(mo)的(de)原材(cai)料(liao)(liao)，稱為濺(jian)射(she)靶(ba)材(cai)。各種類型(xing)的(de)濺(jian)射(she)薄膜(mo)材(cai)料(liao)(liao)無論在半導體(ti)集成電路、太陽(yang)能(neng)(neng)光伏(fu)、記錄介質、平面(mian)(mian)(mian)顯示以及工件(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)涂(tu)層等方面(mian)(mian)(mian)都(dou)得到(dao)了(le)廣泛的(de)應用。