液(ye)(ye)氬(ya)(ya)用(yong)于(yu)特(te)殊場所的(de)(de)滅火(huo)氣(qi)體；重要的(de)(de)玻璃專柜中(zhong)的(de)(de)填充(chong)保護氣(qi)體；使(shi)用(yong)特(te)定的(de)(de)方法(fa)可(ke)以使(shi)氬(ya)(ya)氣(qi)離子(zi)化并且發光，用(yong)于(yu)等(deng)離子(zi)燈和粒子(zi)物(wu)理學中(zhong)的(de)(de)能量器；液(ye)(ye)氬(ya)(ya)沸(fei)點(dian)- 185.9℃。熔(rong)點(dian)-189.2℃。臨界溫度-122.3C，臨界壓力4. 893MPa。溶于(yu)。不燃燒，***，無腐蝕性。液(ye)(ye)氬(ya)(ya)貯槽使(shi)用(yong)前(qian)的(de)(de)準備工作閥門儀表的(de)(de)檢(jian)查(cha)：在充(chong)入低溫液(ye)(ye)體前(qian)要認真檢(jian)查(cha)閥門是否處于(yu)正確的(de)(de)啟閉狀態，儀表指示是否正確否則應予以調(diao)整(zheng)。

液氬 無色、無味(wei)、無臭(chou)、***的惰(duo)性(xing)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)，化學(xue)性(xing)質(zhi)(zhi)極不活潑。在(zai)(zai)21.1℃和(he)101. 3kPa下(xia)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)相(xiang)對密度(du)1.38。氣(qi)體(ti)(ti)(ti)密度(du)1- 650kg.m-3 (21.1℃，101. 3kPa)，液體(ti)(ti)(ti)密度(du)1394.Okg．m-3(一185.9℃，101. 3kPa)。高純氬在(zai)(zai)半導體(ti)(ti)(ti)工(gong)業中用(yong)作生產(chan)高純硅和(he)鍺晶體(ti)(ti)(ti)的保護氣(qi)體(ti)(ti)(ti)；可(ke)用(yong)作系統清洗、屏蔽和(he)增(zeng)壓用(yong)惰(duo)性(xing)氣(qi)體(ti)(ti)(ti)；在(zai)(zai)化學(xue)氣(qi)相(xiang)沉積(ji)、濺射和(he)退火等工(gong)藝中有所應(ying)用(yong)。液氬利(li)用(yong)氬的惰(duo)性(xing)，向熔池鋼水中吹氬，可(ke)使成分均勻，清除夾雜物質(zhi)(zhi)，脫除有害氣(qi)體(ti)(ti)(ti)，調(diao)節溫度(du)，提高鋼的質(zhi)(zhi)量。

液(ye)(ye)氬(ya)(ya)(ya)(ya)采用(yong)空氣分離提取氬(ya)(ya)(ya)(ya)，高純(chun)氬(ya)(ya)(ya)(ya)氣，即將液(ye)(ye)化的(de)空氣進行精餾，得到(dao)(dao)粗氬(ya)(ya)(ya)(ya)，粗氬(ya)(ya)(ya)(ya)經進一步提純(chun)可得到(dao)(dao)高純(chun)氬(ya)(ya)(ya)(ya)。高純(chun)液(ye)(ye)氬(ya)(ya)(ya)(ya)極易揮發(fa)，在使用(yong)的(de)過程中要保持密封(feng)的(de)，將其放置在通風條件(jian)良好(hao)的(de)地方，防(fang)止其泄露后產(chan)生的(de)氣體散發(fa)到(dao)(dao)工作環(huan)境中。液(ye)(ye)氬(ya)(ya)(ya)(ya)罐只用(yong)于盛裝液(ye)(ye)氬(ya)(ya)(ya)(ya)，不允許盛裝其他(ta)液(ye)(ye)體。使用(yong)，打(da)開液(ye)(ye)氬(ya)(ya)(ya)(ya)到(dao)(dao)汽化器(qi)的(de)閥門(men)，向汽化器(qi)供液(ye)(ye)，調節穩壓(ya)閥到(dao)(dao)要求的(de)壓(ya)力，向外輸送氮氣。